RPS基本参数
  • 品牌
  • 晟鼎精密
  • 型号
  • SPR-08
  • 用途
  • 工业用
  • 清洗方式
  • 远程等离子
  • 外形尺寸
  • 467*241*270
  • 产地
  • 广东
  • 厂家
  • 晟鼎
  • 制程气体
  • NF3、O₂、CF4
  • 点火气体/流量/压力
  • 氩气(Ar)/1-6AR sIm/1-8 torr
  • 制程气体流量
  • 8NF3sLm
  • 工作气压
  • 1-10torr
  • 离化率
  • ≥95%
  • 进水温度
  • 30℃
RPS企业商机

RPS远程等离子源在汽车电子中的可靠性保障针对汽车电子功率模块的散热需求,RPS远程等离子源优化了界面处理工艺。通过N2/H2远程等离子体活化氮化铝基板,将热阻从1.2K/W降至0.8K/W。在传感器封装中,采用O2/Ar远程等离子体清洗焊盘,将焊点抗拉强度提升至45MPa,使器件通过3000次温度循环测试(-40℃至125℃)。RPS远程等离子源在航空航天电子中的特殊应用为满足航空航天电子器件的极端可靠性要求,RPS远程等离子源开发了高真空兼容工艺。在SiC功率器件制造中,通过He/O2远程等离子体在10-6Pa真空环境下进行表面处理,将栅氧击穿电场强度提升至12MV/cm。在辐射加固电路中,RPS远程等离子源将界面态密度控制在5×109/cm²·eV以下,确保器件在100krad总剂量辐射下保持正常工作。远程等离子工作时,本身的镀膜工艺是不工作的,没有直接接触有机发光材料,就不会对有机发光材质造成损伤。河北远程等离子源RPS等离子体电源

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高性能光学透镜、激光器和光通信器件对薄膜(如增透膜、高反膜)的附着力和长期稳定性要求极为苛刻。任何微弱的表面污染或附着力不足都可能导致薄膜在温度循环或高能激光照射下脱落。RPS远程等离子源应用领域在此发挥着关键的预处理作用。通过使用氧或氩的远程等离子体产生的自由基,能够在不引入物理损伤的前提下,彻底清洁光学元件表面,并使其表面能比较大化。这个过程能有效打破材料表面的化学键,形成高密度的悬空键和活性位点,使得后续沉积的薄膜能够形成牢固的化学键合,而非较弱的物理吸附。这不仅明显 提升了薄膜的附着力,还减少了界面缺陷,从而改善了光学薄膜的激光损伤阈值(LIDT)和环境耐久性,是制造高级 光学元件的必要工序。浙江晟鼎RPS石英舟处理在纳米材料转移过程中实现支撑层无损去除。

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RPS远程等离子源是一款基于电感耦合等离子体技术的自成一体的原子发生器,它的功能是用于半导体设备工艺腔体原子级别的清洁,使用工艺气体三氟化氮(NF3)/O2,在交变电场和磁场作用下,原材料气体会被解离,从而释放出自由基,活性离子进入工艺室与工艺室上沉积的污染材料(SIO/SIN)或者残余气体(H2O、O2、H2、N2)等物质产生化学反应,聚合为高活性气态分子经过真空泵组抽出处理腔室,提高处理腔室内部洁净度;利用原子的高活性强氧化特性,达到清洗CVD或其他腔室后生产工艺的目的,为了避免不必要的污染和工作人员的强度和高风险的湿式清洗工作,提高生产效率。

服务于航空航天和电动汽车的SiC/GaN功率模块,其散热能力直接决定了系统的输出功率和寿命。功率芯片与散热基板(如DBC)之间的界面热阻是散热路径上的关键瓶颈。RPS远程等离子源应用领域在此环节通过表面活化来优化界面质量。在焊接或烧结前,使用RPS对芯片背面和DBC基板表面进行清洗和活化,能彻底去除有机污染物和弱边界层,并大幅提高表面能。这使得液态焊料或银烧结膏在界面处能实现充分的润湿和铺展,形成致密、均匀且空洞率极低的连接层。一个高质量的连接界面能明显 降低热阻,确保功率器件产生的热量被快速导出,从而允许模块在更高的功率密度和更恶劣的温度环境下稳定运行,满足了车规级AEC-Q101和航空AS9100等严苛标准的要求。RPS远程等离子源在半导体晶圆清洗中实现纳米级无损清洁。

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RPS远程等离子源在医疗器械制造中的洁净保障在手术机器人精密零件清洗中,RPS远程等离子源采用特殊气体配方,将生物相容性提升至ISO10993标准。通过O2/H2O远程等离子体处理,将不锈钢表面细菌附着率降低99.9%。在植入式医疗器械制造中,RPS远程等离子源实现的表面洁净度达到ISO14644-1Class4级别,确保器件通过EC认证要求。RPS远程等离子源在新能源电池制造中的创新工艺在固态电池制造中,RPS远程等离子源通过Li/Ar远程等离子体活化电解质界面,将界面阻抗从1000Ω·cm²降至50Ω·cm²。在锂箔处理中,采用CF4/O2远程等离子体生成人工SEI膜,将循环寿命提升至1000次以上。量产数据显示,采用RPS远程等离子源处理的固态电池,能量密度达500Wh/kg,倍率性能提升3倍。为催化材料研究提供可控表面改性平台。河北半导体设备RPS推荐厂家

在超导腔处理中实现原子级洁净表面制备。河北远程等离子源RPS等离子体电源

远程等离子体源(Remote Plasma Source,RPS)是一种用于产生等离子体的装置,它通常被用于在真空环境中进行表面处理、材料改性、薄膜沉积等工艺。RPS 通过将气体输送到装置中,利用电场或者磁场产生等离子体,然后将等离子体传输到需要处理的表面区域。与传统等离子体源不同的是,RPS 通常不直接接触要处理的表面,而是在一定距离之外产生等离子体,并将等离子体输送到目标表面,因此被称为“远程等离子体源”。远程等离子体源RPS的主要优点在于它可以实现对表面的均匀处理,而且对于一些敏感的表面或者材料,由于远离等离子体,因此减少了对表面的热和化学损伤。此外,远程等离子体源RPS可以被集成到真空处理系统中,使得表面处理和材料改性的工艺更加灵活和高效。河北远程等离子源RPS等离子体电源

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