等离子清洗机基本参数
  • 品牌
  • 达因特,晟鼎精密
  • 型号
  • SPA-5800
  • 用途
  • 工业用,医用,3c行业、显示行业、玻璃行业、新能源行业、汽车行业
  • 加工定制
  • 清洗方式
  • 等离子表面活化
  • 电源
  • 25-40KHz
  • 功率
  • 500-1000W
  • 外形尺寸
  • 580*480*150
  • 重量
  • 12
  • 产地
  • 广东东莞
  • 厂家
  • 晟鼎精密
等离子清洗机企业商机

随着集成电路技术的发展,半导体封装技术也在不断创新和改进,以满足高性能、小型化、高频化、低功耗、以及低成本的要求。等离子处理技术作为一种高效、环保的解决方案,能够满足先进半导体封装的要求,被广泛应用于半导体芯片DB/WB工艺、Flip Chip (FC)倒装工艺中。芯片键合(DieBonding)是指将晶圆上切割下来的单个芯片固定到封装基板上的过程。其目的在于为芯片提供一个稳定的支撑,并确保芯片与外部电路之间的电气和机械连接。常用的方法有树脂粘结、共晶焊接、铅锡合金焊接等。在点胶装片前,基板上如果存在污染物,银胶容易形成圆球状,降低芯片粘结度。因此,在DB工艺前,需要进行等离子处理,提高基板表面的亲水性和粗糙度,有利于银胶的平铺及芯片粘贴,提高封装的可靠性和耐久性。在提升点胶质量的同时可以节省银胶使用量,降低成本。等离子清洗机处理后的时效性会因处理时间、气体反应类型、处理功率大小以及材料材质的不同而有所差异。四川晟鼎等离子清洗机服务电话

等离子清洗机

plasma等离子清洗机原理将产品放入反应腔体内部,启动设备,真空泵将开始抽气,腔体内部气压下降,同时维持放应真空度;启动等离子发生器,腔体内部电极间生产高压交变电场,工艺气体放应生成等离子体;等离子体与物体表面污染物碰撞、反应,生产挥发性物质,被真空泵抽走,从而达到清洁活化的目标。plasma等离子清洗机优势:1、反应过程无需水参与,避免湿法工艺处理后,需要干燥处理的麻烦;2、无需湿法工艺处理后,废水、废弃溶剂的处理,降低了成本;3、表面处理效果强,清洗的同时还能表面活化改性,提高粘合力;4、处理过程短,整个过程反应高效快捷,解决表面处理难题;北京晟鼎等离子清洗机技术指导在光伏电池制程中,等离子表面处理可用于玻璃基板表面活化,阳极表面改性,涂保护膜前处理等。

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在半导体微芯片封装中,微波等离子体清洗和活化技术被应用于提高封装模料的附着力。这包括“顶部”和“倒装芯片底部填充”过程。高活性微波等离子体利用氧自由基的化学功率来修饰各种基底表面:焊料掩模材料、模具钝化层、焊盘以及引线框架表面。这样就消除了模具分层问题,并且通过使用聚乙烯醇的等离子体,不存在静电放电或其他潜在有害副作用的风险。封装器件(如集成电路(ic)和印刷电路板(pcb))的去封装暴露了封装的内部组件。通过解封装打开设备,可以检查模具、互连和其他通常在故障分析期间检查的特征。器件失效分析通常依赖于聚合物封装材料的选择性腐蚀,而不损害金属丝和器件层的完整性。这是通过使用微波等离子体清洁去除封装材料实现的。等离子体的刻蚀性能是高选择性的,不受等离子体刻蚀工艺的影响。

真空等离子清洗机是一种应用于表面处理领域的高级清洗设备,其通过利用等离子体在真空环境中产生的化学反应和物理效应,实现对材料表面的清洗和改性。真空等离子清洗机的工作原理真空等离子清洗机是在真空环境中工作的设备,其主要由真空室、气体供应系统、等离子源、抽气系统和控制系统组成。具体工作原理如下:建立真空:首先通过抽气系统将真空室内的气体抽空,形成高真空环境,以便等离子体的产生和物质的处理。供气系统:在真空室内,气体供应系统提供适当的气体,如氧气、氮气或其他活性气体。等离子体产生:通过高频电源提供电场能量,使气体分子发生电离和激发,形成等离子体。等离子体中含有大量的正离子、电子和自由基等活性物质。清洗过程:等离子体中的活性物质与待处理的材料表面发生化学反应和物理效应,如氧化、还原、离子轰击等,从而实现对表面污染物、有机物和氧化层的清洗和去除。稳定性控制:通过控制系统调节工艺参数,如功率、频率、气体流量和清洗时间等,以确保清洗效果的稳定和可控。设备具备多重保护功能,延长使用寿命。

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目前,在汽车发动机领域,油底壳与曲轴箱、曲轴箱与缸体等密封面通常采用硅胶密封,这些硅胶密封面常因残留有机物(如珩磨油、切削液、清洗液等)造成硅胶的附着力不足,从而导致密封失效,发动机漏油。目前的常规工艺为涂胶前对涂胶面进行人工擦拭,而人工擦拭存在诸多缺点,无法达到清洁的要求。等离子清洗机的应用能够很好地解决这些问题,目前已经应用到光学行业、航空工业、半导体业等领域,并成为关键技术,变得越来越重要。等离子清洗机发动机涂胶面上的应用:发动机涂胶面残留的有机物薄膜,通常为碳氢氧化合物(CHO,);等离子清洗的过程如下:将压缩空气电离成低温等离子体,通过喷枪喷射到涂胶表面,利用等离子体(主要利用压缩空气中的氧气作为反应气体)对有机物的分解作用,将涂胶表面残留的有机物进行分解,以达到清洁目的。反应过程主要有两种:第一种化学反应,将压缩空气电离后获得大量氧等离子体:氧等离子体与有机物作用,把有机物(CHO,)分解成二氧化碳和水,CHyOz+O*→H20+CO2,二种是物理反应,压缩空气电离成等离子体后,等离子体内的高能粒子以高能量、高速度轰击涂胶面表面,使分子分解。适用于实验室研发和小批量生产的多功能机型。吉林plasma等离子清洗机功能

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等离子清洗机在IC封装中的应用:塑封固化前:IC封装的注环氧树脂过程中,污染物的存在还会导致气泡的形成,气泡会使芯片容易在温度变化中损坏,降低芯片的使用寿命。所以,避免塑封过程中形成气泡同样是需解决的问题。芯片与基板在等离子清洗后会更加紧密地和胶体相结合,气泡的形成将减少,同时也可以显著提高元件的特性,引线键合前:芯片在引线框架基板上粘贴后,要经过高温固化,如果这时上面存在污染物,这些氧化物会使引线与芯片及基板之间焊接效果不完全或黏附性差,影响键合强度。等离子清洗运用在引线键合前,会显著提高其表面活性,从而提高键合强度及键合引线的拉力均匀性。在IC封装工艺过程中,芯片表面的氧化物及颗粒污染物会降低产品质量,如果在封装工艺过程中的装片前引线键合前及塑封固化前进行等离子清洗,则可有效去除这些污染物。四川晟鼎等离子清洗机服务电话

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