晶圆切割是半导体封装的中心环节，传统刀片切割通过金刚石砂轮实现材料分离。中清航科研发的超薄刀片（厚度15-20μm）结合主动冷却系统，将切割道宽度压缩至30μm以内，崩边控制在5μm以下。我们的高刚性主轴技术可适配8/12英寸晶圆，切割速度提升40%，为LED、MEMS器件提供经济高效的解决方案。针对超薄晶圆（<50μm）易碎裂难题，中清航科激光隐形切割系统采用红外脉冲激光在晶圆内部形成改性层，通过扩张膜实现无应力分离。该技术消除机械切割导致的微裂纹，良率提升至99.3%，尤其适用于存储芯片、CIS等器件，助力客户降低材料损耗成本。中清航科真空吸附晶圆托盘，解决超薄晶圆切割变形难题。无锡12英寸半导体晶圆切割蓝膜
中清航科创新性推出“激光预划+机械精切”复合方案：先以激光在晶圆表面形成引导槽，再用超薄刀片完成切割。此工艺结合激光精度与刀切效率，解决化合物半导体（如GaAs、SiC）的脆性开裂问题，加工成本较纯激光方案降低35%。大尺寸晶圆切割面临翘曲变形、应力集中等痛点。中清航科全自动切割机配备多轴联动补偿系统，通过实时监测晶圆形变动态调整切割参数。搭配吸附托盘，将12英寸晶圆平整度误差控制在±2μm内，支持3D NAND多层堆叠结构加工。湖州碳化硅陶瓷晶圆切割测试中清航科切割冷却系统专利设计，温差梯度控制在0.3℃/mm。
中清航科开放6条全自动切割产线，支持从8英寸化合物半导体到12英寸逻辑晶圆的来料加工。云端订单系统实时追踪进度，平均交货周期48小时，良率承诺99.2%。先进封装RDL层切割易引发铜箔撕裂。中清航科应用超快飞秒激光（脉宽400fs）配合氦气保护，在铜-硅界面形成纳米级熔融区，剥离强度提升5倍。中清航科搭建全球较早切割工艺共享平台，收录3000+材料参数组合。客户输入晶圆类型/厚度/目标良率，自动生成比较好参数包，工艺开发周期缩短90%。
在晶圆切割的批量一致性控制方面，中清航科采用统计过程控制（SPC）技术。设备实时采集每片晶圆的切割尺寸数据，通过 SPC 软件进行分析，绘制控制图，及时发现过程中的异常波动，并自动调整相关参数，使切割尺寸的标准差控制在 1μm 以内，确保批量产品的一致性。针对薄晶圆切割后的搬运难题，中清航科开发了无损搬运系统。采用特制的真空吸盘与轻柔的取放机构，配合视觉引导，实现薄晶圆的平稳搬运，避免搬运过程中的弯曲与破损。该系统可集成到切割设备中，也可作为单独模块与其他设备对接，提高薄晶圆的处理能力。中清航科推出切割废料回收服务，晶圆利用率提升至99.1%。
中清航科设备搭载AI参数推荐引擎，通过分析晶圆MAP图自动匹配切割速度、进给量及冷却流量。机器学习模型基于10万+案例库持续优化，将工艺调试时间从48小时缩短至2小时，快速响应客户多品种、小批量需求。SiC材料硬度高、脆性大，传统切割良率不足80%。中清航科采用激光诱导劈裂技术（LIPS），通过精确控制激光热影响区引发材料沿晶向解理，切割速度达200mm/s，崩边<10μm，满足新能源汽车功率器件严苛标准。中清航科提供从晶圆贴膜、切割到清洗的全流程自动化方案。机械手联动精度±5μm，兼容SECS/GEM协议实现MES系统对接。模块化设计支持产能弹性扩展，单线UPH（每小时产能）提升至120片，人力成本降低70%。切割刀痕深度控制中清航科技术达±0.2μm，减少后续研磨量。绍兴12英寸半导体晶圆切割划片
晶圆切割培训课程中清航科每月开放，已认证工程师超800名。无锡12英寸半导体晶圆切割蓝膜
随着半导体市场需求的快速变化，产品迭代周期不断缩短，这对晶圆切割的快速响应能力提出更高要求。中清航科建立了快速工艺开发团队，承诺在收到客户新样品后 72 小时内完成切割工艺验证，并提供工艺报告与样品测试数据，帮助客户加速新产品研发进程，抢占市场先机。晶圆切割设备的操作安全性至关重要，中清航科严格遵循 SEMI S2 安全标准，在设备设计中融入多重安全保护机制。包括激光安全联锁、急停按钮、防护门检测、过载保护等，同时配备安全警示系统，实时显示设备运行状态与潜在风险，确保操作人员的人身安全与设备的安全运行。无锡12英寸半导体晶圆切割蓝膜
