锂电池生产过程中，电解液配置、电极片涂布以及电芯清洗等环节对水质要求极为严格。微量的水分、金属离子和有机物都会影响锂电池的性能和安全性，导致电池容量下降、自放电率增加甚至引发安全事故。合鑫为某锂电池企业设计的 20T/H 纯水系统，采用 “UF 超滤 + 双级反渗透 + EDI + 抛光混床” 工艺，产水电阻率达到 18.2MΩ・cm，氯离子＜0.1ppb，TOC＜3ppb。设备配备防爆型电控系统，适应锂电池车间的特殊安全环境。自设备投产以来，该企业锂电池的一致性和稳定性大幅提升，产品循环寿命延长 10%，市场占有率进一步提高。CEDI 连续除盐，确保水质稳定如一。北京纯水设备生产
在电子工业应用中，电子工业对纯水水质要求极高，微量杂质都会影响电子元器件性能和质量。纯水设备为电子芯片制造、电路板生产等环节提供超纯水，用于清洗、蚀刻等工艺，避免杂质残留导致短路、漏电等问题，提高产品良品率，降低生产成本，还用于电子设备冷却防止结垢。合鑫水处理科技针对电子工业需求，推出高精度纯水设备，配备多级过滤和深度除盐系统，可有效去除水中颗粒物质、重金属、有机物等。设备采用模块化设计，便于根据生产规模扩展和升级，且具备实时水质监测和智能控制系统，确保水质持续稳定达标。某大型电路板厂使用合鑫科技的纯水设备后，生产出的电路板良品率从 88% 提升至 95%，年节约成本超百万元。北京纯水设备生产离子交换树脂，助力合鑫离子交换纯水设备净化水质。
半导体封装测试环节中，芯片清洗、引线键合、塑封等工序对水质要求极高，微小的杂质颗粒都可能导致芯片短路或性能下降。合鑫为某半导体封装企业定制的 15T/H 纯水设备，采用 “预处理 + 双级反渗透 + EDI+0.1μm 终端过滤” 工艺，产水电阻率≥16MΩ・cm，颗粒度（≥0.1μm）＜30 个 /ml，TOC＜8ppb。设备配备的高精度在线监测系统，可实时监控水质变化，并自动调整运行参数。该企业引入设备后，封装产品的良品率从 93% 提升至 98%，每年减少因水质问题导致的损失超 500 万元，增强了企业在半导体封装领域的竞争力。
医疗器械生产对水质的要求符合医用标准，以确保产品的安全性和有效性。无论是手术器械的清洗消毒，还是医用高分子材料的生产，都需要使用高质量的纯水。合鑫为某医疗器械企业定制的 15T/H 纯水设备，采用 “预处理 + 双级反渗透 + EDI + 臭氧杀菌 + 0.22μm 终端过滤” 工艺，产水微生物＜10CFU/100ml，内＜0.25EU/ml，电导率＜5μS/cm。设备管道采用卫生级不锈钢材质，配备 CIP 自动清洗系统，防止微生物滋生。该企业使用后，医疗器械的合格率提升至 99.5%，顺利通过 ISO 13485 医疗器械质量管理体系认证。无需酸碱再生，合鑫 EDI 纯水设备环保又便捷。
纯水设备原理解析方面，其通过反渗透、离子交换、超滤等多种技术协同工作制备纯水。反渗透膜利用半透性原理，在压力驱动下，水分子通过，截留无机盐、重金属离子、有机物等杂质；离子交换树脂去除水中阴阳离子；超滤拦截大分子物质。这些技术相互配合，有效去除水中各类杂质，使出水达高纯度标准。东莞市合鑫水处理科技有限公司深入研究各制水技术，自主研发的纯水设备采用进口高性能反渗透膜，脱盐率高达，结合优化后的离子交换和超滤工艺，确保制水效率和水质稳定性。技术团队还能根据不同水源水质，灵活调整设备工艺参数实现精确制水。如某电子芯片制造企业原水杂质多，采用合鑫科技纯水设备后，出水电阻率稳定在18MΩ・cm以上，满足芯片生产对超纯水的严苛要求，产品良品率提升15%。 超滤预处理，减轻反渗透膜污染。湖北化工厂纯水设备
组合设备发挥优势，合鑫产水满足高要求。北京纯水设备生产
合鑫水处理科技不断致力于纯水设备的技术创新，与国内多所高校和科研机构开展合作，共同研发新技术、新工艺。公司在反渗透膜技术、EDI技术、水质监测技术等方面取得了多项成果，并将这些成果应用于纯水设备的升级改造中。例如，公司研发的新型抗污染反渗透膜，抗污染能力比传统膜元件提高了50%，使用寿命延长了2倍，为用户带来了更好的使用体验和经济效益。在生物制药行业，合鑫纯水设备为生物制品的生产提供了关键的水质保障。生物制药过程对水质的微生物和内要求极高，合鑫纯水设备通过采用先进的消毒技术和精密的过滤系统，能够有效去除水中的微生物和内，确保水质符合生物制药的要求。设备还具备完善的验证文件，帮助企业顺利通过FDA、EMA等国际药品监管机构的认证。 北京纯水设备生产
