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下面为大家介绍一下高温钟罩炉的结构系统。 一、炉体配置 炉膛结构：采用多晶莫来石材料砌筑而成 有效尺寸：φ 300×320mm（D×H） 设备重量：约 1200Kg 外观颜色：挂板采用高温喷塑，颜色为江淮蓝 外形尺寸：W1300×H2200×D1510 (mm)，不含(囱、指示灯） 二、热工系统 1.额定温度 ：1550℃ 2.限制温度 ：1600℃ 3.加热元件： U 型硅钼棒 4.加热功率 ：16kW 5.空炉保温功率 ≤8kW 6.温区个数 ：1 个 7.控温点数 ：1 点 8.热偶 :B 分度 9.程序**精度 ：±2℃（大于 600℃,升温速率≤3℃/min） 10.控温稳定度 ：±1℃(恒温平台) 11.炉膛温度均匀度： ±4℃（恒温 1500℃,2h）合肥真萍科技的试验箱，值得推荐。哪里有试验箱标准

真萍科技洁净烘箱是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，广泛应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。下面为大家介绍一下洁净烘箱的技术指标。 1.无尘等级：Class100：（符合FED-STD 209E标准：0.3um≤300个0.5≤100个） 2.温度范围：+60℃~ +250℃（极限温度350℃） 3.温度均匀性：±2℃（空箱测试） 4.温度精确度：±1℃（空箱测试） 5.设备型号规格:450*450*450；450*600*450；600*800*600；600*700*600;700*900*700; 700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000; 1000*1300*1000;1000*1400*1000;生产试验箱价格是多少为您推荐试验箱的专业生产厂家。

精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。 真萍科技精密鼓风烤箱采用进口液晶显示控制器，产品采用综合的电磁兼容设计和人性化的菜单设计，使得设备操作完全傻瓜化，控温效果较好。高亮度宽视窗液晶显示，示值清晰、直观。微电脑智能控制。设定温度和时间后，仪表自行控制加热功率，并显示加热状态，控温精确而稳定。超温报警并自动切断加热电源。 电器控制系统： 1.电气控制元器件均采用国内**品牌“正泰” 2.电气线路设计新颖，合理布线，安全可靠 3.箱体顶部为电气控制柜，方便于集中检查维修 安全保护系统： 1.超温报警 2.欠相缺相保护 3.过电流保护 4.快速熔断器 5.接地保护

隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。下面为大家介绍一下真萍科技隧道炉的产品特性。 1.采用智能型温度控制模块，PID自动演算，LED显示，配合SSR大功率可控硅输出，能精确控制温度之精细度； 2.分段控制（当到达设定温度时可任意关掉其中几段发热管，降低加热功率，其达到省电效果）； 3.内箱采用1.5mm厚SUS304#不锈钢(清洁无尘，防生锈、耐腐蚀)，外箱采用1.5mm厚Q235冷轧钢板(强度、塑性和焊接综合性能相当好)； 4.整机控制系统采用触摸屏加PLC程序控制，设备加热、运风、传动、自动门开关均采用智能控制，有效防止失误动作； 5.当实际检测温度超过超温保护温控器设定值时，自动切断加热电源，起到双重保护功能。试验箱的生产厂家名录。

精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。下面为大家介绍一下真萍科技精密鼓风烤箱的箱体结构。 1.本设备由室体、加热系统、电气控制系统、送风系统、保护系统等组成。 2.箱体采用先进设备制作、业内**工艺制造流程、线条流畅，美观大方。 3.工作室材质为不锈钢SUS304材质，外箱材质为质量冷轧钢板，产品外壳采用环保金属漆喷制，整体设计美观大方，适合**实验室的颜色搭配。 4.工作室内搁架可随用户的要求任意调节高度以及搁架的数量。 5.工作室与外箱之间的保温材料为质量超细玻璃纤维保温棉，保温层厚度：＞70mm, 隔温效果好，国内**，高性能的绝缘结构。从里到外有内腔、内壳、超细玻璃纤维、铝制反射铝箔片、空气夹层，内胆热量损失少。内胆外箱及门胆结构独特，极大减少了内腔热量的外传。合肥真萍科技****，真诚推荐选择。生产试验箱价格是多少

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本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。   增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。哪里有试验箱标准

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