精密环境受到多种因素的影响。温度波动会导致仪器设备、被测样品等产生形变，影响空气对光的折射波动；湿度波动会影响空气折射率，湿度过高还易造成电器故障；二氧化碳浓度、压力梯度波动会影响空气折射率；微振动会造成仪器设备等抖动，影响光路；电磁干扰、接地电阻过大会影响仪器设备正常工作。
极测（南京）技术有限公司针对不同环境控制需求，提供了完善的解决方案。普通环境控制需求温度控制精度为 ±2℃，湿度控制精度为 ±5~15%，洁净度等级为十万级到百级，采用恒温恒湿超净间；精密环境控制需求温度控制精度为 ±0.5~1℃，湿度控制精度为 ±2~5%，洁净度等级为万级到百级，采用精密恒温恒湿超净间；高精密环境控制需求温度控制精度为 ±0.1~0.3℃，湿度控制精度为 ±2~5%，洁净度等级为千级到百级，采用高精密恒温恒湿超净间；超精密环境控制需求温度控制精度为 ±0.002~0.1℃，湿度控制精度为 ±1~5%，洁净度等级为百级到十级，在高精密恒温恒湿超净间中搭建精密环控系统，同时气流 / 风速 / 压差控制、CO₂浓度调节、噪音控制、环境参数闭环控制。
光学仪器行业通常要求相对湿度控制在40~60%RH之间，某些情况下可能要求更严格的范围，如45~55%RH。膜厚测量仪精密温控箱
在高duan制造与科研领域，温度控制的微小偏差正在扼杀技术突破：半导体光刻环节：极紫外（EUV）光刻机要求冷却水温度波动≤±0.001℃。传统机组温度控制±0.5℃的精度会导致光刻胶形变，造成纳米级线宽偏差，单次工艺损失超$50万。冷冻电镜（Cryo-EM）成像：生物样本温度控制需在-180℃下维持±0.1℃稳定性。温度波动超过阈值会使冰晶破坏蛋白质结构，3D重建分辨率从3Å劣化至8Å，研究成果价值归零。高功率激光加工：光纤激光器温度控制漂移＞±0.02℃时，热透镜效应导致光束焦点偏移20μm，碳钢切割断面粗糙度增加300%，废品率飙升。技术本质：传统水冷机组受限于PID控制滞后性、换热器结垢衰减、单点故障风险，无法满足超精密场景的温度控制“零容忍”需求。0.05精密温控公司极测（南京）致力于为芯片半导体、电子信息、光学仪器、精密制造、新能源等行业提供高精密环境解决方案。
这款高精密环控柜是我司单独研发的精密环境控制设备，可达成ISOClass1-6级洁净度，以及±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.002℃等多级温度波动控制精度。依托全场景非标定制能力，能满足用户在温湿度稳定性、洁净度、抗微振、防磁、隔音等多方面的个性化需求。设备具备运行数据实时记录与查询功能，并配备自动安全防护系统，确保长期稳定运行。其构成包括主柜体、控制系统、气流循环系统、洁净过滤器、制冷（热）系统、照明系统及局部气浴等，专为光刻机、激光干涉仪等精密测量与制造设备，提供超高精度的温湿度及洁净度工作环境。该系统采用“外环境保障相对湿度、大环境稳定绝dui含湿量”的逻辑，通过精zhun控温实现仓内湿度达标。为满足严苛要求，采用大风量小温差设计，快速循环过滤空气并带走余热，使关键区域温度波动低至±0.002℃；同时通过多级控温（表冷盘降温+多级电加热升温），将精度从±0.1℃逐步提升至±0.002℃。
高精密环境控制设备是一款自主研发的精密环境控制产品，主要由设备主柜体、控制系统、气流循环系统、洁净过滤器、制冷(热)系统、照明系统、局部气浴等组成，为光刻机、激光干涉仪等精密测量、精密制造设备提供招高精度温湿度、洁净度的工作环境。该设备内部通过风机引导气流以一定的方向循环，控制系统对循环气流的每个环节进行处理，从而使柜内的温湿度达到超高的控制精度。温度稳定性蕞高可达±0.002°C，湿度稳定性蕞高可达±0.3%RH，洁净等级蕞高可实现 ISO class 1级。在一些化学蚀刻工艺中，湿度过高或过低都会影响蚀刻速度和精度，蕞终影响芯片的良品率。
光刻机是半导体制造中的关键设备，其功能是通过光学投影方式，将掩模版上的集成电路图形精确转移到涂有光刻胶的晶圆表面，实现电路图形的图形化转移工序。在芯片制造流程中，光刻环节是蕞为复杂且成本高昂的工艺步骤，其成本占晶圆制造总成本的三分之一，耗时占比达到 40%-60%，直接决定了芯片的制程精度与生产良率。其关键原理是利用高能激光作为光源，光束穿透掩模版后，经过聚光镜系统进行 1/16 比例的缩小，随后精zhun聚焦于晶圆表面，使光刻胶发生感光反应，从而完成电路图形的高精度复制。相当于在头发丝上刻出一座城市的地图，其复杂程度和技术挑战可想而知，也对运行使用环境有极高的要求。极测（南京）高精密环境控制设备确保实验结果的准确性和可靠性，满足光刻机、加速器等设备的恒温需求。黑龙江精密温控场景
系统采用高精密控温算法，能将设备工作区域的温度波动控制在±0.002℃范围内（静态工况下可达±2mK）。膜厚测量仪精密温控箱
半导体制造：光刻工艺的“守护神”在芯片光刻环节，温度波动Jin0.1℃就足以导致光学元件热变形，造成曝光位置漂移。极测精密温控设备提供的±0.002℃恒温环境，使光刻机光学系统保持稳定，直接提升芯片良品率。在蚀刻工艺中，温湿度波动可能引发刻蚀过度或不足。精密温控设备提供的稳定环境保障了刻蚀速率的均匀性，确保芯片电路完整性。航空航天：微米级精度的幕后功臣航空发动机涡轮叶片加工中，0.05℃的温度波动可能导致机床热变形，使叶片加工精度不达标。极测精密温控设备维持的恒温环境，保障了叶片曲面精度和表面质量。在航空航天材料测试环节，设备将湿度波动精确控制在±2%RH内，满足极端严苛的测试要求。光学仪器：纯净与稳定的双重保障在光学镜片研磨中，温度波动会导致研磨盘与镜片材料热膨胀系数差异，影响镜片曲率精度。恒温环境确保研磨精度稳定。同时，洁净环境防止镜片表面污染，避免后续镀膜工序产生缺陷。新能源电池：水分与温度的双重管控在电极涂布工艺中，湿度变化会影响浆料水分含量，导致涂布不均匀。极测精密温控设备提供的±0.5%RH湿度稳定性，确保电极涂布一致性。在电池组装环节，恒温环境避免了不同材料热胀冷缩差异导致的密封不良问题。膜厚测量仪精密温控箱
