为满足半导体行业的快速交付需求，中清航科建立了高效的设备生产与交付体系。采用柔性化生产模式，标准型号切割设备可实现 7 天内快速发货，定制化设备交付周期控制在 30 天以内。同时提供门到门安装调试服务，配备专业技术团队全程跟进，确保设备快速投产。在晶圆切割的工艺参数优化方面，中清航科引入实验设计（DOE）方法。通过多因素正交试验，系统分析激光功率、切割速度、焦点位置等参数对切割质量的影响，建立参数优化模型，可在 20 组实验内找到比较好工艺组合，较传统试错法减少 60% 的实验次数，加速新工艺开发进程。切割粉尘回收模块中清航科集成，重金属污染减排90%以上。金华碳化硅线晶圆切割刀片
中清航科开放6条全自动切割产线，支持从8英寸化合物半导体到12英寸逻辑晶圆的来料加工。云端订单系统实时追踪进度，平均交货周期48小时，良率承诺99.2%。先进封装RDL层切割易引发铜箔撕裂。中清航科应用超快飞秒激光（脉宽400fs）配合氦气保护，在铜-硅界面形成纳米级熔融区，剥离强度提升5倍。中清航科搭建全球较早切割工艺共享平台，收录3000+材料参数组合。客户输入晶圆类型/厚度/目标良率，自动生成比较好参数包，工艺开发周期缩短90%。
针对小批量多品种的研发型生产需求，中清航科提供柔性化切割解决方案。其模块化设计的切割设备可在 30 分钟内完成不同规格晶圆的换型调整，配合云端工艺数据库，存储超过 1000 种标准工艺参数，工程师可快速调用并微调，大幅缩短新产品导入周期，为科研机构与初创企业提供灵活高效的加工支持。晶圆切割后的检测环节直接关系到后续封装的质量。中清航科将 AI 视觉检测技术与切割设备深度融合，通过深度学习算法自动识别切割面的微裂纹、缺口等缺陷，检测精度达 0.5μm，检测速度提升至每秒 300 个 Die，实现切割与检测的一体化流程，避免不良品流入下道工序造成的浪费。
UV膜残胶导致芯片贴装失效。中清航科研发酶解清洗液，在50℃下选择性分解胶层分子链，30秒清理99.9%残胶且不损伤铝焊盘，替代高污染溶剂清洗。针对3D NAND多层堆叠结构，中清航科采用红外视觉穿透定位+自适应焦距激光，实现128层晶圆的同步切割。垂直对齐精度±1.2μm，层间偏移误差<0.3μm。中清航科绿色方案整合电絮凝+反渗透技术，将切割废水中的硅粉、金属离子分离回收，净化水重复利用率达98%，符合半导体厂零液体排放（ZLD）标准。
在碳化硅晶圆切割领域，由于材料硬度高达莫氏 9 级，传统切割方式面临效率低下的问题。中清航科创新采用超高压水射流与激光复合切割技术，利用水射流的冷却作用抑制激光切割产生的热影响区，同时借助激光的预热作用降低材料强度，使碳化硅晶圆的切割效率提升 3 倍，热影响区控制在 10μm 以内。晶圆切割设备的可靠性是大规模生产的基础保障。中清航科对中心部件进行严格的可靠性测试，其中激光振荡器经过 10 万小时连续运行验证，机械导轨的寿命测试达到 200 万次往复运动无故障。设备平均无故障时间（MTBF）突破 1000 小时，远超行业 800 小时的平均水平，为客户提供稳定可靠的生产保障。针对柔性晶圆，中清航科开发低温切割工艺避免材料变性。台州碳化硅陶瓷晶圆切割宽度
复合材料晶圆切割选中清航科多工艺集成设备，兼容激光与刀片。金华碳化硅线晶圆切割刀片
晶圆切割的工艺参数设置需要丰富的经验积累，中清航科开发的智能工艺推荐系统，基于千万级切割数据训练而成。只需输入晶圆材料、厚度、切割道宽等基本参数，系统就能自动生成比较好的切割方案，包括激光功率、切割速度、聚焦位置等关键参数，新手操作人员也能快速达到工程师的工艺水平，大幅降低技术门槛。半导体产业对设备的占地面积有着严格要求，中清航科采用紧凑型设计理念，将晶圆切割设备的占地面积控制在 2 平方米以内，较传统设备减少 40%。在有限空间内，通过巧妙的结构布局实现全部功能集成，同时预留扩展接口，方便后续根据产能需求增加模块，满足不同规模生产车间的布局需求。金华碳化硅线晶圆切割刀片
