深圳粉末冶金哪家好

颗粒的形状是指粉末颗粒的几何形状。任何不同颗粒的几何形状不可能完全相同，因此可以笼统地划分为规则形状和不规则形状两大类。规则形状的颗粒外形可近似地用某种几何形状地名称描述，它们与粉末生产方法密切相关。球磨的运动方式、作用(制粉、混合) ;滑动、滚动、自由下落以及在临界转速时球体的运动。(a)滑动；(b)滚动；(c)自由下落；(d)在临界转速时球体的运动，球体滚动和自由下落是有效的研磨方式，并且粉末的细磨只有在滚动下才能实现，因为细小的颗粒不会被球体的冲击所再粉碎。粉末冶金可以制造具有复杂内部结构的零件，如孔洞、沟槽和腔体。深圳粉末冶金哪家好

摩擦力对于成形虽然有着不利的一面，但也可以加以利用来改进压坯密度的均匀性，如带摩擦芯杆或者浮动压模的压制。压制废品种类(分层，裂纹，掉边掉角和密度分布不匀)，典型的特殊成形方法定义(爆裂成形法、热等静压成形法、电火花成形法等)，等静压成形法：等静压成形是借助高压泵的作用把液体介质（气体或液体）压入耐高压的钢体密封容器内，高压流体的静压力直接作用在弹性模套内粉末上，使粉末体在同一时间内各个方法均匀受压而获得密度的一种成形方法。/粉末压坯在各个方向上受压相等而进行压制的压制方式，即流体静力学压制。广州异形粉末冶金厂商随着技术的不断进步和市场需求的增长，粉末冶金技术将继续在各个领域发挥重要作用，推动制造业发展。

淬火热处理工艺，粉末冶金材料由于孔隙的存在，在传热速度方面要低于致密材料，因此在淬火时，淬透性相对较差。另外淬火时，粉末材料的烧结密度和材料的导热性是成正比关系的;粉末冶金材料因为烧结工艺与致密材料的差异，内部组织均匀性要优于致密材料，但存在较小的微观区域的不均匀性，所以，完全奥氏体化时间比相应锻件长50%，在添加合金元素时，完全奥氏体化温度会更高、时间会更长。在粉末冶金材料的热处理中，为了提高淬透性，通常加入一些合金元素如：镍、钼、锰、铬、钒等，它们的作用跟在致密材料中的作用机理相同，可明显细化晶粒，当其溶于奥氏体后会增加过冷奥氏体的稳定性，保证淬火时的奥氏体转变，使淬火后材料的表面硬度增加，淬硬深度也增加。另外，粉末冶金材料淬火后都要进行回火处理，回火处理的温度控制对粉末冶金材料的的性能影响较大，因此要根据不同材料的特性确定回火温度，降低回火脆性的影响，一般的材料可在175-250℃下空气或油中回火0.5-1.0h。

粉末冶金材料热处理的影响因素分析，粉末冶金材料在烧结过程中生成的孔隙是其固有特点，也给热处理带来了很大影响，特别是孔隙率的变化与热处理的关系，为了改善致密性和晶粒度，加入的合金元素也对热处理有一定影响：孔隙对热处理过程的影响，粉末冶金材料在热处理时，通过快速冷却抑制奥氏体扩散转变成其他组织，从而获得马氏体，而孔隙的存在对材料的散热性影响较大。通过导热率公式：导热率=金属理论导热率×(1-2×孔隙率)/100，可以看出，淬透性随着孔隙率的增加而下降。另一方面，孔隙还影响材料的密度，对材料热处理后表面硬度和淬硬深度的效果又因密度影响而有关联，降低了材料表面硬度。而且，因为孔隙的存在，淬火时不能用盐水作为介质，以免因盐分残留造成腐蚀，所以，一般热处理是在真空或气体介质中进行的。粉末冶金流程中，压制环节是关键，它直接决定了产品的密度和机械性能。

在太阳能材料中的应用，太阳能的利用主要包括光伏、光热、光化学转化以及光生物转化等。（1）太阳能光电材料，目前开发的太阳能电池的种类很多，但其光电转换效率普遍偏低，特别是对于装备、航空航天等空间应用领域，光电转换效率是太阳能电池较重要的指标。新的高效太阳能电池材料的开发和制备技术改进等有利于提高光电转化效率。粉末冶金技术在太阳能光电材料制备中的应用的体现就是制备薄膜太阳能电池。薄膜太阳能电池，多晶硅薄膜太阳能电池的方法有等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)、低压化学气相沉积法(LPCVD)、热丝化学气相沉积法（HwCVD)、快速热化学气相沉积法(RTCVD)、液相外延法(LPE)、溅射沉积法等。粉末冶金工艺可以实现对材料成分和微观组织的精确控制，生产出具有特定功能和性能的定制化零件。广东机械粉末冶金加工

粉末冶金制品因材料均匀性好、无焊接缺陷、无晶界退化等特点，可以实现复杂结构的一次成型。深圳粉末冶金哪家好

烧结废品(产生的原因)，烧结中的废品根据产生的原因可分为三类：（1）破坏了规定的加热规程（烧结温度过高或过低，烧结时间过长或过短）；（2）破坏了烧结气氛（烧结气氛中存在氧或水蒸气，存在能与烧结体相互作用的气体）；（3）与压制成形过程有关（采用了不合格的粉末，混料不均匀，压坯中存在较高的应力，压模结构不正确等等）而造成的烧结废品。润湿性与接触角(几种润湿特性与接触度的关系)PVD和CVD刀具涂层的特点(如以PVD为例，结合力相对低、厚度小、刃口锋利等)，物理的气相沉积（physical vapor deposition）：用物理方法(如蒸发、溅射等)，使镀膜材料汽化在基体表面，沉积成覆盖层的方法。化学气相沉积(chemical vapor deposition) ：两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上。深圳粉末冶金哪家好