企业商机
沉积系统基本参数
  • 品牌
  • 韩国真空、美国PVD
  • 型号
  • SPUTTER
沉积系统企业商机

科睿设备有限公司所推出的纳米颗粒沉积系统,其主要优势在于实现了在超高真空环境下,将超纯、非团聚的纳米颗粒直接沉积到最大直径50毫米的各类基底上。这一技术突解决了传统纳米材料制备中常见的颗粒团聚、污染等问题,为高质量纳米结构制备奠定了坚实基础。系统采用的特高压设计,能够将腔体内的本底真空度维持在极高水平,有效避免了水汽、氧气等残余气体对沉积过程的干扰,确保了纳米颗粒的化学纯度和结构完整性,这对于对材料性能极为敏感的高科技研究至关重要。



真空抽速缓慢应首先检查腔门密封圈及阀门状态。纳米粒子沉积系统技术

纳米粒子沉积系统技术,沉积系统

纳米颗粒和薄膜超高真空(UHV)沉积系统的工作原理,是在超高真空环境中,通过特定物理 / 化学机制产生超纯纳米颗粒或薄膜材料,再将其准确、均匀地沉积到目标基材表面,整个过程需实现 “真空环境控制、材料源激发、粒子传输与筛选、基材相互作用” 四大关键环节的协同,获得高纯度、低缺陷、结构可控的纳米级沉积层。

纳米颗粒和薄膜 UHV 沉积系统的应用场景,本质是通过 “超纯、准确、可控” 的纳米制备技术,解决不同领域中 “材料结构调控” 的主要需求 —— 无论是工业研发中提升产品性能(如催化剂活性、电池寿命),还是学术研究中探索材料新机理,其多技术集成、多基材适配的特性,使其成为连接基础研究与实际应用的关键桥梁,服务于高校、科研院所、高科技术企业的创新需求。 纳米粒子沉积系统技术设备能够为锂离子电池电极材料进行高性能纳米涂层修饰。

纳米粒子沉积系统技术,沉积系统

在燃料电池催化剂制备中,通过系统沉积的 Pt 纳米颗粒涂层,能够大幅提高催化剂对氢气氧化和氧气还原反应的催化效率,降低 Pt 的用量,从而降低燃料电池的生产成本;在工业催化反应中,可通过调控纳米颗粒的尺寸和组成,优化催化剂对目标反应的选择性,减少副产物生成。此外,系统支持多种沉积技术的集成应用,可实现活性组分与辅助组分的协同沉积,进一步优化催化剂的电子结构和表面性质,提升其稳定性和使用寿命。无论是学术研究中催化机理的探索,还是工业生产中催化剂的批量制备,科睿设备有限公司的相关系统都能提供准确、可靠的技术支持,推动催化领域的技术革新。

纳米颗粒和薄膜 UHV 沉积系统的工作原理可概括为:以超高真空环境为基础,通过多类型沉积源激发原料产生纳米颗粒或原子蒸汽,经 QMS 质量筛选和传输,使粒子在预处理准确后的基材表面通过物理 / 化学作用形成稳定沉积层,整个过程由自动化系统实时控制,实现高纯度、高均匀性、结构可控的纳米颗粒涂层或薄膜制备。其主要优势在于 “真空环境消除杂质、多源集成适配多元需求、精细筛选确保均一性、实时监测保障可控性”,这也是其能满足科研与工业高科技需求的关键。QMS 质量过滤器可按颗粒直径或质量筛选,精度控制在 ±5% 以内。

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系统的负载锁定选件是一个极具价值的高级功能。它允许用户在维持主沉积腔室超高真空的同时,快速更换样品。这极大地提升了设备的吞吐量,尤其适用于需要处理大量样品的研发或小规模生产场景,同时保证了主工艺腔的洁净度与真空稳定性。基板处理模块的扩展功能提供了极大的灵活性。基板加热选项允许在沉积前或沉积过程中对基底进行高温退火,以改善薄膜的结晶质量或促进界面反应。基板旋转确保了在大面积基底上膜厚的极端均匀性。基板偏置选项则允许施加射频或直流偏压,用于在沉积前对基底进行离子清洗,或在沉积过程中对生长薄膜进行离子轰击,以优化薄膜的致密度和附着力。负载锁定选件极大地提升了样品吞吐量和主腔室真空保持度。纳米粒子沉积系统技术

软件通信中断可尝试重启工控机并检查线缆连接。纳米粒子沉积系统技术

日本筑波国家材料科学研究所、亚利桑那州立大学等在内的多个机构,基于集成沉积功能的UHV-TEM系统开展了大量研究。例如通过系统中的电子束蒸发器、磁控溅射等原位沉积模块,观测到银在金岛屿上的逐层生长、金在石墨上的生长演变等纳米晶体成核过程;还成功制备出Ge在Si(001)上的外延岛、Co₂Si纳米线等薄膜与纳米结构。该类系统结合了超高真空的洁净环境和TEM的原子级分辨率,可实时观测动态生长过程,为研究纳米晶体成核、薄膜同质外延与异质外延、氧化物成核等基础材料科学问题提供了直观的实验数据。纳米粒子沉积系统技术

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