旋片泵的旋片把转子、泵腔和两个端盖所围成的月牙形空间分隔成A、B、C三部分。当转子按箭头方向旋转时,与吸气口相通的空间A的容积逐渐增大,正处于吸气过程;而与排气口相通的空间C的容积逐渐缩小,正处于排气过程;居中的空间B的容积也逐渐减小,正处于压缩过程。由于空间A的容积逐渐增大(即膨胀),气体压强降低,泵的入口处外部气体压强大于空间A内的压强,因此将气体吸入。当空间A与吸气口隔绝时,即转至空间B的位置,气体开始被压缩,容积逐渐缩小,***与排气口相通。当被压缩气体超过排气压强时,排气阀被压缩气体推开,气体穿过油箱内的油层排至大气中。如果排出的气体通过气道而转入另一级(低真空级),由低真空级抽走,再经低真空级压缩后排至大气中,即组成了双级泵。真空计原理及测量范围是?皮拉尼真空计设备公司

真空测量就是真空度的测量,而真空度(详细注释见前文:知识分享②|真空如何获得?)是指低于大气压力注释的气体稀薄程度的物理量。通常,将用以探测低压空间稀薄气体压力所用的仪器称为真空计。注释:大气压力:通常指一个标准大气压,压强的单位之一。当温度为0℃(273.15K)时,在重力加速度为980.655cm/s2处(即在地球纬度为45°的海平面上),使用**的密度为13.5951g/cm3,则760mm高的**柱所产生的压强为1标准大气压。1毫米汞柱(mmHg)和1托(Torr)相近,两者相差约千万分之一。1mmHg=1Torr=133.3Pa一个标准大气压1atm=101325Pa=760mmHg=1.01325bar=760Torr广东大气压真空计设备供应商选择真空计的原则有哪些?

真空计的现代发展技术进步:随着半导体和微机电系统(MEMS)技术的不断进步,真空计的精度和稳定性得到了提升,推动了新一代高性能真空计的研发和应用。智能化:现代真空计越来越多地集成了智能化功能,能够实时监测、分析和反馈数据,提高了用户的操作便利性和系统的整体效率。随着半导体和微机电系统(MEMS)技术的不断进步,真空计的精度和稳定性得到了提升,推动了新一代高性能真空计的研发和应用。智能化:现代真空计越来越多地集成了智能化功能,能够实时监测、分析和反馈数据,提高了用户的操作便利性和系统的整体效率。
热阴极电离真空计(Bayard-Alpert计)通过加热阴极(铱合金或氧化钇涂层钨丝)发射电子,电子撞击气体分子产生离子,离子电流与压力成正比。量程10⁻¹~10⁻⁸ Pa,精度±20%。需避免氧气环境导致阴极氧化,且高压(>1 Pa)下可能烧毁灯丝。改进型抑制规(Suppressor Gauge)通过电极设计减少X射线效应,可测至10⁻¹⁰ Pa。4. 冷阴极电离真空计(潘宁规)利用磁场约束放电产生离子,无需加热阴极。量程1~10⁻⁷ Pa,抗污染能力强,但启动压力需<1 Pa(需预抽真空)。放电不稳定可能导致读数波动±30%。逆磁控管设计提升灵敏度,用于半导体设备监控。其寿命可达10万小时,但强磁场可能干扰周围仪器。真空计如何达到使用寿命长久化?

真空计的基本分类真空计按测量原理分为***真空计(直接测量压力)和相对真空计(需校准)。主要类型包括机械式(如波登管)、热传导式(皮拉尼计)、电离式(热阴极/冷阴极)、电容式(MEMS)等。选择时需考虑量程(如皮拉尼计适用于1Pa~10⁻⁴Pa)、精度(±1%~±15%)、气体类型兼容性(惰性气体需特殊校准)及环境振动影响。国际标准ISO3567定义了真空计的性能测试方法。
皮拉尼计(热传导真空计)基于气体热传导率随压力变化的原理,通过加热电阻丝(通常为钨或铂)测量其温度变化。低压下气体分子少,热导率降低,电阻丝温度升高导致电阻变化。量程通常为1000 Pa~10⁻¹ Pa,精度±10%。需注意气体种类影响(氢气热导率高,读数偏低),且长期使用可能因污染导致零点漂移。现代皮拉尼计集成温度补偿算法,稳定性可达±1%/年。3. 热阴极电离真空计(Bay 皮拉尼真空计是一种用于测量真空压力的仪器。安徽mems电容真空计供应商
真空计使用时应该注意什么?皮拉尼真空计设备公司
金属薄膜真空计性能特点高灵敏度:金属薄膜真空计通常具有较高的灵敏度,能够准确测量微小的压力变化。宽测量范围:虽然具体范围取决于金属薄膜的材质和厚度,但金属薄膜真空计通常具有较宽的测量范围,适用于从低真空到高真空的不同环境。稳定性好:在适当的维护下,金属薄膜真空计具有良好的稳定性,能够长时间保持测量精度。抗污染能力强:相对于某些其他类型的真空计,金属薄膜真空计对污染的敏感性较低,能够在一定程度上抵抗污染物的干扰。皮拉尼真空计设备公司
真空泵的工作原理真空泵通过机械或物理方式移除气体分子。旋片泵通过旋转叶片压缩气体排出;涡轮分子泵利用高速叶片撞击气体分子;低温泵则通过冷却表面吸附气体。干泵无油污染,适合洁净环境;扩散泵通过油蒸气喷射带走气体,需配合冷阱使用。选择泵需考虑极限真空、抽速和气体类型。4. 真空在半导体制造中的应用芯片制造需10⁻⁷ Pa超高真空环境。光刻机通过真空避免空气散射紫外线;离子注入在真空中加速掺杂原子;分子束外延(MBE)逐层生长晶体。真空减少杂质污染,确保纳米级精度。一台EUV光刻机包含数十个真空腔室,真空稳定性直接影响5nm以下制程良率。真空计使用时应该注意什么?温州金属真空计公司陶瓷真空计是一种用...