企业商机
厂房设计基本参数
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  • 博一医药
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  • 厂房设计
厂房设计企业商机

规划厂房的平面布局的建议:人员流动:考虑员工的流动和工作效率。将员工的工作区域与设备和物料的位置相匹配,减少不必要的移动和交叉干扰。同时,为员工提供舒适的工作环境,例如合适的照明、通风和温度控制。安全考虑:在平面布局中要考虑安全因素。确保紧急出口和安全通道的畅通,设立消防设备和应急设施,并遵守相关的安全标准和规定。未来扩展:考虑到未来的发展和扩展,留出一定的余地和弹性。预留一些空间用于新设备、新产品线或增加员工数量。环境友好:在设计平面布局时,要考虑环境友好因素。例如,合理利用自然光和自然通风,选择节能设备和材料,减少能源消耗和废物产生。洁净实验室设计推荐成都博一医药设计有限公司。成都单克隆抗体洁净工程设计

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洁净室内的新鲜空气量应取下列二项中的最大值:1.补偿室内排风量和保持室内正压值所需新鲜空气量之和。2.保证供给洁净室内每人每小时的新鲜空气量不小于40m3。3.洁净区的清扫一般情况下宜采用移动式高效真空吸尘器;对1级到5级的4.单向流洁净室宜设置集中式真空吸尘系统。洁净室内的吸尘系统管道应暗敷,吸尘口应加盖封堵。——压差控制洁净室与周围的空间必须维持一定的压差,并应按生产工艺要求决定维持正压差或负压差。不同等级的洁净室以及洁净区与非洁净区之间的压差,应不小于5Pa,洁净区与室外的压差,应不小于10Pa。重庆医用气体洁净工程设计厂房设计中的平面布局应该如何规划?

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洁净室(区)外窗设计应符合下列要求:1.当洁净室(区)和人员净化用室设置外窗时,应采用双层玻璃固定窗,并应有良好的气密性。2.靠洁净室室内一侧窗不宜设窗台。3.洁净室内的密闭门应朝空气洁净度较高的房间开启,并加设闭门器,无窗洁净室的密闭门上宜设观察窗。4.洁净室门窗、墙壁、顶棚等的设计应符合下列要求:5.洁净室门窗、墙壁、顶棚、地(楼)面的构造和施工缝隙,均应采取可靠的密闭措施。6.当采用轻质构造顶棚做技术夹层时,夹层内宜设检修通道。7.洁净室窗宜与内墙面齐平,不宜设窗台。8.洁净室内的色彩宜淡雅柔和。室内各表面材料的光反射系数:顶棚和墙面宜为0.6~0.8,地面宜为0.15~0.35。9.对8级以上的洁净室,其墙板和顶棚宜采用轻质壁板构造。

在进行厂房设计时,需要考虑以下因素:能源利用:设计时要考虑能源的有效利用,包括采光、通风、空调、供暖等。合理利用自然光和自然通风可以降低能源消耗。设备维护:考虑设备的维护和保养需求,包括设备的维修通道、维修设施、设备的易用性等。确保设备的正常运行和维护的便捷性。人员需求:考虑员工的工作环境和舒适度,包括工作区域的大小、通风条件、卫生设施等。提供良好的工作条件可以提高员工的工作效率和满意度。扩展性和灵活性:设计时要考虑未来的扩展需求和变化,留出足够的空间和设施,以便进行扩建或调整。成本控制:在设计过程中要考虑成本因素,包括建筑材料的选择、设备的配置、施工工艺等。合理控制成本可以提高项目的经济效益。法律法规:设计时需遵守相关的法律法规和建筑规范,包括建筑设计规范、环保要求、安全标准等。厂房设计厂家欢迎联系成都博一医药设计有限公司。

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洁净厂房的平、剖面设计应考虑噪声控制要求。洁净室的围护结构应具有良好的隔声性能,并使各部分隔声量相接近。洁净室内的各种设备均应选用低噪声产品。对于辐射噪声值超过洁净室允许值的设备,应设置隔声设施(如隔声间、隔声罩等)。净化空调系统噪声超过允许值时,应采取隔声、消声、隔振等控制措施。洁净室内的排风系统除事故排风外应进行减噪设计。净化空调系统,根据室内容许噪声级要求,风管内风速宜按下列规定选用:总风管为6~10m/s,无送、回风口的支风管为4~6m/s,有送、回风口的支风管为2~5m/s。厂房设计商家就找成都博一医药设计有限公司。成都单克隆抗体洁净工程设计

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洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高,出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举,但作为总的原则看,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间温度不宜超过25度,湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以。相对湿度越高,粘附的越难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产比较好湿度范围为35—45%。成都单克隆抗体洁净工程设计

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