采用增材制造技术的情况下，导管的设计空间得以提升，例如可以设计为拥有螺旋形状的结构，可以将导管横截面设计为多边形，也可以在部件内集成多个导管，至少一个可具有圆形横截面，还可以再导管内表面上制造一组凸起的表面特征，这组凸起的表面特征可以延伸到导管的内部区域中。与传统设计及制造方式相比，3D打印导管可以设计为复杂的形状、轮廓和横截面，这是使用常规减法制造技术（例如，钻孔）无法实现的。在设计时可以将冷却部件设计成更接近理想的几何形状，从而改进流体系统的热性能。另外，3D打印技术能够有效控制导管的内表面光洁度及其特征，起到影响流体的流动特性的作用，通过改变导管的内表面特征，可以改变流动特性（例如湍流），这是传统设计的导管所无法实现的。增材制造技术已经应用于多个领域，譬如航天、新材料、先进制造。广东科研增材制造无掩膜光刻
Nanoscribe带领全球高精度微纳米3D打印。Nanoscribe是德国高精度双光子微纳加工系统生产商，拥有多项**技术，为全球客户提供整套硬件，软件，打印材料和解决方案一站式服务。Nanoscribe是德国高精度双光子微纳加工系统生产商，拥有多项专项技术，为全球客户提供整套硬件，软件，打印材料和解决方案一站式服务。它的双光子聚合技术具有极高设计自由度和超高精度的特点，结合具备生物兼容特点的光敏树脂和生物材料，开发并制作真正意义上的高精度3D微纳结构，适用于生命科学领域的应用，如设计和定制微型生物医学设备的原型制作。海南微机械增材制造无掩膜激光直写如需了解增材制造技术发展趋势和应用，请咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司。
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高。
Nanoscribe的双光子聚合技术具有极高设计自由度和超高精度的特点，结合具备生物兼容特点的光敏树脂和生物材料，开发并制作真正意义上的高精度3D微纳结构，适用于生命科学领域的应用，如设计和定制微型生物医学设备的原型制作。布鲁塞尔自由大学的光子学研究小组（B-PHOT）的科学家们正在通过使用Nanoscribe双光子聚合技术（2PP）将光波导漏斗3D打印到光纤末端上来攻克将具有不同模场几何形状的两个元件之间的光束进行高效和稳健耦合这个难题。这些锥形光束漏斗可调整SMF的模式场，以匹配光子芯片上光波导模式场。Nanoscribe的2PP技术将可调整模场的锥形体作为阶跃折射率光波导光束。我们的增材制造技术应用于各个行业，包括航空航天、汽车制造、医疗器械等。
采用增材制造技术的情况下，导管的设计空间得以提升，例如可以设计为拥有螺旋形状的结构，可以将导管横截面设计为多边形，也可以在部件内集成多个导管，至少一个可具有圆形横截面，还可以再导管内表面上制造一组凸起的表面特征，这组凸起的表面特征可以延伸到导管的内部区域中。与传统设计及制造方式相比，3D打印导管可以设计为复杂的形状、轮廓和横截面，这是使用常规减法制造技术（例如，钻孔）无法实现的。在设计时可以将冷却部件设计成更接近理想的几何形状，从而改进流体系统的热性能。增材制造技术具有高的坚固性，稳定性.广东科研增材制造无掩膜光刻
增材制造轮可以通过增加材料的密度和强度来提高承载能力。广东科研增材制造无掩膜光刻
这种新型制造工艺只要把设计输入机器里，然后把功能部件从机器的另一边取出来即可，这种想法以前出现在上一代人的科幻小说里，虽然现在我们仍离《星际迷航》电影里那样复制人类的技术还很遥远，但我们正在缩小这个差距。塑料、橡胶、陶瓷、油墨、贵金属和一些特殊合金材料，每天都在不同的行业中被制造及应用，其应用领域非常广，包括普通玩具、模具，甚至到人体部位等。现在这一切都可以利用3D打印（增材制造）技术打印出来。Nanoscribe公司作为精密之傲高精度3D打印系统制造商，于2018年在中国成立了分公司，加强了德国高科技公司在中国销售活动，完善了整个亚太地区的客户服务范围。荣获多个奖项的德国Nanoscribe公司开发并销售的3D打印机是高度专业化的综合解决方案，在科学和工业领域，有1,000多位用户正在使用这种空前的全新应用。这包括为微创手术打印显微针、附加生产微镜头阵列、以及生产芯片上微光学元件。每周都有新的科学文献强调应用该器械的多种方式，并称之为“创新引擎”。广东科研增材制造无掩膜光刻
