东莞市晟鼎精密仪器有限公司推出的 RPS 远程等离子源，是半导体先进制程中的关键中心设备。RPS 采用电感耦合等离子体技术，通过单独腔室生成高密度等离子体，经远程传输区筛选后，只让中性自由基进入主工艺腔，从根源避免离子轰击对晶圆的物理损伤。在 5nm 以下节点芯片制造中，RPS 展现出优越的工艺适配性，无论是 FinFET 还是 GAA 晶体管加工，都能精细控制侧壁粗糙度与晶格缺陷。RPS 支持 Ar、O₂、NF₃等多种工艺气体配比调节，可实现 SiO₂与 SiN 的刻蚀选择比超过 100:1，满足高深宽比通孔的均匀加工需求。晟鼎精密的 RPS 设备在 300mm 晶圆处理中，能将刻蚀均匀性控制在 ±2% 以内，长时间运行稳定性强，为半导体量产提供可靠保障，成为逻辑芯片、存储器件制造中的推荐 RPS 解决方案。晟鼎RPS有主动网络匹配技术:可对不同气体进行阻抗匹配，使得等离子腔室获得能量。湖南国产RPS型号
东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 基准点系统，是保障汽车零部件装配一致性的中心技术。在汽车生产过程中，不同批次、不同供应商的零部件需实现精细装配，RPS 通过统一的定位点标准，确保零部件在装配环节的定位统一。RPS 定位点由 3 个主定位点和若干辅助定位点组成，通过 “3-2-1 定位原则” 限制零部件的 6 个自由度，避免因定位误差导致的装配偏差。在总装车间，RPS 检测设备可快速验证零部件的定位精度，及时发现超差产品，避免不合格零部件流入装配环节。晟鼎精密的 RPS 系统可与汽车生产线上的自动化设备联动，实现零部件装配的自动化定位与检测，提升装配效率。通过 RPS 技术的应用，汽车车身间隙均匀性明显提升，零部件干涉问题大幅减少，成为汽车制造企业提升产品品质的中心 RPS 解决方案。湖南RPScvd腔体清洗远程等离子体（RPS）对真空腔体进行微处理，达到去除腔体内部水残留气体，减少残余气体量目的。
东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 快速模具技术，成为新产品研发的 “加速器”，帮助企业缩短研发周期、降低研发成本。在产品设计初级阶段，RPS 通过 3D 打印或 CNC 加工快速制作样品，供设计团队进行外观与结构检验；在功能性测试阶段，RPS 采用与设计材料一致的 CNC 加工试制零件，确保测试结果的准确性；在小批量试产阶段，RPS 快速模具可快速生产接近量产标准的零件，验证市场反馈。RPS 的 ERP 特用软件实现了研发项目的全流程管控，从数据接收、工艺规划到生产交付，每个环节都可实时追踪。通过 RPS 快速模具技术，新产品从研发到上市的时间可缩短 30% 以上，研发成本降低 20% 左右。目前，RPS 已服务于智能装备、机器人等多个领域的新产品研发，成为企业提升市场竞争力的中心 RPS 解决方案。
东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 定位技术，为智能家居系统提供了精细的用户位置识别能力，实现个性化服务的智能触发。RPS 通过蓝牙信标、Wi-Fi 指纹等定位方式，可精细识别用户在室内的位置，当用户进入不同房间时，智能家居系统可自动调节灯光亮度、空调温度等设备参数。RPS 定位响应速度快，可实时跟踪用户移动轨迹，确保服务切换的连贯性；定位精度高，避免因位置识别误差导致的服务误触发。该 RPS 定位系统具备良好的扩展性，可与多种智能家居设备联动，支持个性化场景定制，满足不同用户的生活需求。在数据安全方面，RPS 采用加密传输技术，保护用户隐私信息不被泄露。通过 RPS 技术的应用，智能家居的智能化水平与用户体验大幅提升，成为智能家居领域的重要 RPS 技术应用。为器官芯片制造提供细胞培养基底功能化。
东莞市晟鼎精密仪器有限公司推动 RPS 检具向智能化升级，引入数字孪生技术，实现检测流程的全面优化。RPS 数字孪生模型可在虚拟环境中模拟检具与零部件的定位检测过程，预测定位偏差，优化检具设计方案。在实际检测中，RPS 检具内置位移传感器，可实时采集定位点的位移数据，采样频率≥100Hz，通过智能算法分析检测结果，生成详细的偏差报告。RPS 智能化检具支持与工厂 MES 系统联动，实现检测数据的实时上传与分析，帮助管理人员掌握生产质量状况。通过机器学习算法，RPS 检具可分析历史检测数据，建立定位偏差预测模型，实现预防性质量控制。该 RPS 智能化检具已应用于汽车、智能装备等行业的生产线，大幅提升了检测效率与质量控制水平。RPS为了避免不必要的污染和工作人员的强度和高风险的湿式清洗工作，提高生产效率。广东远程等离子电源RPS价格
远程等离子的处理作用，是非常轻微的刻蚀，有一定的活性作用，主要与腔室内部的残余气体发生作用。湖南国产RPS型号
东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 远程等离子体源，通过灵活的参数调控实现多场景工艺适配。RPS 设备可调节射频功率、气体配比、反应时间等关键参数，针对不同材料与加工需求定制工艺方案。在半导体刻蚀工艺中，RPS 通过优化 CF₄/O₂气体配比，实现 SiO₂与 SiN 的高选择性刻蚀；在工艺腔体清洁中，RPS 调节 NF3/O2 比例，确保污染物彻底去除且不损伤腔室表面。RPS 配备智能控制系统，可实时监测等离子体密度、自由基浓度等关键指标，根据反馈自动调整参数，维持工艺稳定性。通过大量实验数据积累，晟鼎精密建立了完善的 RPS 工艺参数数据库，客户可快速调用适配方案。该 RPS 设备的参数调控精度高、响应速度快，能够满足半导体、电子制造等领域的复杂工艺需求，成为高精度加工的中心 RPS 装备。湖南国产RPS型号
