南京拓展科技旗下企业，极测（南京）技术有限公司凭借深厚的技术积淀，精心打造的精密温控箱罩设备，以其蕞高±0.002℃高精密温度控制及可实现洁净度十级以上的能力，成为三坐标测量仪的蕞佳拍档。目前精密温控箱罩已拥有结合全场景非标定制能力，可满足用户不同环境参数及使用需求，比如温湿度稳定性、洁净度，抗微振、防磁、隔音等不同个性化需求。现已服务多家全球半导体、通信设备、显示面板前列企业与国家重点实验室，应用于众多科研与生产场景。 在精密制造与检测领域，三坐标测量仪作为获取高精度尺寸数据的关键设备，其测量精度直接关系到产品质量与生产效率。而要确保三坐标测量仪稳定、精密地运行，精密温控箱罩起着不可或缺的作用。此外，晶圆在高温环境下可能会因为热膨胀而发生变形，影响成品率。吉林步入式精密温控
极测（南京）技术有限公司注重设备的稳定性和可靠性。通过严格的质量检测和优化设计，确保设备在长时间运行过程中保持稳定性能，减少故障发生的概率。同时，极测还提供完善的售后服务，及时响应客户的需求，为客户解决设备使用过程中遇到的问题。 作为精密温控设备供应商，极测（南京）始终将守护半导体制造精度作为使命。凭借前列的技术、可靠的产品和高质量的服务，极测正在成为半导体制造企业信赖的合作伙伴，为推动半导体产业的发展贡献力量。陕西步入式精密温控精密测量需要在恒温条件下进行，因为各种工程材料都有热膨胀性。标准测量温度通常为20℃。
在半导体产业链中，温度波动是导致芯片缺陷的关键因素之一：
蚀刻与沉积环节：极紫外（EUV）光刻、等离子蚀刻等工艺需将温度波动控制在±0.01℃以内，若温度漂移超过阈值，可能导致刻蚀深度不均、薄膜应力开裂等问题；
晶圆生长与加工：硅单晶生长过程中，温度梯度变化会引起晶格缺陷，影响晶圆电学性能；
芯片测试环节：环境温度波动可能导致测试仪器误差增大，造成芯片分选误判。极测精密水冷冷冻水机组以±0.001℃控温精度（远超行业标准）及动态负载适应能力，精zhun解决上述痛点，成为半导体工艺的“温度守护者”。
极测（南京）高精密水冷冷冻水机组的 “数字引擎”PT100 温度传感器与PID 控制算法形成基础控温链路，控温精度达 ±0.1℃~±0.01℃；高精密逐级控温专利设计（如分级制冷回路）进一步细化控制层级，部分机型引入自适应模糊控制算法，在激光加工、医疗设备等复杂场景中，将精密水冷冷冻水机组的控温精度提升至±0.001℃（毫 K 级）。
精密水冷冷冻水机组采用板式换热器，其微通道结构与波纹板片设计使传热系数提升 20%~40%，同时具备体积紧凑、易维护等优势；不锈钢 / 铜材质增强耐腐蚀性，适配半导体、医疗等行业对水质与洁净度的高要求；环保冷媒 R410A 的应用，更契合全球绿色制造趋势。
光学仪器行业通常要求相对湿度控制在40~60%RH之间，某些情况下可能要求更严格的范围，如45~55%RH。
半导体制造中键合设备对环境要求极高，需在恒温、恒湿、高洁净的环境中运行，同时严格控制振动与静电。这些要求旨在确保键合界面的材料活性稳定、设备机械精度达标，避免因温湿度波动导致的键合偏差、颗粒污染引发的界面缺陷或静电损坏芯片，从而保障微米级至亚微米级键合精度及产品良率与可靠性。 精密洁净间的主柜体为内部精密组件构筑起稳固的运作空间；依托高精密控温技术，以0.1%的精密控制输出精度。此外，精密洁净间设备配备的气流循环系统，通过风机驱动气流定向循环，结合高效洁净过滤器，不仅能确保设备内部温度均匀分布，更能达到百级以上的超高洁净标准，工作区域洁净度蕞高优于ISO class3，为半导体光刻机、键合设备等对环境要求严苛的精密仪器，打造了近乎完美的研发生产环境。拥有结合全场景非标定制能力，可满足用户不同环境参数及使用需求.青海刻蚀精密温控
在精密测量领域，细动误差是一个关键问题，它主要由难以察觉的机械振动或外部干扰引起。吉林步入式精密温控
温度稳定性：光刻机内部的光学元件（如镜头、反射镜）和精密机械结构多由对温度极其敏感的材料制成。微小的温度变化会导致材料热胀冷缩，引起光学系统焦距偏移、对准系统失准、机械平台位置漂移，蕞终导致图形扭曲、套刻误差增大，良率骤降。整个光刻区通常处于恒温控制状态。湿度稳定性：湿度过高可能导致光学镜片表面结露、金属部件锈蚀、光刻胶特性改变；湿度过低则容易产生静电，吸附尘埃污染晶圆和设备。精确的湿度控制对确保工艺稳定性和材料性能至关重要。3、chao低振动：光刻机在曝光时需要极高的稳定性。任何来自地面（交通、施工、人员走动）、设备自身（空调、泵）或建筑物（风载荷）的振动，都会直接导致光学系统抖动，使投影到硅片上的图形模糊或位置偏移。因此，光刻机通常安装在深达地下的单独地基或高性能主动/被动隔震平台上，甚至采用磁悬浮等技术进行主动减振。 吉林步入式精密温控
