企业商机
蚀刻液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 产品名称
  • 钼铝钼蚀刻液
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类别
  • 无机酸
  • 产品性状
  • 液态
蚀刻液企业商机

铝蚀刻液是铝蚀刻液STM-AL100。根据查询相关信息显示:铝蚀刻液STM-AL100是一款专为蚀刻铝目的去设计的化学品,STM-AL100的组成有主要蚀刻化学品,添加剂,辅助化学品,对于控制蚀刻均匀以及稳定的蚀刻速率一定的效果,在长效性的表现上更是无话可说.在化学特性上,铝金属容易受到酸性以及碱性的化学品攻击,本化学品设计上为酸性配方且完全可被水溶解,故无须再花额外的成本在废水处理上.用在生产的用途可以调整药液温度来调整蚀刻速率,所以本化学品对于初次使用者来说,是简单容易上手。苏州BOE蚀刻液的价格。合肥天马用的蚀刻液蚀刻液

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该宣泄孔121的上孔径a1与下孔径a2亦不相等,且该上孔径a1小于该下孔径a2,或该宣泄孔121由该第二挡板12的下表面122朝向上表面123的方向渐缩,以维持毛细现象而避免该药液51滴入该基板20上而造成蚀刻不均的问题。当该风刀装置40的***风刀41与该第二风刀42为了减少该基板(本图式未标示)上所残留的药液51而吹出该气体43时,该气体43碰到该挡液板结构10后部分会往该复数个宣泄孔121流动,并朝向该第二挡板12的该上表面123宣泄而出(如图10与图11所示),除了保有原有挡液板的防止该药液51喷溅而造成的显影不均现象,亦可达到避免该气体43在该基板20附近形成涡流而造成真空吸引问题;为了必须避免由该喷洒装置50喷洒而出的药液51滴入该基板20上而造成蚀刻不均的问题,故该复数个宣泄孔121的孔径a0必须要足够小,例如:孔径a0小于3mm,即可因毛细现象的作用,亦即该水滴于该宣泄孔121孔洞内的夹角θ等于该水滴与该第二挡板12的该上表面123所夹的接触角θ4,而达到防止位于该第二挡板12上表面的药液51水滴经由该复数个宣泄孔121滴下至该基板20上(如图12所示)。另请参阅图13所示,为本实用新型蚀刻设备的蚀刻方法的步骤流程图,其中本实用新型蚀刻设备的蚀刻方法主要包括有下列步骤。广州格林达蚀刻液商家哪家的蚀刻液性价比比较高?

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本发明涉及一种用来在铜的存在下选择性地蚀刻钛的蚀刻液及使用该蚀刻液的蚀刻方法。背景技术:以往,在蚀刻钛时一直使用含有氢氟酸或过氧化氢的蚀刻液。例如专利文献1中提出了一种钛的蚀刻液,该钛的蚀刻液是用来在铜或铝的存在下蚀刻钛,并且该蚀刻液的特征在于:利用由10重量%至40重量%的过氧化氢、%至5重量%的磷酸、%至%的膦酸系化合物及氨所构成的水溶液将pH值调整为7至9。但是,含有氢氟酸的蚀刻液存在毒性高的问题,含有过氧化氢的蚀刻液存在缺乏保存稳定性的问题。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特许第4471094号说明书。技术实现要素:发明所要解决的问题本发明是鉴于所述实际情况而成,其目的在于提供一种蚀刻液及使用该蚀刻液的蚀刻方法,所述蚀刻液可在铜的存在下选择性地蚀刻钛,而且毒性低,保存稳定性优异。解决问题的技术手段本发明的蚀刻液是为了在铜的存在下选择性地蚀刻钛而使用,并且含有:选自由硫酸、盐酸及三氯乙酸所组成的群组中的至少一种酸;以及选自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所组成的群组中的至少一种有机硫化合物。所述硫酮系化合物推荐为选自由硫脲、二乙基硫脲及三甲基硫脲所组成的群组中的至少一种。

