工业超精密VACUM CHUCK

刀片/刀具/（BLADE/CUTTER/KNIFE）微泰生产和供应用于MLCC的各种工业刀具，包括垂直刀片、刀轮刀具、修剪刀片和镜头刀具。我们拥有制造刀片的自主技术，并拥有使用飞秒激光的切割机边缘校正技术，飞秒激光抛光技术，实现了无比锋利和提高使用寿命。刀锋（刀刃）的无凹痕、无缺陷的边缘。通过自动化检测设备进行管理，并以很高水平的光照度和直度进行管理。应用MLCC切割，相机模块+垂直刀片，刀轮切割器，镜头浇注口修整刀片、透镜切割器。特别是塑料镜头浇注口切割刀片占韩国市场90%以上。超精密激光切割集切割、雕刻、镂空等工艺于一身，可以满足各类材料的切割打孔，以及其他工艺需求。工业超精密VACUM CHUCK

微泰利用先进的飞秒激光螺旋钻孔系统和独有ELID（电解在线砂轮修正技术），飞秒激光抛光技术，生产各种超精密零部件。用于半导体加工真空板薄膜真空板倒装芯片工艺真空块MLCC贴合用真空板薄膜芯片粘接工具，镜头模组组装治具。超精密刀片特性，材料：碳化钨、氧化锆等。刀刃对称性：低于3um，刀片厚度（t1）：100um刀片边缘粗糙度：Ra0.02um，刀刃厚度（t2）：低于0.2um角度（0）精度：±0.3°刀刃直线度：低于5um。MLCC刀具方面，生产MLCC垂直刀片，MLCC轮刀，MLCC修剪刀片，其特点是1，刀刃锋利。2，与现有产品相比，耐用性提高了50%。材料采用超细碳化钨，具有1，高耐磨性。2，耐碎裂。特别是超薄，超锋利的镜头切割器，光滑无毛边地切割塑料镜片的浇口，占韩国塑料镜头切割刀具90%以上的市场。微米级超精密钻孔从加工周期来看，激光超精密加工操作简单，切缝宽度方便调控，可立即进行高速雕刻和切割、加工速度快。

精密加工小知识：IT是加工精度的衡量单位，主要为衡量生产产品的精度、品质、加工误差。IT后面的数值愈大，表示精度越低、误差越大，如IT9就比IT5来的粗糙；公差等级从IT01，IT0，IT1，IT2，IT3至IT18一共有20个。精密加工技术特色介绍随着时代变化，工业能力的不断进步，有可能现在的精密加工也会变成明天的粗加工。常见工艺过程有：车削、铣削、钻孔、插齿、珩磨、磨削等；若有特殊需求，在车床加工完后还会多一道热处理的方式，包括：渗碳，淬火，回火等，提升硬度、机械规格。目前精密加工技术能应用在「所有的」金属材料、塑料、木材、石磨与玻璃上，但由于不同材质的表面都有所差异，所以切割与研磨等数值都需在CAD（计算机辅助设计）或CAM（计算机辅助制造）程序上架构好，并严格遵守才能确保产品品质、降低误差。由于材料范围广且精度高，精度加工技术普遍会应用在航太业、医疗器材、太阳能板零件等。此外，当精密加工已无法达到更好的形状精度(formaccuracy)、表面粗糙度(surfaceroughness)与尺寸精度时，就会需要使用到超精密加工的技术。

(4)超精密机电系统器件加工。微机电系统(ME—MS)是从集成电路制造技术发展起来的新兴机电产品，如微小型传感器、执行器等。硅光刻技术、LIGA技术和其它微细加工技术的生产设备、检测设备都是超精密加工的产品。超精密加工技术的发展及分析超精密加工技术是以高精度为目标的技术，它必须综合应用各种新技术，在各个方面精益求精的条件下，才有可能突破常规技术达不到的精度界限，达到新的高精度指标。近20年来超精密加工技术在以下几个方面有很大的进展：①超精密加工机床技术;②超精密加工刀具及加工工艺技术;③超精密加工的测量与控制技术;④超精密加工环境控制(包括恒温、隔热、洁净控制等)。超精密加工机床的设计与制造技术超精密激光加工是先进的加工技术，它利用高效激光对材料进行雕刻和切割，主要的设备包括电脑和激光切割机。

20世纪60年代为了适应核能、大规模集成电路、激光和航天等技术的需要而发展起来的精度极高的一种加工技术。到80年代初，其加工尺寸精度已可达10纳米（1纳米=0.001微米）级，表面粗糙度达1纳米，加工的小尺寸达 1微米，正在向纳米级加工尺寸精度的目标前进。纳米级的超精密加工也称为纳米工艺(nano-technology) 。超精密加工是处于发展中的跨学科综合技术。20 世纪 50 年代至 80 年代为技术开创期。20 世纪 50 年代末，出于航天等技术发展的需要，美国率先发展了超精密加工技术，开发了金刚石刀具超精密切削——单点金刚石切削(Single point diamond turning，SPDT)技术，又称为“微英寸技术”，用于加工激光核聚变反射镜、战术导弹及载人飞船用球面、非球面大型零件等。超精密加工技术能辅助的产业很广，机械、汽车、半导体，只要想提升产品的精致度，就需仰赖精密加工的辅助。代工超精密晶圆卡盘

激光超精密切割的加工特点是速度快，切口光滑平整，一般无需后续加工;切割热影响区小，板材变形小。工业超精密VACUM CHUCK

微泰真空卡盘精密的半导体晶圆真空吸盘是半导体制造设备的关键部件，可确保晶圆表面的平坦度和平行度，从而在半导体制造过程中安全地固定晶圆，使各种制造过程顺利进行。微泰使无氧铜、铝、SUS材料的半导体晶圆真空吸盘的平坦度保持在3微米以下；支持6英寸、8英寸和12英寸尺寸的晶圆加工；支持2层和3层的高级加工技术。提供4层连接。尺寸：6英寸，8英寸.12英寸。材料:AL6061,AL7075,SUS304,SUS316OFHC(OxygenfreeHighConductivityCopper)平面度公差：小于3um连接:2floor,3floor,4floor表面处理:Anodizing,ElectrolessNickelPlating,GoldPlating,MirrorPolishing。无氧铜(OFHC)半导体晶圆真空卡盘，无氧铜(OFHC)材料可延长晶圆卡盘的使用寿命，并可MAX限度地减少杂质进入半导体材料，从而防止潜在污染，而且易于加工和成型，可精确匹配卡盘设计。可加工。然而，这种材料的加工要求极高，需要特别小心和精确才能获得光滑的表面光洁度，例如翘曲或毛刺、易变形和加工过程中的硬化。工业超精密VACUM CHUCK