RPS远程等离子源（Remote Plasma Source）是一种先进的等离子体生成技术，其主要 在于将等离子体的生成区与反应区进行物理分离。这种设计通过电磁场激发工作气体（如氧气、氮气或氩气）产生高密度的等离子体，随后利用气流将活性自由基输送到反应腔室中。由于等离子体生成过程远离工件，RPS远程等离子源能够有效避免高能离子和电子对敏感器件的直接轰击，从而明显 降低损伤风险。在高级 制造领域，例如半导体晶圆清洗或薄膜沉积后的腔室维护，RPS远程等离子源凭借其均匀的活性粒子分布和精确的工艺控制，成为提升良品率的关键工具。此外，该技术还支持多种气体组合，适应复杂的工艺需求，帮助用户实现高效、低污染的清洁和刻蚀应用。在射频滤波器制造中实现压电薄膜的精确刻蚀。江西半导体设备RPS哪家强
RPS远程等离子源是一款基于电感耦合等离子体技术的自成一体的原子发生器，它的功能是用于半导体设备工艺腔体原子级别的清洁，使用工艺气体三氟化氮（NF3）/O2，在交变电场和磁场作用下，原材料气体会被解离，从而释放出自由基，活性离子进入工艺室与工艺室上沉积的污染材料（SIO/SIN）或者残余气体（H2O、O2、H2、N2）等物质产生化学反应，聚合为高活性气态分子经过真空泵组抽出处理腔室，提高处理腔室内部洁净度；利用原子的高活性强氧化特性，达到清洗CVD或其他腔室后生产工艺的目的，为了避免不必要的污染和工作人员的强度和高风险的湿式清洗工作，提高生产效率。湖北半导体设备RPS推荐厂家适用于生物芯片微流道表面的亲水化改性处理。
在薄膜沉积工艺（如PVD、CVD）中，腔室内壁会逐渐积累残留膜层，这些沉积物可能由聚合物、金属或氧化物组成。随着工艺次数的增加，膜层厚度不断增长，容易剥落形成颗粒污染物，导致器件缺陷和良品率下降。RPS远程等离子源通过非接触式清洗方式，将高活性自由基（如氧自由基或氟基自由基）引入腔室，与残留物发生化学反应，将其转化为挥发性气体并排出。这种方法不仅避免了机械清洗可能带来的物理损伤，还能覆盖复杂几何结构，确保清洗均匀性。对于高级 CVD设备，定期使用RPS远程等离子源进行维护，可以明显 减少工艺中断和缺陷风险，延长设备寿命。
RPS远程等离子源在汽车电子中的可靠性保障针对汽车电子功率模块的散热需求，RPS远程等离子源优化了界面处理工艺。通过N2/H2远程等离子体活化氮化铝基板，将热阻从1.2K/W降至0.8K/W。在传感器封装中，采用O2/Ar远程等离子体清洗焊盘，将焊点抗拉强度提升至45MPa，使器件通过3000次温度循环测试（-40℃至125℃）。RPS远程等离子源在航空航天电子中的特殊应用为满足航空航天电子器件的极端可靠性要求，RPS远程等离子源开发了高真空兼容工艺。在SiC功率器件制造中，通过He/O2远程等离子体在10-6Pa真空环境下进行表面处理，将栅氧击穿电场强度提升至12MV/cm。在辐射加固电路中，RPS远程等离子源将界面态密度控制在5×109/cm²·eV以下，确保器件在100krad总剂量辐射下保持正常工作。为半导体设备腔室提供高效在线清洁解决方案。
对于GaN、SiC等化合物半导体和MEMS传感器等精密器件，传统的等离子体工艺因其高能离子轰击和热效应容易造成器件性能的不可逆损伤。RPS远程等离子源应用领域在此提供了低损伤、高精度的解决方案。在GaN HEMT器件的制造中，RPS可用于栅极凹槽的刻蚀预处理或刻蚀后残留物的清理 ，其低离子能量特性确保了AlGaN势垒层和二维电子气（2DEG）不受损伤，从而维持了器件的高跨导和频率特性。在MEMS制造中，关键的步骤是层的释放，以形成可活动的微结构。RPS远程等离子源能够使用氟基或氧基自由基，温和且均匀地刻蚀掉结构下方的氧化硅或聚合物层，避免了因“粘附效应”（Stiction）导致的结构坍塌，极大地提升了MEMS陀螺仪、加速度计和麦克风的良品率和可靠性。在汽车电子中确保恶劣环境下可靠性。江西pecvd腔室远程等离子源RPS腔体清洗
晟鼎RPS自研PEO表面处理工艺，增加PEO膜层使用寿命，降低维护成本。江西半导体设备RPS哪家强
RPS远程等离子源在功率器件制造中的可靠性提升：功率器件（如GaN或SiC半导体）对界面质量极为敏感。污染会导致漏电流或击穿电压下降。RPS远程等离子源提供了一种温和的清洁方法，去除表面氧化物和金属杂质，而不引入缺陷。其均匀的处理确保了整个晶圆上的电性能一致性。在高温工艺中，RPS远程等离子源还能用于钝化层沉积前的表面准备。随着电动汽车和可再生能源的普及，RPS远程等离子源帮助提高功率器件的可靠性和寿命。纳米材料（如石墨烯或量子点）对表面污染极为敏感。RPS远程等离子源可用于制备超洁净基板，或对纳米结构进行精确修饰。其可控的化学特性允许选择性去除特定材料，而不损坏底层结构。在催化研究中，RPS远程等离子源还能活化纳米颗粒表面，增强其反应性。通过提供原子级清洁环境，RPS远程等离子源推动了纳米科技的前沿研究。江西半导体设备RPS哪家强
