浙江四氟化碳超高纯气体半导体制造

上海弥正超高纯氢气（6N 级纯度），聚焦光伏产业 N 型 TOPCon 与 HJT 电池制造，凭借 “高纯度 + 高稳定性” 助力高效太阳能电池生产。通过膜分离与催化脱氧组合工艺提纯，将杂质总含量控制在 1ppb 以内，其中一氧化碳、二氧化碳等有害杂质含量≤0.05ppb，避免对电池转换效率造成负面影响。在多晶硅还原环节，超高纯氢气作为还原介质，能准确将三氯氢硅还原为高纯度硅料；在电池片退火工艺中，可有效提升硅片结晶质量，降低缺陷密度。采用高压无缝钢瓶包装，配备防泄漏阀门与压力稳定装置，确保输送过程中压力波动≤±0.02MPa。某光伏企业应用后，单晶硅片转换效率提升 0.5%，多晶硅还原能耗降低 8%，年节约生产成本超 300 万元，且气体各项指标符合中国光伏行业协会（CPIA）标准，适配光伏产业向高效化、规模化发展的趋势。超高纯一氧化碳纯度≥99.99%，是化学合成与材料制备的原料气。浙江四氟化碳超高纯气体半导体制造

上海弥正超高纯氨气（6N 级纯度），专为 OLED、Micro-LED 等新一代显示技术打造，是显示面板化学气相沉积（CVD）工艺的重心原料。通过催化分解与吸附提纯工艺，将水、油、颗粒物等杂质含量控制在 0.5ppb 以下，其中金属杂质（铁、铜、钾等）含量≤0.01ppb，避免影响面板像素发光效率与寿命。在 OLED 面板制造中，超高纯氨气作为氮源，参与有机发光层与电子传输层的沉积过程，直接影响像素点的发光均匀性；在 LCD 面板生产中，可用于硅 nitride 薄膜制备，提升面板抗划伤性能与稳定性。采用耐腐蚀特用气瓶包装，配备高精度流量控制系统，支持连续 24 小时稳定输送，流量调节范围 1-50L/min。某显示面板企业应用后，OLED 面板像素发光均匀度提升 3%，不良品率从 1.2% 降至 0.15%，面板使用寿命延长 10%，完全适配 8.6 代及以上高世代线的大规模生产需求，助力显示产业向高清化、柔性化升级。上海丙烯超高纯气体核磁共振成像超高纯氯气用于水处理消毒，高效杀灭细菌与微生物。

上海弥正构建从生产到终端使用的全链条超洁净保障体系，通过包装与输送系统，确保超高纯气体全程无二次污染。气瓶选用 316L 不锈钢材质，经一体锻造与电解抛光处理，内壁粗糙度≤0.1μm，无卫生死角，避免杂质吸附与气体污染；阀门采用进口超洁净隔膜阀，密封性能优异，泄漏率≤1×10⁻⁹Pa・m³/s，确保气体储存过程中无泄漏与纯度衰减。输送管道采用 316L 不锈钢无缝管，经钝化与脱脂处理，管道连接采用卡套式接头，无螺纹污染风险，输送过程中气体颗粒杂质含量≤1 颗 /μm。提供定制化的管道铺设与系统集成服务，根据客户车间布局与设备需求，设计比较好输送路径，减少管道阻力与气体滞留；配备在线纯度监测装置，实时监控输送过程中气体纯度变化，一旦出现异常立即自动切断供应，保障终端气体品质。某电子企业应用该系统后，气体终端使用纯度达标率 100%，设备因气体污染导致的故障率下降 80%，大幅提升生产连续性。

