常用的计算模型包括 Owens-Wendt 模型、Van Oss-Chaudhury-Good 模型（简称 VCG 模型）：Owens-Wendt 模型适用于多数低能固体材料（如高分子材料），需测量 2 种液体（1 种极性液体，如蒸馏水；1 种非极性液体，如二碘甲烷）的接触角，通过建立二元方程组求解色散分量与极性分量，总表面自由能为两者之和；VCG 模型适用于含酸碱基团的材料（如金属氧化物、生物材料），需测量 3 种液体（极性、非极性、两性液体）的接触角，可同时计算色散分量、极性分量及 Lewis 酸碱分量，更多方面反映固体表面的化学特性。该功能通过软件自动实现数据运算，无需人工干预，计算结果精度可达 ±1mJ/m²，为材料表面性能的定量分析提供了科学依据。接触角测量仪的历史数据查询功能便于工艺追溯。湖北光学接触角测量仪哪里买
以 Owens-Wendt 模型为例，需测量水（极性液体）与二碘甲烷（非极性液体）的接触角，代入模型公式计算固体表面的色散分量（γ^d_s）与极性分量（γ^p_s），总表面自由能 γ^t_s = γ^d_s + γ^p_s。该功能的研发价值体现在三方面：一是判断材料表面的化学组成，如极性分量占比高说明材料表面含极性基团（如羟基、羧基），色散分量占比高则说明含非极性基团（如烷基）；二是指导材料表面改性，如通过对比改性前后的表面自由能变化，评估改性工艺（如等离子处理、涂层）的效果；三是预测材料的应用性能，如表面自由能与粘合剂的附着力、涂料的铺展性密切相关，可通过表面自由能数据优化产品配方。某高分子材料企业通过晟鼎接触角测量仪计算材料表面自由能，发现等离子处理后材料的极性分量从 10mJ/m² 提升至 35mJ/m²，据此优化处理参数，使材料与粘合剂的附着力提升 40%，明显提升产品性能。湖北粉末接触角测量仪图片接触角测量仪的数据分析功能计算平均值与标准差。
晟鼎精密接触角测量仪的配套软件具备完善的数据处理与报告生成功能，可实现接触角数据的精细分析、统计与归档，为材料研发与质量控制提供标准化的数据输出，满足企业对检测流程规范化的需求。数据处理功能包括：接触角计算（支持自动与手动计算，自动计算基于边缘检测算法，手动计算可通过鼠标调整液滴轮廓，适用于复杂液滴形状）；数据统计（可计算同一样品多次测量的平均值、标准差、变异系数，评估测量重复性）；曲线分析（动态接触角测量时，可生成接触角 - 时间曲线，支持曲线平滑、峰值提取、斜率计算，分析润湿性变化趋势）；表面自由能计算（内置 Owens-Wendt、Van Oss-Chaudhury-Good 等多种模型，输入液体表面张力参数后自动计算）。
晟鼎精密接触角测量仪的动态接触角测量功能，主要用于分析液体在固体表面铺展或收缩过程中的接触角变化，捕捉表面润湿性能的动态特征，区别于静态接触角反映稳定状态的局限性。其原理是：在液滴滴落至样品表面的瞬间启动图像采集（帧率≥30fps），持续记录液滴从初始形态到稳定形态的全过程（时间范围 0-300 秒可设），软件通过实时跟踪液滴轮廓变化，每间隔 0.1-1 秒自动计算一次接触角，终生成 “接触角 - 时间” 动态曲线。通过分析曲线特征，可获取液滴铺展速率（接触角下降速率）、平衡时间（接触角稳定所需时间）等关键参数，反映样品表面的润湿性变化规律。例如液体在亲水表面铺展时，接触角会快速下降至稳定值；在疏水表面铺展时，接触角下降缓慢且稳定值较高；若样品表面存在不均匀性（如涂层缺陷），动态曲线会出现波动，反映表面性能的局部差异。该功能为研究表面润湿动力学过程提供了直观工具，拓展了接触角测量仪的应用深度。光学接触角测定仪应用于表面检测，液体测量，润湿程度高，评估测量，助您快速应对。
在界面结合性能预测中，通过对比两种材料的表面自由能，可评估其界面结合强度：表面自由能差值越小，两种材料分子间的相互作用力越强，界面结合越稳定，这一特性可用于复合材料（如涂层 - 基材、胶粘剂 - 被粘物）的匹配性设计，减少因界面结合不足导致的产品失效（如涂层脱落、粘接开裂）。在产品质量控制中，通过设定表面自由能合格范围（如某包装材料表面自由能需≥35mJ/m² 以确保印刷性），可快速判断批次产品是否符合标准，避免因表面性能波动导致后续工艺问题。表面自由能是物体表面分子间作用力的体现，它是由极性分量及色散分量两种能量组成。浙江晟鼎接触角测量仪联系方式
当液体与固体达成接触时，液体表面张力越大接触角越大，固体表面能越大接触角越小。湖北光学接触角测量仪哪里买
在半导体晶圆制造中，清洗工艺的质量直接影响器件性能（如接触电阻、击穿电压），晟鼎精密接触角测量仪作为清洗质量的检测设备，通过测量水在晶圆表面的接触角，判断晶圆表面的清洁度（残留污染物会导致接触角异常），确保清洗工艺达标。半导体晶圆（如硅晶圆、GaAs 晶圆）在切割、研磨、光刻等工序后，表面易残留光刻胶、金属离子、有机污染物，若清洗不彻底，会导致后续工艺（如镀膜、离子注入）出现缺陷，影响器件良品率。接触角测量的判断逻辑是：清洁的晶圆表面（如硅晶圆）因存在羟基（-OH），水在其表面的接触角通常＜10°（亲水性强）；若表面存在污染物（如光刻胶残留），会破坏羟基结构，导致接触角增大（如＞30°），说明清洗不彻底。湖北光学接触角测量仪哪里买
