甘肃晶圆级陶瓷加热盘定制

针对 12 英寸及以上大尺寸晶圆的制造需求，国瑞热控大尺寸半导体加热盘以创新结构设计实现高效温控。产品采用多模块拼接式结构，单模块加热面积可达 1500cm²，通过标准化接口可灵活组合成更大尺寸加热系统，适配不同产能的生产线需求。每个模块配备**温控单元，通过**控制系统协同工作，确保整个加热面温度均匀性控制在 ±1.5℃以内。采用轻量化**度基材，在保证结构稳定性的同时降低设备重量，便于安装与维护。表面经精密加工确保平整度，与大尺寸晶圆完美贴合，减少热传导损耗，为先进制程中大规模晶圆的均匀加热提供可靠解决方案。专业应用工程师团队，提供工艺优化建议，创造更大价值。甘肃晶圆级陶瓷加热盘定制

针对半导体制造中的高真空工艺需求，国瑞热控开发**真空密封组件，确保加热盘在真空环境下稳定运行。组件采用氟橡胶与金属骨架复合结构，耐温范围覆盖 - 50℃至 200℃，可长期在 10⁻⁵Pa 真空环境下使用无泄漏。密封件与加热盘接口精细匹配，通过多道密封设计提升真空密封性，避免反应腔体内真空度下降影响工艺质量。组件安装过程简单，无需特殊工具，且具备良好的耐磨性与抗老化性能，使用寿命超 5000 次拆装循环。适配 CVD、PVD 等真空工艺用加热盘，与国产真空设备厂商的反应腔体兼容，为半导体制造中的高真空环境提供可靠密封保障，助力提升工艺稳定性与产品良率。山东高精度均温加热盘定制高精度温控可达±1℃，满足半导体等严苛工艺需求。

针对原子层沉积工艺对温度的严苛要求，国瑞热控 ALD **加热盘采用多分区温控设计，通过仿真优化加热丝布局，确保表面温度分布均匀性符合精密制程标准。设备温度调节范围覆盖室温至 600℃，升温速率可达 25℃/ 分钟，搭配铂电阻传感器实现 ±0.1℃的控温精度，满足 ALD 工艺中前驱体吸附与反应的温度窗口需求。采用氮化铝陶瓷基底与密封结构，在真空环境下无挥发性物质释放，且能抵御反应腔体内腐蚀性气体侵蚀。适配 8 英寸至 12 英寸晶圆规格，通过标准化接口与拓荆、中微等厂商的 ALD 设备无缝兼容，为原子层沉积的高保形性薄膜制备提供保障。

借鉴晶圆键合工艺的技术需求，国瑞热控键合**加热盘创新采用真空吸附与弹簧压块复合结构，通过弹簧压力限制加热平台受热膨胀，高温下表面平整度误差控制在 0.02mm 以内。加热盘主体采用因瓦合金与氮化铝复合基材，兼具低热膨胀系数与高导热性，温度均匀性达 ±1.5℃，适配室温至 450℃的键合温度需求。底部设计双层隔热结构，***层阻隔热量向下传导，第二层快速散热避免设备腔体温升过高。配备精细压力控制模块，可根据键合类型调整吸附力，在硅 - 硅直接键合、金属键合等工艺中确保界面贴合紧密，提升键合良率。严格质量管理体系，ISO认证工厂生产，品质有保障。

国瑞热控氮化铝陶瓷加热盘以 99.5% 高纯氮化铝为基材，通过干压成型与 1800℃高温烧结工艺制成，完美适配半导体高温工艺需求。其热导率可达 220W/mK，热膨胀系数* 4.03×10⁻⁶/℃，与硅晶圆热特性高度匹配，有效避免高温下因热应力导致的晶圆翘曲。内部嵌入钨制加热元件，经共烧工艺实现紧密结合，加热面温度均匀性控制在 ±1℃以内，工作温度上限提升至 800℃，远超传统铝合金加热盘的 450℃极限。表面经精密研磨抛光处理，平面度误差小于 0.01mm，可耐受等离子体长期轰击无损伤，在晶圆退火、氧化等高温工艺中表现稳定，为国产替代提供高性能材质解决方案。节能环保设计理念，热损失小效率高，助力绿色生产制造。嘉定区晶圆加热盘厂家

无锡国瑞热控科技，专注加热盘研发制造，是您值得信赖的合作伙伴。甘肃晶圆级陶瓷加热盘定制

面向半导体新材料研发场景，国瑞热控高温加热盘以宽温域与高稳定性成为科研工具。采用石墨与碳化硅复合基材，工作温度范围覆盖 500℃-2000℃，可通过程序设定实现阶梯式升温，升温速率调节范围 0.1-10℃/ 分钟。加热面配备 24 组测温点，实时监测温度分布，数据采样频率达 10Hz，支持与实验室数据系统对接。设备体积紧凑（直径 30cm），重量* 5kg，配备小型真空腔体与惰性气体接口，适配薄膜沉积、晶体生长等多种实验需求，已服务于中科院半导体所等科研机构。甘肃晶圆级陶瓷加热盘定制

无锡市国瑞热控科技有限公司在同行业领域中，一直处在一个不断锐意进取，不断制造创新的市场高度，多年以来致力于发展富有创新价值理念的产品标准，在江苏省等地区的电工电气中始终保持良好的商业口碑，成绩让我们喜悦，但不会让我们止步，残酷的市场磨炼了我们坚强不屈的意志，和谐温馨的工作环境，富有营养的公司土壤滋养着我们不断开拓创新，勇于进取的无限潜力，无锡市国瑞热控科技供应携手大家一起走向共同辉煌的未来，回首过去，我们不会因为取得了一点点成绩而沾沾自喜，相反的是面对竞争越来越激烈的市场氛围，我们更要明确自己的不足，做好迎接新挑战的准备，要不畏困难，激流勇进，以一个更崭新的精神面貌迎接大家，共同走向辉煌回来！