工业烤箱基本参数
  • 产地
  • 安徽合肥
  • 品牌
  • 合肥真萍电子科技有限公司
  • 型号
  • 齐全
  • 是否定制
工业烤箱企业商机

电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。

柜体规格、配备:

1.左右双开门,3mm钢化玻璃,1mm厚不锈钢板,气密式隐藏锁把手。

2.柜体密封高吸附力磁性胶条与柜体密闭,脚垫采高承载车轮及调整高低脚垫。

3. 附高载重不锈钢隔板,柜体加装高载重煞车轮。

4.上掀式气密盖,方便 FFU保养及维修。

5.回风循环设计,单向氮气循环不产生紊流。

6.背面气密开门式设计,方便洁净清理与保养。

工业烤箱哪家好?推荐选择合肥真萍科技。淮安工业烤箱门配件

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中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理。

一、热工系统

1.额定温度 800℃

2.较高温度 850℃

3.加热元件 陶瓷外丝加热管

4.加热功率 18kw

5.空炉保温功率 约 9kw

6.温区个数 1 个

7.控温点数 2 点

8.热偶 K 分度

9.控温稳定度 ±1℃(恒温平台)

10.炉膛温度均匀度 ±6℃(恒温 800℃,1h)

二、气氛系统

1.炉膛气氛 2 路氮气,流量计量程为 2~20L/min;每路流量可调节

2.排气系统 在炉膛顶部设置一个排气囱,用于废气排放,废气

3.经过水封清洗后进入大气中,减少对环境污染

4.氧含量 配氧含量分析仪分析氧含量:

5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量

6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量

三、冷却系统

1.冷却结构 无

2.产品降温 随炉降温

3.安全保护

4.报警指示 超温、断偶、停水、停气等声光报警保护

5.设备安全升温速率 ≤5℃/min

四、温度控制系统

1.温度测量 采用 K 分度热偶测量

2.控制仪表 采用进口智能调节仪控制。具有 PID 参数自整定、高温

3.上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能

4.控制方式 固态继电器过零控制

5.超温处理 ⑴.当测量温度超过设定的安全值时,断加热,并报警。

⑵.当测量温度超过目标温度达到安全偏差值时,报警。 淮北工业烤箱的厂家合肥真萍科技为您提供工业烤箱相关专业解答。

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下面为大家介绍一下高温无氧固化烘箱。

无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、***、船舶、电子、通讯等科研及生产单位,主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化,模压固烤、IC(晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别)、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干,电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。

1、技术指标与基本配置:

1.1使用温度:RT~260℃,极限温度:300℃;

1.2炉膛腔数:2个,上下布置;

1.3炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶:K分度

1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪;

2、氧含量(配氧分析仪):

2.1高温状态氧含量:≤ 10ppm +气源氧含量;低温状态氧含量:≤ 20ppm +气源氧含量

2.2控温稳定度:±1℃; 2.3温度均匀度:±2%℃(260℃平台);


HMDS 预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

  增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。 合肥真萍科技的优势有哪些呢?听听小编为您介绍。

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一、本产品广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验.

二、主要技术指标:

1、工作室温度范围:常温~ +300℃   用户使用温度260℃

2、温度波动度:    ±1.0℃(空载);

3、温度偏差:     常压温度试验:常温~200℃时±2℃  

200~300℃时±5.0℃

低气压高温综合试验:≤100℃时±2.0℃,

100℃~200℃时±5.0℃

200℃~300℃时±7.0℃

4、 升降温速率:

升温时间:①常压时:90min(常温~ +260℃)

    ②低气压0.0001pa时:180min(常温~ +260℃)

降温时间:3℃~10℃/min(260℃~ 120℃), 1℃~5℃/min(120℃~ 常温℃)

降温方式:水冷降温

5、试验箱承压方式:采用内承压方式

6、压力范围:     常压~0.0001Pa 真萍科技是从事热处理设备、烘烤制程设备、环境与可靠性试验设备、半导体黄光区**设备等产品专业供应商。温州工业烤箱的价格和照片

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电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。

过滤系统:

2.1 EBM 电子式EC 马达控制无尘室**FFU。

2.2 镜面不锈钢结构体。

2.3 特殊导流风道设计,风压平均,可有效提供风量,降低噪音。

2.4 电路板控制模块,提供安 全保护装置,运转异常指示灯及控制干接点输出。

2.5 无段式风量调速器可任意调整风量大小。

2.6 滤网ULPA,0.12μm,99.9995%以上的过滤效果。

2.7 电力规格:单相220V 50Hz 0.95A,输出功率150W。

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