在上述硅烷系偶联剂的含量处于上述含量范围内的情况下,能够调节添加剂本身凝胶化,且获得合适的sio2防蚀和sin蚀刻性能。(c)水本发明的蚀刻液组合物中所包含的上述水可以为用于半导体工序的去离子水,推荐使用18mω/㎝以上的上述去离子水。上述水的含量可以为使包含本发明的必须成分以及除此以外的其他成分的组合物总重量成为100重量%的余量。推荐可以按照本发明的组合物总重量的2~45重量%来包含。<选择添加剂的方法、由此选择的添加剂及利用其的蚀刻方法>此外,本发明提供选择用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*对上述氮化物膜选择性蚀刻的蚀刻液组合物的添加剂的方法、由此选择的添加剂以及利用该添加剂的蚀刻方法。上述蚀刻液组合物中说明的、对于添加剂选择等的一切内容均可以同样地应用于本发明的选择用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*选择性蚀刻上述氮化物膜的蚀刻液组合物的添加剂的方法、由此选择的添加剂以及利用该添加剂的蚀刻方法。具体而言,提供选择用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*选择性蚀刻上述氮化物膜的蚀刻液组合物的硅烷系偶联剂的方法、由此选择的硅烷系偶联剂以及包含该硅烷系偶联剂的蚀刻方法。蚀刻液,让您的产品更精美,细节更完美。

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银蚀刻液主要用于印刷线路板制造,银器及银合金的蚀刻、标牌制作。二、突出特点1.蚀刻速度快,效率高。使用方便。蚀刻最高速度可达2000纳米/秒。2.可循环使用,无废液排放。三、理化指标外观:液体;气味:微;比重:1.05±0.1;pH:偏碱性四、使用方法1.预处理:如银或铜合金表面不洁净,需对表面进行洁净处理,如除油、除杂等。2.蚀刻:(1).将图案模板纸粘附于银板或银器上,再将银蚀刻液用喷淋设备喷于图案处,时间1分钟到几十分钟不定(用户可根据蚀刻要求自行试验时间,因模板纸不同,时间也不同),揭去模板纸,用清水冲掉残物。(2).用100-200T的丝网,75度硬度的聚酯刮胶,将光固化抗蚀刻油墨印刷在基板上,然后将油墨在紫外灯下光照20—30秒钟,(紫外光能量为1000mj/cm2)。用喷淋的方式进行蚀刻,温度50±5℃,压力1-3kg/cm2时间1分钟到几分钟,(具体时间根据蚀刻深度而定)。然后,用1%--3%的氢氧化钠溶液将光固化抗蚀刻油墨溶解出去。蚀刻液公司的联系方式。成都铜钛蚀刻液蚀刻液推荐厂家

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图7:本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的挡液板结构运作局部放大图。图8:本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图。图9:本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的宣泄孔的表面张力局部放大图。图10:本实用新型蚀刻设备其二较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图。图11:本实用新型蚀刻设备其三较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图。图12:本实用新型挡液板结构其二较佳实施例的宣泄孔的表面张力局部放大图。图13:本实用新型蚀刻方法的步骤流程图。图号说明:传统挡液板结构a挡液板结构b风刀c气体本实用新型1蚀刻设备10挡液板结构11***挡板12第二挡板121宣泄孔1211***壁面1212第二壁面122下表面123上表面13第三挡板20基板30输送装置31滚轮40风刀装置41***风刀42第二风刀43气体50喷洒装置51药液s1步骤一s2步骤二s3步骤三s4步骤四h长度θ夹角θ1***夹角θ2第二夹角θ3第三夹角θ4接触角a0孔径a1上孔径a2下孔径w、w1、w2距离。具体实施方式首先,请参阅图2与图3所示,为本实用新型挡液板结构其一较佳实施例的整体结构示意图,以及宣泄孔排列示意图,其中本实用新型的挡液板结构10适用于一湿式蚀刻机(图式未标示)。合肥天马用的蚀刻液蚀刻液

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