企业商机
剥离液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类型
  • 醇,醚
  • 产品性状
  • 液态
剥离液企业商机

例如即使为50/50μm以下的线/间距、推荐10/10~40/40μm的线/间距也能除去抗蚀剂。实施例以下,举出实施例对本发明进行详细说明,但本发明不受这些实施例任何限定。实施例1抗蚀剂的剥离液的制备:将以下的表1中记载的成分在水中混合、溶解而制备抗蚀剂的剥离液。【表1】(mol/l)氢氧化钾氢氧化钠异丙基溶纤剂硅酸钾本发明组成:(1)基板制作方法为了提**膜抗蚀剂一基材间的密合,将覆铜层叠板(古河电工(株式会社)制:ccl:电解铜箔gts35μm箔)通过粗化处理(jcu制:ebakemuneobrownnbsii、蚀刻量μm)使表面粗度成为ra约μm。其后,使用干膜抗蚀剂(日立化成制:rd-1225(sap用):25μm厚)实施从层压到图案曝光、显影。向本基板以15μm厚实施镀铜(jcu制:cu-britevl)后,切出50×50mm2作为试验片。需要说明的是,该试验片是在一片上具有以下的表2的l/s的图案部分和黏性部分的试验片。(2)图案基板上残留的抗蚀剂的评价方法上述评价方法中将喷涂运行时间固定在4分钟,按照以下的评价基准评价l/s=20/20~40/40μm的图案部分有无剥离残渣。将其结果示于表2。<剥离残渣的评价基准>(分数)(内容)1:无残渣2:有极少量残渣。使用剥离液,轻松剥离各种材料。杭州中芯国际用剥离液什么价格

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腾田化学技术(上海)技术有限公司(简称:腾田化学),腾田化学坐落于上海五角场万达广场,依托复旦大学·东华大学·华东理工大学·中科院有机所·上海石油商品研究所就相关材料领域建立研发中心,凭借强大的科研实力,多年丰富的研发经验,共同建立化工材料分析中心与新材料研发中心;腾田化学致力于化工行业材料检测、材料分析、配方还原、新领域新材料的研发;加快新项目整体研发进度,缩短研发周期,推动化工产业自主研发的进程.为企业提供一站式服务。腾田化学作为国内的配方及研发技术有限公司,腾田化学技术团队具有丰富研发经验,与多所高校及研究所建立研究性合作平台,拥有前列的技术研发平台、雄厚的科研技术力量以及精密的高科技仪器设备;有标准的图谱库;材料库;完善的数据库;能够有效的解决某些前列领域特殊产品**能性助剂的定性定量分析及研发技术服务,为企业解决在研发中遇到的难题,突破多领域技术瓶颈;并且与化工行业上百家有规模企业建立长期技术合作;腾田化学中心拥有强大的技术研发团队:由数位工程师在新材料前列领域已帮助多家企业解决实际生产问题,协助企业成功自主研发**产品项目很多项。嘉兴什么剥离液好的剥离液的标准是什么。

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砷化镓也有容易被腐蚀的特点,比如碱性的氨水、酸性的盐酸、硫酸、硝酸等。去胶,也成为光刻胶的剥离。即完成光刻镀膜等处理之后,需要去除光刻胶之后进行下一步。有时直接采用+异丙醇的方式就可以去除。但是对于等离子体处理过的光刻胶,一般就比较难去除干净。有的人把加热到60℃,虽然去胶效果快了一些,但是沸点是60℃,挥发的特别快,而且**蒸汽也有易燃的风险,因此找一款去胶效果好的光刻胶剥离液十分有必要。介绍常见的一款剥离液,该剥离液去胶效果好,但是对砷化镓有轻微腐蚀,不易长时间浸泡。工艺参数因产品和光刻胶的种类而不同,但基本上都要加热。

