东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 定位技术，在智慧园区建设中得到综合应用，提升园区管理效率与智能化水平。在智慧园区中，RPS 可实现人员、车辆、设备的实时定位管理，通过终端设备可快速查询目标位置，提升调度效率；在安防领域，RPS 可监测人员进出权限，实现区域入侵报警，提升园区安全性。RPS 定位技术与园区物联网平台联动，可实现能耗管理、环境监测等功能的智能触发，如根据人员分布调节照明、空调等设备。该 RPS 智慧园区解决方案具备良好的扩展性，可根据园区规模与需求进行功能升级；通过大数据分析，可优化园区资源配置，降低运营成本。目前，RPS 定位技术已应用于多个智慧园区项目，成为园区智能化建设的中心 RPS 技术支撑。远程等离子的处理作用，是非常轻微的刻蚀，有一定的活性作用，主要与腔室内部的残余气体发生作用。江西半导体RPS价格
服务于航空航天和电动汽车的SiC/GaN功率模块，其散热能力直接决定了系统的输出功率和寿命。功率芯片与散热基板（如DBC）之间的界面热阻是散热路径上的关键瓶颈。RPS远程等离子源应用领域在此环节通过表面活化来优化界面质量。在焊接或烧结前，使用RPS对芯片背面和DBC基板表面进行清洗和活化，能彻底去除有机污染物和弱边界层，并大幅提高表面能。这使得液态焊料或银烧结膏在界面处能实现充分的润湿和铺展，形成致密、均匀且空洞率极低的连接层。一个高质量的连接界面能明显 降低热阻，确保功率器件产生的热量被快速导出，从而允许模块在更高的功率密度和更恶劣的温度环境下稳定运行，满足了车规级AEC-Q101和航空AS9100等严苛标准的要求。江西半导体RPS价格用于光伏PERC电池的背钝化层沉积前表面活化。
RPS远程等离子源在功率器件制造中的可靠性提升：功率器件（如GaN或SiC半导体）对界面质量极为敏感。污染会导致漏电流或击穿电压下降。RPS远程等离子源提供了一种温和的清洁方法，去除表面氧化物和金属杂质，而不引入缺陷。其均匀的处理确保了整个晶圆上的电性能一致性。在高温工艺中，RPS远程等离子源还能用于钝化层沉积前的表面准备。随着电动汽车和可再生能源的普及，RPS远程等离子源帮助提高功率器件的可靠性和寿命。纳米材料（如石墨烯或量子点）对表面污染极为敏感。RPS远程等离子源可用于制备超洁净基板，或对纳米结构进行精确修饰。其可控的化学特性允许选择性去除特定材料，而不损坏底层结构。在催化研究中，RPS远程等离子源还能活化纳米颗粒表面，增强其反应性。通过提供原子级清洁环境，RPS远程等离子源推动了纳米科技的前沿研究。
RPS远程等离子源是一款基于电感耦合等离子体技术的自成一体的原子发生器，它的功能是用于半导体设备工艺腔体原子级别的清洁，使用工艺气体三氟化氮（NF3）/O2，在交变电场和磁场作用下，原材料气体会被解离，从而释放出自由基，活性离子进入工艺室与工艺室上沉积的污染材料（SIO/SIN）或者残余气体（H2O、O2、H2、N2）等物质产生化学反应，聚合为高活性气态分子经过真空泵组抽出处理腔室，提高处理腔室内部洁净度；利用原子的高活性强氧化特性，达到清洗CVD或其他腔室后生产工艺的目的，为了避免不必要的污染和工作人员的强度和高风险的湿式清洗工作，提高生产效率。远程等离子工作时，本身的镀膜工艺是不工作的，没有直接接触有机发光材料，就不会对有机发光材质造成损伤。
东莞市晟鼎精密仪器有限公司推出 RPS 快速模具与 3D 打印的协同应用方案，整合两种技术优势，为客户提供更高效的生产解决方案。在产品研发初期，通过 RPS 3D 打印快速制作样品，进行外观与结构验证；当样品验证通过后，利用 RPS 快速模具进行小批量生产，满足市场测试需求。RPS 3D 打印具备快速成型、设计自由度高的优势，可制作复杂结构样品；RPS 快速模具则具备生产效率高、零件质量好的特点，可实现接近量产标准的小批量生产。两种技术的协同应用，实现了从样品研发到小批量生产的无缝衔接，大幅缩短了产品上市周期。该 RPS 协同应用方案已应用于智能装备、医疗设备等多个领域，成为企业产品研发与生产的高效 RPS 组合方案。与传统等离子体源不同的是，RPS 通常不直接接触要处理的表面，而是在一定距离之外产生等离子体。国内RPS光伏设备清洗
RPS避免了传统等离子体源直接接触处理表面可能带来的热和化学损伤。江西半导体RPS价格
PS远程等离子源在生物芯片制造中的创新应用在微流控芯片键合工艺中，RPS远程等离子源通过O2/N2混合气体处理PDMS表面，将水接触角从110°降至30°，明显改善了亲水性。在硅基生物传感器制造中，采用NH3/H2远程等离子体功能化表面，将抗体固定密度提升至1012/cm²量级。实验数据显示，经RPS远程等离子源处理的生物芯片，检测灵敏度提升两个数量级，信噪比改善至50:1。RPS远程等离子源在光学器件制造中的精密加工在AR眼镜波导镜片制造中，RPS远程等离子源实现了纳米级精度的表面处理。通过CF4/O2远程等离子体刻蚀二氧化硅波导层，将侧壁粗糙度控制在1nmRMS以下。在红外光学器件制造中，采用H2/Ar远程等离子体清洗锗晶片，将表面颗粒污染降至5个/平方厘米以下，使光学透过率提升至99.5%。江西半导体RPS价格
