NIL已被证明是在大面积上实现纳米级图案的相当有成本效益的方法,因为它不受光学光刻所需的复杂光学器件的限制,并且它可以为极小尺寸(小于100分)提供比较好图案保真度nm)结构。
EVG的SmartNIL是基于紫外线曝光的全场压印技术,可提供功能强大的下一代光刻技术,几乎具有无限的结构尺寸和几何形状功能。由于SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能,因此还可以实现****的吞吐量,并具有显着的拥有成本优势,同时保留了可扩展性和易于维护的操作。另外,主模板的寿命延长到与用于光刻的掩模相当的时间。
新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 分步重复刻印通常用于高 效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的Smart NIL工艺所需的母版。UV纳米压印用于生物芯片
HERCULES®NIL:完全集成的纳米压印光刻解决方案,可实现300 mm的大批量生产
■批量生产低至40 nm的结构或更小尺寸(分辨率取决于过程和模板)
■结合了预处理(清洁/涂布/烘烤/冷却)和SmartNIL®技术
■全自动压印和受控的低力分离,可很大程度地重复使用工作印章
■具备工作印章制造能力
EVG®770:连续重复的纳米压印光刻技术,可进行有效的母版制作
■用于晶圆级光学器件的微透镜的高 效母模制造,直至SmartNIL®的纳米结构
■不同类型的母版的简单实现
■可变的光刻胶分配模式
■分配,压印和脱模过程中的实时图像
■用于压印和脱模的原位力控制
UV纳米压印国内代理岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。
纳米压印应用三:连续性UV纳米压印
EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台,可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从比较大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合,分步重复刻印通常用于高 效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。
EVG ® 770特征:
微透镜用于晶片级光学器件的高 效率制造主下降到纳米结构为SmartNIL ®
简单实施不同种类的大师
可变抗蚀剂分配模式
分配,压印和脱模过程中的实时图像
用于压印和脱模的原位力控制
可选的光学楔形误差补偿
可选的自动盒带间处理
EVG ® 770技术数据:
晶圆直径(基板尺寸):100至300毫米
解析度:≤50 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:柔软的UV-NIL
曝光源:大功率LED(i线)> 100 mW /cm²
对准:顶侧显微镜,用于实时重叠校准≤±500 nm和精细校准≤±300 nm
较早印刷模具到模具的放置精度:≤1微米
有效印记区域:长达50 x 50毫米
自动分离:支持的
前处理:涂层:液滴分配(可选)
HERCULES NIL 300 mm提供市场上**纳米压印功能,具有较低的力和保形压印,快速高功率曝光和平滑压模分离。
纳米压印应用一:镜片成型
晶圆级光学(WLO)的制造得到EVG高达300 mm的高精度聚合物透镜成型和堆叠设备的支持。使用从晶片尺寸的主印模复制来的工作印模,通过软UV压印光刻将透镜图案转移到光学聚合物材料中。EV Group提供混合和单片微透镜成型工艺,可以轻松地适应各种材料组合,以用于工作印模和微透镜材料。EVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制的优先。岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。
EVG的SmartNIL技术是基于紫外线曝光的全场压印技术,可提供功能强大的下一代光刻技术。EVG610纳米压印免税价格
EV Group的一系列高精度热压花系统是基于该公司市场**的晶圆键合技术。UV纳米压印用于生物芯片
EVG ® 610 紫外线纳米压印光刻系统
具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统,从碎片到比较大150毫米。
该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,并且可以选择背面对准。此外,该系统还为多功能配置提供了附加功能,包括键对准和纳米压印光刻(NIL)。EVG610提供快速的处理和重新安装工具,以改变用户需求,光刻和NIL之间的转换时间*为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到**级别的所有需求,因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。
UV纳米压印用于生物芯片
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