本发明涉及剥离液技术领域:,更具体的说是涉及一种光刻胶剥离液再生方法。背景技术::电子行业飞速发展,光刻胶应用也越来越***。在半导体元器件制造过程中,经过涂敷-显影-蚀刻过程,在底层金属材料上蚀刻出所需线条之后,必须在除去残余光刻胶的同时不能损伤任何基材,才能再进行下道工序。因此,光刻胶的剥离质量也有直接影响着产品的质量。而随着电子行业的发展以及高世代面板的面世,光刻胶剥离液的使用越来越多。剥离液废液中含有光刻胶树脂、水和某些金属杂质,而剥离液废液的处理主要是通过焚烧或者低水平回收,其大量的使用但不能够有效地回收,对环境、资源等都造成了比较大的影响。有鉴于此,申请人研发出以下的对使用后的光刻胶剥离液回收及再生方法。技术实现要素:本发明的目的是提供一种光刻胶剥离液再生方法。为了实现上述目的,本发明采用如下技术方案:本申请公开了一种高世代面板铜制程光刻胶剥离液,包括以下质量组分:光刻胶剥离液再生方法,包括以下步骤:s1:回收剥离液新液使用后的剥离液废液,将剥离液废液经过蒸馏、加压工序,得出剥离液废液的纯化液体;纯化液体中含有酰胺化合物、醇醚化合物以及胺化合物;s2:制备添加剂。哪家的剥离液价格比较低?

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避免接触皮肤、眼睛和衣服;存储:密闭存放在阴凉干燥的地方8.防燥和人员保护极限N-Methyl-2-pyrrolidone80mg/m3(19ml/m3)DFGMAK(peaklimitationcategory-II,2)(Vapour)(skin)10ppmAIHA,TWAN,N-DIMETHYLACETAMIDE-TWA:10ppm,35mg/m3通风:良好的通风措施,保持良好通风人员保护设备:橡胶手套、防护目镜,避免接触皮肤、眼睛、衣服、避免吸入蒸汽压;9.物理和化学性能物理测试:液体颜色:微黄气味:类氨熔点:-24~-23℃沸点:165~204℃闪点:110℃蒸汽压mmHg@20℃蒸汽压密度(空气=1):密度(水=1):粘度:10~200cps水中溶解性:任意比例混溶其它溶剂:溶于部分有机溶剂PH值:10.稳定性与活性稳定性:稳定危险反应:有机和无机酸、强氧化剂、碱金属、强酸混溶性:强氧化剂和酸不能混溶,在高温气压下可与二硫化碳反应避免条件:热、火、火源及混溶11.毒性N-Methyl-2-pyrrolidone实际毒性LD50/口服:3600mg/kgLD50/皮肤接触(兔):8000mg/kgLC50/吸入(鼠):>mg/1/4hN,N-DIMETHYLACETAMIDELD50/口服/鼠:>2000mg/kgLD50/皮肤接触/兔:>。高效剥离液,让光刻胶去除更轻松、更彻底。滁州铝钼铝蚀刻液剥离液销售厂

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需要说明的是,本发明剥离液中,推荐*由上述成分构成,但只要不阻碍本发明的效果,可以含有例如聚氧化烯烷基醚系、硅系的消泡剂等其它成分。以上说明的本发明剥离液可以通过将上述成分溶于水中来制备。需要说明的是,本发明剥离液的ph若为碱性则没有特别限定,但通常**将上述成分溶于水就成为碱性,因此没有特别必要调整ph。另外,本发明剥离液可以通过将上述成分分别分开预先溶于水,成为抗蚀剂的剥离液套件,将它们混合来制备。具体来说,可以举出以包含含有钾盐的第1液和含有溶纤剂的第2液为特征的抗蚀剂的剥离液套件、其中还包含含有硅酸盐的第3液的抗蚀剂的剥离液套件、进而在其中使上述其它成分适当含有于各液中的抗蚀剂的剥离液套件等。通过使用本发明剥离液对施加有抗蚀剂的基材进行处理,抗蚀剂被细小地粉碎。杭州中芯国际用剥离液什么价格

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