江苏氪气惰性气体稀有气体/卤素气体芯片制造

超导技术的实现依赖极低温环境，液氦因沸点低（-268.9℃）成为较理想的制冷剂，支撑超导磁体、粒子加速器等设备运行。在核磁共振（MRI）设备中，液氦冷却超导线圈产生强磁场，确保成像精度；在核聚变实验中，液氦可将超导托卡马克装置冷却至临界温度，维持等离子体约束状态。上海弥正的液氦纯度达 99.999%，采用特用绝热储罐运输，蒸发损失率≤0.5%/ 天，某科研院所使用后，超导磁体稳定运行时间从 100 小时延长至 500 小时，实验数据重复性提升 50%。氦气用于气球嘉年华、庆典活动，安全无毒且漂浮时间长，装饰效果佳。江苏氪气惰性气体稀有气体/卤素气体芯片制造

稀有气体在医疗领域的应用正从辅助工具向重心诊疗载体升级。氦气与氧气的混合气可用于患者通气，降低气道阻力，某医院使用后患者呼吸窘迫缓解时间缩短 40%；氙气作为新型麻醉剂，血气分配系数但 0.115，诱导时间 30 秒、苏醒时间 5 分钟，且能减轻心肌缺血损伤，心脏手术患者术后并发症减少 35%；氪气可作为脑血流量追踪剂，为脑血管疾病诊断提供准确数据。上海弥正的医用级稀有气体均通过无菌检测与毒性筛查，氙气纯度达 99.995%，氦气水分含量≤1ppmv，某三甲医院应用其氙气增强 MRI 后，早期肺检出率提升 45%。吉林氙气惰性气体稀有气体/卤素气体半导体制造氟气化学性质极活泼，是强氧化剂，用于制备氟化物、半导体蚀刻与制冷剂合成。

稀有气体是元素周期表第 18 族元素的统称，包括氦、氖、氩、氪、氙、氡六种，其中氦至氙五种稳定存在于大气中，均具有外层电子稳定结构，化学性质极不活泼，故曾被称为 “惰性气体”。这种 “惰性” 使其成为保护气的理想选择，而通电发光、强 X 射线吸收等独特物理特性，又让其在照明、医疗、半导体等领域大放异彩。上海弥正依托深度提纯技术，实现稀有气体纯度梯度覆盖 99.99% 至 99.9999%，其中电子级氩气杂质含量≤0.1ppm，医用级氙气纯度达 99.995%。某半导体企业使用其高纯氩气作为焊接保护气后，晶圆焊接缺陷率从 2.3% 降至 0.4%；某医院采用其超纯氙气进行 MRI 成像，肺部病灶检出率提升 30%，充分彰显稀有气体在场景的不可替代性。

电子级稀有气体与卤素气体要求杂质含量低于 ppb 级，上海弥正建立千级洁净纯化车间，采用 “高温脱氧 + 低温吸附 + 激光精馏” 技术，实现痕量杂质的深度去除。针对电子级氩气，通过钯催化剂高温脱氧与 10K 低温吸附，使氧杂质≤0.01ppb，水分≤0.1ppb；针对电子级氟气，采用激光精馏技术分离同位素杂质，纯度达 99.9995%。产品符合 SEMI C12 标准，某晶圆厂应用后，芯片缺陷密度降低 60%。

针对大规模用气客户，上海弥正推出稀有气体现场制气服务，在客户厂区搭建模块化提纯装置，直接从空气或工业副产品中提取高纯气体。例如为光伏企业搭建现场氩气提纯装置，原料为工业粗氩，提纯后纯度达 99.999%，供应成本降低 35%；为半导体企业提供现场氦气回收提纯系统，回收率达 90%，年减少氦气消耗 40%。该模式减少运输环节，纯度稳定性提升至 99.9%，某大型电子企业应用后，生产停机时间减少 80%。 氦气密度极低且化学性质稳定，常用作气球填充气、超导磁体冷却剂与焊接保护气。

氙气作为密度比较大的稳定稀有气体，具有高原子序数、低电离能、强 X 射线吸收等独特特性，纯度≥99.999% 的高纯氙气已成为半导体与医疗领域的战略材料。在半导体制造中，氙气等离子体被用于极紫外光刻（EUV）光源，通过高能激光轰击产生 13.5nm 短波长光，支撑 3nm 以下芯片制程；在等离子体刻蚀中，可实现 50:1 的高深宽比刻蚀，降低晶体损伤提升良率 15%。在医疗领域，超极化氙气能使 MRI 信号增强 4-5 个数量级，实现 10μm 级肺泡成像，诊断早期肺纤维化准确率达 92%。上海弥正的半导体级氙气纯度达 99.9995%，医用级纯度 99.995%，均通过气相色谱 - 质谱联用检测，某晶圆厂应用后，3D NAND 闪存刻蚀精度提升至 ±0.03μm。氦气填充于变压器中，可增强绝缘性能与散热效果，保障电力设备稳定运行。江苏氪气惰性气体稀有气体/卤素气体芯片制造

氦气用于深海潜水呼吸混合气，可降低氮气麻醉风险，保障潜水员安全。江苏氪气惰性气体稀有气体/卤素气体芯片制造

半导体制造中，刻蚀工艺依赖卤素气体的强腐蚀性实现硅片图形化，不同卤素气体适配不同刻蚀需求。氟基混合气（如四氟化碳 - 氩气）可实现硅的各向同性刻蚀，用于浅槽隔离结构加工；氯基混合气（如氯气 - 氦气）适用于金属布线刻蚀，刻蚀速率可达 500nm/min；溴化氢混合气则在化合物半导体刻蚀中展现优势，能准确控制刻蚀深度。上海弥正的电子级卤素刻蚀气纯度≥99.999%，金属杂质≤0.01ppb，某晶圆厂使用其氟基混合气后，刻蚀图形线宽偏差从 ±0.1μm 缩小至 ±0.03μm，良率提升 12%。江苏氪气惰性气体稀有气体/卤素气体芯片制造

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