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针对高分子材料表面能提升需求,我们开发的真空紫外VUV光源系统开辟了干法表面处理新路径。采用氙气介质阻挡放电技术,产生172nm特征波长辐射,光子能量达7.2eV,可断裂绝大多数有机物的化学键。在10...