上海弥正深耕国产超高纯气体研发与生产，打破国际巨头在品类的垄断，为半导体产业链自主可控提供关键材料支撑。针对国内高度依赖进口的 7N 级电子级氟化物、硅烷等品类，公司通过自主研发攻克重心提纯技术，实现规模化量产，产品纯度达到国际先进水平，杂质控制精度进入 ppt 级别，并成功通过中芯国际、长江存储等头部晶圆厂的验证认证。相较于进口产品，公司产品在供应响应速度、成本控制及技术服务方面更具优势，可实现订单 48 小时内快速响应，交货周期缩短 50%，成本降低 20-30%。积极参与国家 “十四五” 新材料产业发展规划重点项目，推动超高纯气体国家标准的修订与完善，目前已主导或参与 3 项行业标准的制定。某半导体企业使用其国产替代型超高纯三氟化氮后，不仅摆脱了对进口气体的依赖，还将相关工艺的材料成本降低 25%，供应链稳定性明显增强，为实现芯片国产化提供了有力保障。超高纯氘气（纯度 99.999%）用作核磁共振成像的造影气体。

上海弥正超高纯硅烷（5N 级纯度），是半导体化学气相沉积（CVD）与光伏薄膜电池制造的**原料，以 “高纯度 + 高稳定性” 助力薄膜制备。采用络合反应与吸附提纯工艺，将杂质含量控制在 1ppb 以内，其中金属杂质与颗粒物杂质均≤0.1ppb，避免影响薄膜沉积质量。在半导体制造中，用于制备多晶硅、二氧化硅等薄膜，薄膜均匀性与致密度优异；在光伏产业中，用于薄膜太阳能电池的硅基薄膜沉积，提升电池转换效率。采用特用耐腐蚀气瓶包装，配备防爆阀门与压力监测装置，储存与运输过程中严格控制温度与压力，避免气体分解。某半导体企业应用后，薄膜沉积均匀性提升 4%，芯片电性能稳定性改善；某光伏企业使用后，薄膜电池转换效率提升 0.6%，薄膜附着力增强，完全满足半导体与光伏产业的先进制程要求。超高纯砷烷（杂质≤0.5ppm）适配化合物半导体制造，优化器件性能。浙江四氟化碳超高纯气体半导体制造

超高纯氟化氢（杂质≤0.1ppm）用于半导体晶圆清洗，去除表面污染物。浙江四氟化碳超高纯气体半导体制造

上海弥正针对不同芯片制程需求，提供电子级超高纯气体定制服务，从纯度等级、杂质控制到供应方式均实现准确适配。可根据客户工艺要求，定制 5N-9N 级不同纯度的气体产品，其中 7N 级以上超高纯气体金属杂质含量可控制在 0.001ppb 以下，完全满足 7nm 及以下先进制程的严苛要求。针对特定工艺环节，准确控制目标杂质含量，如光刻工艺用气体可将碳氢化合物杂质控制在 0.05ppb 以下，避免影响光刻精度；掺杂工艺用气体可准确调控掺杂元素浓度，确保芯片电性能稳定。提供 “瓶装 + 管道” 双供应模式，小批量生产采用高压气瓶供应，大批量连续生产采用管道输送，输送系统可与客户生产设备无缝对接。配备专业技术团队，提供工艺适配咨询、气体使用培训与设备调试服务，帮助客户优化气体使用方案。某先进制程芯片企业应用定制化气体后，芯片制程良率提升 3.5%，工艺调整周期缩短 40%，成为客户工艺升级的重心合作伙伴。浙江四氟化碳超高纯气体半导体制造

上海弥正气体有限公司汇集了大量的优秀人才，集企业奇思，创经济奇迹，一群有梦想有朝气的团队不断在前进的道路上开创新天地，绘画新蓝图，在上海市等地区的电工电气中始终保持良好的信誉，信奉着“争取每一个客户不容易，失去每一个用户很简单”的理念，市场是企业的方向，质量是企业的生命，在公司有效方针的领导下，全体上下，团结一致，共同进退，**协力把各方面工作做得更好，努力开创工作的新局面，公司的新高度，未来上海弥正气体供应和您一起奔向更美好的未来，即使现在有一点小小的成绩，也不足以骄傲，过去的种种都已成为昨日我们只有总结经验，才能继续上路，让我们一起点燃新的希望，放飞新的梦想！