下压框架并施加真空。等待5-8秒，直到框架完全是空的。9.在连续运行真空的情况下，添加30mL洗涤缓冲液（MultiBlot为15毫升）。重复洗涤步骤3次以上（总共4次洗涤）。当框架完全为空时，将TURN真空关闭。10.在印迹架的表面上涂适量的二抗（对于多印迹，为2.5mL，5毫升用于迷你印迹，或10毫升用于Midi印迹）。在室温下孵育10分钟，然后关闭真空。同样，溶液将被吸收到印迹架中，并且表面可能看起来干燥。重要提示：孵育10分钟后，再抽真空。11.向下压框架并施加真空。MerckWB实验加速器可大幅度减少实验时间。静安区可用于IHC实验加速WB实验加速器联系人
将管道的另一端连接到真空源。使用一升的真空烧瓶作为疏水阀和一个Millex-FA。过滤器（目录号SLFA05010）可保护真空源不受污染，如下所示。注意：任何可以产生410毫巴（12inHg）和34L/min的真空源就足够了。如果是真空如果源的工作温度高于410毫巴，则SNAPi.d.2.0系统将自动调节真空度压力。如果真空源不足，则流经系统的流量可能会不一致，从而导致更长的时间。处理时间和/或抗体回收率差。 印迹大会和总议定书 1.用支撑层（蓝色边缘）握住吸墨纸托并弄湿膜层静安区Merck蛋白印记加速器WB实验加速器参数上海益启同时操作4个WB实验加速批发价。
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