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纳米压印基本参数
  • 产地
  • 奥地利
  • 品牌
  • EVG
  • 型号
  • EVG610,EVG620 NT,EVG6200 NT,EVG720,EVG7200,EVG7200
  • 是否定制
纳米压印企业商机

EVG610特征:

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形误差补偿机制

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

敏捷处理和光刻工艺之间的转换

台式或带防震花岗岩台的单机版


EVG610附加功能:

键对准

红外对准

纳米压印光刻 

µ接触印刷


EVG610技术数据:

晶圆直径(基板尺寸)

标准光刻:比较大150毫米的碎片

柔软的UV-NIL:比较大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:柔软的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外线LED光源

自动分离:不支持

工作印章制作:外部


IQ Aligner®是EVG的可用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统。步进重复纳米压印有哪些应用

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IQ Aligner UV-NIL特征:

用于光学元件的微成型应用

用于全场纳米压印应用

三个**控制的Z轴,可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿

三个**控制的Z轴,用于压印抗蚀剂的总厚度变化(TTV)控制

利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺

EVG专有的全自动浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合对准和紫外线粘合功能


IQ Aligner UV-NIL技术数据:

晶圆直径(基板尺寸):150至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取决于模板和工艺)

支持流程:柔软的UV-NIL,镜片成型


曝光源:汞光源

对准:≤±0.5微米

自动分离:支持的

前处理:涂层:水坑点胶(可选)

迷你环境和气候控制:可选的


工作印章制作:支持的


EVG7200LA纳米压印有谁在用EV Group 提供完整的UV 紫外光纳米压印光刻(UV-NIL)产品线。

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纳米压印应用一:镜片成型

晶圆级光学(WLO)的制造得到EVG高达300 mm的高精度聚合物透镜成型和堆叠设备的支持。使用从晶片尺寸的主印模复制来的工作印模,通过软UV压印光刻将透镜图案转移到光学聚合物材料中。EV Group提供混合和单片微透镜成型工艺,可以轻松地适应各种材料组合,以用于工作印模和微透镜材料。EVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制的优先。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。


EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印应用

自动化压花工艺

EVG专有的**对准工艺,用于光学对准的压印和压印

完全由软件控制的流程执行

闭环冷却水供应选项

外部浮雕和冷却站


EVG ® 510 HE技术数据:

加热器尺寸:150毫米 ,200毫米

比较大基板尺寸:150毫米,200毫米

**小基板尺寸:单芯片,100毫米

比较大接触力:10、20、60 kN

比较高温度:标准:350°C;可选:550°C

夹盘系统/对准系统

150毫米加热器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200

200毫米加热器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT

真空:

标准:0.1毫巴


可选:0.00001 mbar


SmartNIL集成多次使用的软标记处理功能,并具有显着的拥有成本的优势,同时保留可扩展性和易于维护的特点。

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客户示范

■工艺开发

■材料测试

■与合作伙伴共同研发

■资助项目

■小批量试生产

■IP管理

■过程技术许可证

■流程培训

→世界前列的洁净室基础设施

→**的设备

→技术**

→**计量

→工艺知识

→应用知识

→与NIL的工作印模材料和表面化学有关的化学专业知识


新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案,并在显示器,生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。

岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。


分步重复刻印通常用于高 效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的Smart NIL工艺所需的母版。晶圆纳米压印质保期多久

纳米压印设备可用来进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。步进重复纳米压印有哪些应用

EVG ® 520 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印和纳米压印应用

自动化压花工艺

EVG专有的**对准工艺,用于光学对准的压印和压印

气动压花选项

软件控制的流程执行


EVG ® 520 HE技术数据

加热器尺寸:150毫米,200毫米

比较大基板尺寸:150毫米,200毫米

**小基板尺寸:单芯片,100毫米

比较大接触力:10、20、60、100 kN

比较高温度:标准:350°C;可选:550°C

粘合卡盘系统/对准系统

150毫米加热器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200

200毫米加热器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT

真空:

标准:0.1毫巴

可选:0.00001 mbar 步进重复纳米压印有哪些应用

与纳米压印相关的**
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