硅硅光芯片耦合测试系统及硅光耦合方法,其用以将从硅光源发出的硅光束耦合进入硅光纤,并可减少硅光束背向反射进入硅光源,也提供控制的发射条件以改善前向硅光耦合。硅光耦合系统包括至少一个平坦的表面,平坦的表面与硅光路相交叉的部分的至少一部分上设有若干扰动部。扰动部具有预选的横向的宽度及高度以增加前向硅光耦合效率及减少硅光束从硅光纤的端面进入硅光源的背向反射。扰动部通过产生复合的硅光束形状来改善前向硅光耦合,复合的硅光束形状被预选成更好地匹配硅光纤多个硅光模式的空间和角度分布。硅光芯片耦合测试系统优点:功耗低。湖北硅光芯片耦合测试系统

硅光芯片耦合测试系统测试时说到功率飘忽不定,耦合直通率低一直是影响产能的重要的因素,功率飘通常与耦合板的位置有关,因此在耦合时一定要固定好相应的位置,不可随便移动,此外部分机型需要使用专属版本,又或者说耦合RF线材损坏也会对功率的稳定造成比较大的影响。若以上原因都排除则故障原因就集中在终测仪和机头本身了。结尾说一说耦合不过站的故障,为防止耦合漏作业的现象,在耦合的过程中会通过网线自动上传耦合数据进行过站,若MES系统的外观工位拦截到耦合不过站的机头,则比较可能是CB一键藕合工具未开启或者损坏,需要卸载后重新安装,排除耦合4.0的故障和电脑系统本身的故障之后,则可能是MES系统本身的问题导致耦合数据无法上传而导致不过站的现象的。安徽多模硅光芯片耦合测试系统加工厂家大体上来讲,旋转耦合是通过使用线性偏移测量及旋转移动相结合的方法。

在光芯片领域,芯片耦合封装问题是光子芯片实用化过程中的关键问题,芯片性能的测试也是至关重要的一步骤,现有的硅光芯片耦合测试系统系统是将光芯片的输入输出端光纤置于显微镜下靠人工手工移动微调架转轴进行调光,并依靠对输出光的光功率进行监控,再反馈到微调架端进行调试。芯片测试则是将测试设备按照一定的方式串联连接在一起,形成一个测试站。具体的,所有的测试设备通过光纤,设备连接线等连接成一个测试站。例如将VOA光芯片的发射端通过光纤连接到光功率计,就可以测试光芯片的发端光功率。将光芯片的发射端通过光线连接到光谱仪,就可以测试光芯片的光谱等。
硅光芯片耦合测试系统中硅光芯片与激光器的封装结构,封装结构包括基座,基座设置与硅光芯片连接的基座贴合面,与激光器芯片和一体化反射镜透镜连接的基座上表面;基座设置通孔,通孔顶部开口与一体化反射镜透镜的出光面连接,通孔底部开口与硅光芯片的光栅耦合器表面连接;激光器芯片靠近一体化反射镜透镜的入光面的一端设置高斯光束出口;激光器芯片的高斯光束方向水平射入一体化反射镜透镜的入光面,经一体化反射镜透镜的反射面折射到一体化反射镜透镜的出光面,穿过通孔聚焦到光栅耦合器表面;基座贴合面与基座上表面延伸面的夹角为a1。通过对基座的底部进行加工形成斜角,角度的设计满足耦合光栅的较佳入射角。硅光芯片耦合测试能够高精度的测量待测试样的三维或二维的全场测量。

硅光芯片耦合测试系统的激光器与硅光芯片耦合结构及其封装结构和封装方法,发散的高斯光束从激光器芯片出射,经过耦合透镜进行聚焦;聚焦过程中光路经过隔离器进入反射棱镜,经过反射棱镜的发射,光路发生弯折并以一定的角度入射到硅光芯片的光栅耦合器上面,耦合进硅光芯片。本发明所提供的激光器与硅光芯片耦合结构,其无需使用超高精度的耦合对准设备,耦合过程易于实现,耦合效率更高,且研发成本较低;激光器与硅光芯片耦合封装结构及其封装方法,采用传统TO工艺封装光源,气密性封装,与现有技术相比,具有比较强的可生产性,比较高的可靠性,更低的成本,更高的耦合效率,适用于400G硅光大功率光源应用。硅光芯片耦合测试系统优点:整合性高。安徽硅光芯片耦合测试系统供应
硅光芯片主要由光源、调制器、有源芯片等组成,通常将光器件集成在同一硅基衬底上。湖北硅光芯片耦合测试系统
硅光芯片耦合测试系统这些有视觉辅助地初始光耦合的步骤是耦合工艺的一部分。在此工艺过程中,输入及输出光纤阵列和波导输入及输出端面的距离大约是100~200微米,以便通过使用机器视觉精密地校准预粘接间隙的测量,为后面必要的旋转耦合留出安全的空间。旋转耦合技术的原理。大体上来讲,旋转耦合是通过使用线性偏移测量及旋转移动相结合的方法,将输出光纤阵列和波导的的第1个及结尾一个通道进行耦合,并作出必要的更正调整。输出光纤阵列的第1个及结尾一个通道和两个光探测器相联接。湖北硅光芯片耦合测试系统