黑体炉基本参数
  • 品牌
  • 诺丞,DIAS,Testo,爱德克斯,大正仪表
  • 型号
  • CS1500
  • 类型
  • 检定炉
  • 测量范围
  • 300~1500℃
  • 测温分辨率
  • 0.1
  • 测量精度
  • 2K+0.0025T
  • 装箱数
  • 1
  • 加工定制
  • 外形尺寸
  • 380*540*500
  • 重量
  • 37
  • 厂家
  • 德国DIAS
  • 产地
  • 德国
  • 孔径
  • 38mm
  • 内径
  • 45mm
  • 孔深
  • 180mm
黑体炉企业商机

该装置安装完毕后,标志着省计量院辐射测温能力再上一个台阶。据悉,2019年省计量院购置的BB-PyroG3000型高温黑体将辐射测温能力范围从1600℃扩展到3000℃,目前,固定点黑体炉又极大程度地提升了辐射测温精度,在短期内实现了质的飞跃。

此次能力提升工作为我院今后开展标准辐射温度计以及其他高精度辐射温度计的量值传递工作打下了坚实的基础,可以为江苏省内及周边地区提供质量的辐射测温检定校准服务,为地方企业的发展添益助力。 在黑体炉上进行了标定试验研究,分析了曝光时间、光圈、焦距以及标定距离等参数对CCD灰度测量的影响。低温黑体炉试用

低温黑体炉试用,黑体炉

我国南北环境温差大,且测量现场一般条件比较简陋,不可能提供黑体炉或其他的校准工具。以下提供三种现场操作方法供大家参考:

方法一,现场有接触式高精度温度计(精度必须高于红外测温仪),可以用来调整发射率:首先,用接触式温度计测量物体表面温度得出参考值。然后,使用红外测温仪测量物体得出表面测量温度。***,根据差异调整测温***的发射率直至温度接近或等于参考值。应注意的是,因为两种温度计存在精度等多方面差异,因此红外测温仪只要保证在自身精度范围内即可。为确保红外测温仪的准确和稳定性,应定期及时同校准装置进行校准对比。 上海大黑体炉中温黑体炉,作为非接触测温仪表标定,分度用的标准辐射源。

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​温度范围:室温+10℃~400℃

-采用单片机作数据分析控制、模拟和数字多重滤波、模块式参数设置等新技术,精度高、功能多、抗干扰能力强;

-使用双排数字显示测量值和设定值;

-PID参数、回差、上下限报警值、手动输出时的百分比及因传感器等产生的误差修正量参数,均可以在面板上设置并实时显示。采用移相或过零触发可控硅,可人工控制或自动控制输出功率,使初始加热功率不至于过大,调节输出功率的大小,可以再不同的温度下得到控温效果。因为避免了大电流的冲击,可以延长黑体炉的使用寿命;

-采用自动升温控温方式,安全可靠,升温速度快,温度稳定性好,使用操作方便;

-黑体炉系列外型设计新颖,采用炉体和控温仪一体化结构,并备有RS232数字输出选配接口,--用户可根据提供的软件与电脑连接,实时观察记录温控数据和波形;

二、主要内容

浙江省科技周展示

按照省局统一部署,参加浙江省科技周启动仪式,现场展示黑体炉、CT检定模体等**防控相关科研成果及精密仪器设备。拟定于8月23日18:00集中于市民中心日月广场进行展示。

浙江省科技成果转化相关政策宣讲会

邀请浙江科技大市场负责人对科技成果转化方式及相关政策进行现场宣讲。拟定于8月25日下午14:00于六号楼三楼举行。

浙江省计量特色实验室集中开放

组织静重式力标准机实验室、一维大长度实验室、三维标准实验室、声学实验室集中开展实验室展示。拟定于8月26日下午14:00进行。

浙江省计量科学研究院科技成果集中展示

组织开展具有高辨识度的计量标志性成果展,线下活动于一号楼一楼进行集中展示,线上活动通过浙江省计量科学研究院微信公众号进行一日一科普。 黑体炉系列外型设计新颖,采用炉体和控温仪一体化结构,并备有RS232数字输出选配接口。

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3   试验用锅发射率测试 

3.1  测量仪器 

锅体材料是影响灶具热效率的重要因素之一,因此,本试验主要测量新、旧两版国标下铝制锅具材料的发射率,分别为旧国标下的普通白色铝锅和新国标下的黑色无光铝锅,以下分别简称“白锅”和“黑锅”。 

发射率测量仪器见图4,分别为日本某公司生产的FTIR-6100型傅里叶光谱分析仪和HIT-2型面源黑体炉。

3.2  发射率测量

针对标准用锅的样品,使用HIT-2型黑体炉作为参考黑体辐射源,在120 ℃下,分别测量黑体辐射源、黑锅和白锅的辐射量,经过计算机进行傅里叶变换,获得黑锅和白锅在2.5~25 μm红外波段的发射率,测量结果见图5。



高架箱梁渗水检测、高铁高价桥梁防水层检测、黑体炉检测、接触网检测、轮轴温度检测等。黑体炉售后服务

“每一个成品都需要经过专业的黑体炉做两个温度点校准,一是32℃,一是42℃。低温黑体炉试用

一点法的缺点同时也是其优点。由于是*针对目标响应值相对大小关系的校正,这就使得一点校正法可以在目标响应值与校正测量值相近时的任何情况下都能较好地成像。例如,一种很常见的实现方式是在环境温度、FPA温度变化后,通过实时动态调节积分时间、全局偏置等参数,让目标响应值回到与校正测量时相近的范围内,则成像一般不成问题,但这样处理后将导致测温算法复杂化甚至根本无法实现测温功能。

  各厂家在一点校正法的工艺实现中,还有个普遍的谬误:用高、低温黑体炉作校正测量,但在应用中却是用的档片机构(有内档片和外档片两种形式),此时档片起到的是参考黑体的作用。如果用外档片则还与校正测量的情况比较接近,但内档片差得就很离谱了。 低温黑体炉试用

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