离子氮化处理注意事项:装炉,清洗工件同气体氮化,但比较好擦干或晾干再装入炉内,以节省打弧时间。工件应均匀装入炉内,工件之间,阴阳极之间必须间隔30mm以上,以免工件之间,两极之间电流密度过大而致工件局部温度过高。做好防渗,凡小于2mm的孔,缝隙必须屏蔽,试样放置在能与工件温度保持一致的位置上。在离子氮化中经常发生两种异常辉光发射,有场致发射和电子发射,场致发射即为工件或气隙存在小孔或小缝隙,或因油质溶化引起辉光集中,导致电流加大产生定点弧光,生成类似于电焊的效果,使工作无法进行。电子发射即为工件存在尖角或工件摆放不当,如两件之间、阴阳极之间等距离太近,这些地方电流密度较大,当工作时如所给电流太大,则这些位置温度迅速升高,电流密集于此处,也产生定点弧光,使工作无法进行。 离子氮化及其与气体氮化的区别你真的了解了吗?茂名高频离子氮化处理
离子渗氮渗氮层的形成也是由分解、吸收、扩散三个基本过程组成的。但是,由于辉光放电的作用,其机理有所不同。在真空炉体内,工件接阴极,炉体接阳极,在阴阳极间施加数百伏的直流电压,产生辉光放电,使含氮的稀薄气体﹝如氨气﹞电离,形成等离子体。N+、H+离子在阴极位降区被加速,轰击阴极表面,使阴极表面活化,并发生一系列反应。首先,离子轰击动能转化为热能,加热工件。其次,离子轰击打出电子,产生二次电子发射,同时,由于阴极溅射作用,工件表面的C、O、Fe等原子被轰击出来,Fe与阴极附近的活性N原子﹝或N离子﹞结合形成FeN沉积在阴极表面,依次分解:FeN→Fe2N→Fe3N→Fe4N,并同时产生活性N原子,由于阴极由表及里的高N浓度差,活性N原子在一定温度下,向心部扩散形成渗氮层。 东莞模具表面离子氮化厚度离子氮化温度是多少?
离子氮化脉冲电源的优点:脉冲电源离子氮化技术的特点与直流离子氮化相比,脉冲电源使离子氮化工艺得到了进一步的发展,并在直流离子氮化技术基础上拓宽了应用范围。脉冲电源离子氮化技术具有如下一些特点:工艺参数单独可调,脉冲电源的优点之一是工艺参数与物理参数单独可调。这是因为在直流电源条件下,既要满足零件表面的电流密度要求,又要满足零件保温电流密度的要求,两者相互影响。而在脉冲电源条件下,电流密度由峰值电流满足,保温电流由平均电流满足,可由两个单独参数分别调节。因此,工艺参数可在较大范围内变动。打弧速度快,脉冲电源的输出特性,自身就有抑制电弧迅速发展的特点,由于IGBT开关响应速度极快,这更利于我们一旦发现弧光放电就立即关断电源,然后重新点燃电源,这些工作均在几十微秒内完成。
离子氮化能提高低型腔热锻模具寿命,离子氮化是通过提高模具表面硬度,增加表面压应力的原理,来提高热锻模具使用寿命。离子氮化适合用于低型腔热锻模具,但不适合用于深型腔热锻模具。离子氮化是为了提高工件表面耐磨性、耐疲劳性、耐蚀性及耐高温等性能,利用等离子辉光放电在离子氮化设备内制备氮化层的一种工艺方法。离子氮化分三个阶段,第一阶段活性氮原子产生,第二阶段活性氮原子从介质中迁移到工件表面,第三阶段氮原子从工件表面转移到芯部。其中第一阶段电离和第三阶段扩散机制比较清楚,第二阶段活性氮原子如何从介质中迁移到工件表面的机理尚存争议,普遍认可的是“溅射-沉积”理论。具体原理为:高能离子轰击工件表面,铁原子脱离基体飞溅出来和空间中的活性氮原子反应形成渗氮铁,渗氮铁分子凝聚后再沉积到工件表面。渗氮铁在一定的渗氮温度下分解成含氮量更低的氮铁化合物,释放出氮原子,渗氮铁不断形成为一定厚度的渗氮层。 离子氮化法的优点都有什么?
离子氮化装炉时零件间距如何控制?不同尺寸产品混装,装炉零件的间距过小会影响到零件的渗氮效果,如果过大会浪费装炉空间。根据经验,离子氮化零件在装炉时零件之间的间距一般控制在20mm左右。如果零件较小,这个间距可以适当缩小,不过一般不要小于10mm。离子氮化不同零件拼炉时如何装炉?在欧洲,自从1986年德国TEG公司(现归属德国PVA公司)的,热壁式离子氮化炉已经获得广的应用。热壁式离子氮化炉因其炉内温度可以通过辅助热源进行分区调控,使整炉的温度均匀性得到了很大的提升,所以对于装炉的要求降低了很多。对于热壁炉而言,在装炉方面需要注意的主要是比表面积(辉光表面积与产品重量的比值)相近的产品尽量装在同一层,这样可以进行良好的温度调控。 离子氮化工艺操作记录。中山模具钢离子氮化缺点
离子氮化与气体氮化区别,你真的了解吗?茂名高频离子氮化处理
离子氮化是在真空中进行,因而可获得无氧化的加工表面,也不会损害被处理工件的表面光洁度。而且由于是在低温下进行处理,被处理工件的变形量极小,处理后无需再行加工。通过控制气氛,可调节化合物层的相结构,化合物层的脆性明显低于气体氮化的脆性,离子氮化为工件的还有就是一道工序。离子氮化从380℃起即可进行氮化处理,此外,对钛、钛合金等特殊材料也可在850℃的高温下进行氮化处理,因而适应范围十分广。离子氮化是在低气压下以离子注入的方式进行,因而耗气量极少(只为气体渗氮的百分之几),可降低处理成本。茂名高频离子氮化处理
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