为满足半导体行业的快速交付需求，中清航科建立了高效的设备生产与交付体系。采用柔性化生产模式，标准型号切割设备可实现7天内快速发货，定制化设备交付周期控制在30天以内。同时提供门到门安装调试服务，配备专业技术团队全程跟进，确保设备快速投产。在晶圆切割的工艺参数优化方面，中清航科引入实验设计（DOE）方法。通过多因素正交试验，系统分析激光功率、切割速度、焦点位置等参数对切割质量的影响，建立参数优化模型，可在20组实验内找到比较好工艺组合，较传统试错法减少60%的实验次数，加速新工艺开发进程。晶圆切割后清洗设备中清航科专利设计，残留颗粒＜5个/片。浙江碳化硅陶瓷晶圆切割划片
晶圆切割/裂片是芯片制造过程中的重要工序，属于先进封装(advancedpackaging)的后端工艺(back-end)之一，该工序可以将晶圆分割成单个芯片，用于随后的芯片键合。随着技术的不断发展，对高性能和更小型电子器件的需求增加，晶圆切割/裂片精度及效率控制日益不可或缺。晶圆切割的重要性在于它能够在不损坏嵌入其中的精细结构和电路的情况下分离单个芯片，成功与否取决于分离出来的芯片的质量和产量，以及整个过程的效率。为了实现这些目标，目前已经开发了多种切割技术，每种技术都有其独特的优点和缺点。金华sic晶圆切割测试8小时连续切割验证：中清航科设备温度波动≤±0.5℃。
针对晶圆切割过程中的静电防护问题，中清航科的设备采用全流程防静电设计。从晶圆上料的导电吸盘到切割区域的离子风扇，再到下料区的防静电输送轨道，形成完整的静电防护体系，将设备表面静电电压控制在50V以下，有效避免静电对敏感芯片造成的潜在损伤。中清航科的晶圆切割设备具备强大的数据分析能力，内置数据挖掘模块可对历史切割数据进行深度分析，识别影响切割质量的关键因素，如环境温度波动、晶圆批次差异等，并自动生成工艺优化建议。通过持续的数据积累与分析，帮助客户不断提升切割工艺水平，实现持续改进。
针对晶圆切割产生的废料处理难题，中清航科创新设计了闭环回收系统。切割过程中产生的硅渣、切割液等废料，通过管道收集后进行分离处理，硅材料回收率达到95%以上，切割液可循环使用，不仅降低了危废处理成本，还减少了对环境的污染，符合半导体产业的绿色发展理念。在晶圆切割的精度校准方面，中清航科引入了先进的激光干涉测量技术。设备出厂前，会通过高精度激光干涉仪对所有运动轴进行全行程校准，生成误差补偿表，确保设备在全工作范围内的定位精度一致。同时提供定期校准服务，配备便携式校准工具，客户可自行完成日常精度核查，保证设备长期稳定运行。超窄街切割方案中清航科实现30μm道宽，芯片数量提升18%。
半导体晶圆是一种薄而平的半导体材料圆片，组成通常为硅，主要用于制造集成电路（IC）和其他电子器件的基板。晶圆是构建单个电子组件和电路的基础，各种材料和图案层在晶圆上逐层堆叠形成。由于优异的电子特性，硅成为了常用的半导体晶圆材料。根据掺杂物的添加，硅可以作为良好的绝缘体或导体。此外，硅的储量也十分丰富，上述这些特性都使其成为半导体行业的成本效益选择。其他材料如锗、氮化镓（GaN）、砷化镓（GaAs）和碳化硅（SiC）也具有一定的适用场景，但它们的市场份额远小于硅。中清航科切割机远程诊断系统，故障排除时间缩短70%。金华碳化硅晶圆切割划片厂
中清航科真空吸附晶圆托盘，解决超薄晶圆切割变形难题。浙江碳化硅陶瓷晶圆切割划片
在半导体设备国产化替代的浪潮中，中清航科始终坚持自主创新，中心技术100%自主可控。其晶圆切割设备的关键部件如激光发生器、精密导轨、控制系统等均实现国产化量产，不仅摆脱对进口部件的依赖，还将设备交付周期缩短至8周以内，较进口设备缩短50%，为客户抢占市场先机提供有力支持。展望未来，随着3nm及更先进制程的突破，晶圆切割将面临更小尺寸、更高精度的挑战。中清航科已启动下一代原子级精度切割技术的研发，计划通过量子点标记与纳米操控技术，实现10nm以下的切割精度，同时布局晶圆-封装一体化工艺，为半导体产业的持续发展提供前瞻性的技术解决方案，与全球客户共同迈向更微观的制造领域。浙江碳化硅陶瓷晶圆切割划片
