工业烤箱基本参数
  • 产地
  • 安徽合肥
  • 品牌
  • 合肥真萍电子科技有限公司
  • 型号
  • 齐全
  • 是否定制
工业烤箱企业商机

高温无氧固化烘箱 用途介绍:无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、***、船舶、电子、通讯等科研及生产单位,主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化,模压固烤、IC(晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别)、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干,电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。

1、技术指标与基本配置:

1.1使用温度:RT~260℃,极限温度:300℃;

1.2炉膛腔数:2个,上下布置;

1.3炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶:K分度

1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪;

2、氧含量(配氧分析仪):

2.1高温状态氧含量:≤ 10ppm +气源氧含量;低温状态氧含量:≤ 20ppm +气源氧含量

2.2控温稳定度:±1℃; 2.3温度均匀度:±2%℃(260℃平台); 如有需要各种工业烤箱,欢迎致电合肥真萍科技咨询。安徽大型工业烤箱

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可定制高温烘箱

产品型号:DGF-9030A

产品名称:30L高温电热鼓风烤箱

产品特点:DGF-9000A升级型系列400度高温电热鼓风烤箱适用于多种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和多种恒温适应性试验。

技术参数:

产品类型:数显微电脑控制

电源电压:AC 220V±10%   50Hz±2%

温控范围:100℃-400℃

温度分辨率:0.1℃

恒温波动度:≤±1℃

温度均匀度:≤±2℃

输入功率:2000W

内胆尺寸(mm):W320×D320×H300

外形尺寸(mm):W665×D570×H540

载物托架:2块

定时范围:0-9999分钟 福建工业烤箱保养工业烤箱哪家好?推荐选择合肥真萍科技。

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下面为大家简单介绍一下六腔体无尘烤箱。

本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。

箱体结构:

1烘箱总体由箱体部分,电气控制柜部分,电加热部分,风道部分,尘埃物过滤部分,

N2 进气排气及风冷部分等组装而成,结构合理,功能实用。

2外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防止微尘,内胆材料:采进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。

3保温材料:采用正厂**玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充,有效的防止了热能浪费。

4电热部分:采用进口覆套式电热器(SHEATHED HEATER)无尘无氧化电热发生器

5风道部分:整体结构采用了水平送风的方式由左向右送风后经美国进口H.E.P.A,(特殊风道设计)过滤效果可达99.99%,Class100;

完善的控制系统,及安全防护措施

1操作控制系统,采用精密电子仪器仪表结合电力拖动系统控制,更快速,更稳定。

2防护措施:紧急停止,超温保护,断线报警,相序保护,过载保护,短路保护,漏电保护,及电磁门禁保护等

下面为大家简单介绍一下洁净烘箱

本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,普遍应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。

技术指标:

1 无尘等级:Class100:(符合FED-STD 209E标准:0.3um≤300个0.5≤100个)

2温度范围:+60℃~ +250℃(极限温度350℃)

3温度均匀性:±2℃(空箱测试)

4温度精确度:±1℃(空箱测试)

5设备型号规格:

450*450*450450*600*450600*800*600600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;


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产品名称:洁净烘箱

产品介绍:本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,普遍应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。

技术指标:

1 无尘等级:Class100:(符合FED-STD 209E标准:0.3um≤300个0.5≤100个)

2温度范围:+60℃~ +250℃(极限温度350℃)

3温度均匀性:±2℃(空箱测试)

4温度精确度:±1℃(空箱测试)

5设备型号规格:

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HMDS 预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

  增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。 安徽大型工业烤箱

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温度分布不均的解决方法清理风道:定期清理风道和风轮上的积尘和杂物,保持风道畅通。调整风门:根据实际需要调整进风、出风口的风门大小,优化空气循环效果。更换风机:如风机损坏或转速下降,应立即更换新的风机。外壳带电、控制面板失灵的解决方法检查接地线:确保烤箱接地良好,接地电阻符合安全标准。更换老化电线:定...

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