极测（南京）关键技术市如何适配半导体严苛需求的？毫 K 级控温的技术密码专li级 PID + 逐级控温：通过 “超高精度工艺冷却水系统及其恒温控制方法” 专li，结合自主研发温度采集模块与多级制冷回路设计，实现对蚀刻机腔体温度的±0.001℃级控制，例如在 EUV 光刻机中，可确保光刻胶曝光时的热形变小于 1 纳米；板式换热器强化传热：微通道结构与不锈钢材质提升换热效率 30% 以上，同时避免铜离子污染（半导体行业忌用材质），满足晶圆制造对水质纯净度的要求。抗干扰与快速响应能力双压缩机冗余设计：在晶圆厂 24 小时连续生产中，单压缩机故障时备用模块可在快速自动切入，避免因停机导致的工艺中断；变频技术动态调温：通过压缩机变频调节制冷量，在芯片测试环节面对多工位负载切换时，温度恢复时间很大缩短。半导体洁净室中通常温度需要严格控制在20°C至25°C范围内，且温度波动不能超过±1°C。半导体精密温控箱
极测（南京）技术有限公司的精密水冷冷冻水机组融合多项专li技术，打造超精密温控关键能力：高精密控温技术：动态平衡的 “神经中枢”机组搭载自主研发高精度温度采集模块，实时捕捉供水温度数据并传输至控制器，通过冷冻水阀无级调节与电加热器协同工作，结合PID 算法及逐级控温专li技术实现温度偏差的精zhun计算与动态调节。例如，在半导体极紫外光刻工艺中，该技术可将精密水冷冷冻水机组的出水温度波动控制在±0.001℃，满足纳米级制造对温度稳定性的严苛要求。拓展科技精密温控设计精密测量要求环境高度洁净，以防止微粒、尘埃和颗粒物影响测量精度。可以使用HEPA过滤器、洁净工作台等。
在高duan制造业的关键地带，纳米级芯片、微米级航空叶片、亚波长光学元件的精密制造，对生产环境提出了前所未有的严苛要求。其中，精密温控扮演着决定性角色——一丝微小的温度波动，都可能成为制约良率与性能的关键瓶颈。作为环境控制领域的关键要素，精密温控设备已从幕后走向前台，成为前列制造不可或缺的“精密制造基座”。南京拓展科技旗下企业极测（南京）技术有限公司，凭借二十六载在实验室环境控制领域的技术积淀，推出颠覆行业的精密环控柜系列产品。其高达±0.002℃ 的温控精度与ISO Class 3级洁净度（每立方米≥0.1μm颗粒数≤1，000个），为半导体制造、航空航天、生物医药等战略新兴产业筑起了坚实的“科技堡垒”。
极测（南京）高精密水冷冷冻水机组的 “数字引擎”PT100 温度传感器与PID 控制算法形成基础控温链路，控温精度达 ±0.1℃~±0.01℃；高精密逐级控温专利设计（如分级制冷回路）进一步细化控制层级，部分机型引入自适应模糊控制算法，在激光加工、医疗设备等复杂场景中，将精密水冷冷冻水机组的控温精度提升至±0.001℃（毫 K 级）。
精密水冷冷冻水机组采用板式换热器，其微通道结构与波纹板片设计使传热系数提升 20%~40%，同时具备体积紧凑、易维护等优势；不锈钢 / 铜材质增强耐腐蚀性，适配半导体、医疗等行业对水质与洁净度的高要求；环保冷媒 R410A 的应用，更契合全球绿色制造趋势。
洁净室内的温度波动可能会导致晶圆材料的物理性质发生变化，影响生产精度。
在半导体制造领域，每一纳米的变化都可能直接影响芯片的性能与良率。作为高精度检测的关键环节，半导体量测设备（如电子显微镜、膜厚测量仪、OCD量测等）自身对运行环境的要求也极为苛刻。环境的细微波动，都会引入测量误差。 除整体环境外，半导体量测设备通常配备高精度光学成像器件（广义上的“照相机”），其中光源，电子控制单元，运动部件等都有可能产生局部发热源，蕞终影响环境的稳定性，以及晶圆表面温度稳定性。极测（南京）技术有限公司深刻理解这一需求，凭借在微环境控制领域的深厚技术积累，专为高duan半导体量测设备设计精密环控系统，做好设备配套。系统由设备主柜体（设备维护结构模块）、洁净过滤系统、局部气浴、控制系统、气流循环系统、制冷(热)系统等组成。通过整体环境温度的精密调控，以及针对局部发热点进行局部气浴，配套控制洁净度及减振处理等，为半导体检测设备打造精密稳定，恒温洁净的运行环境。系统可实现蕞高ISO Class 1级的洁净环境（每立方米≥0.1μm颗粒物≤10个）。拓展科技精密温控设计
极测（南京）研发及设计团队，涵盖了产品经理、结构工程师、暖通、电气自控等各类专业人才。半导体精密温控箱
极测的精密温控箱罩专为满足三坐标测量仪等精密设备的严苛环境需求而设计。其具备的 ±0.002℃高精密温度控制能力，犹如为三坐标测量仪构建了一个恒温 “堡垒”。精密温控箱罩运用自主研发的高精密控温技术，确保精密温控箱罩内部温度稳定性关键区域可达 +/-2mK（静态），温度水平均匀性小于 16mK/m。保证测量仪在长时间运行过程中始终保持稳定的测量精度，实现0.1% 的控制输出精度。除了温度控制，精密温控箱罩在湿度和洁净度方面同样表现。精密温控箱罩内部湿度稳定性可达 ±0.5%@8h，避免了因湿度问题导致的测量仪零部件生锈、电子元件短路等故障，延长了设备使用寿命。同时，该系统可实现百级以上洁净度控制，内部洁净度蕞高可优于 ISO class3（设备工作区），有效防止灰尘等微小颗粒附着在测量仪的光学部件或被测工件表面，避免对测量精度造成干扰。半导体精密温控箱
