等离子清洗机基本参数
  • 品牌
  • 达因特,晟鼎精密
  • 型号
  • SPA-5800
  • 用途
  • 工业用,医用,3c行业、显示行业、玻璃行业、新能源行业、汽车行业
  • 加工定制
  • 清洗方式
  • 等离子表面活化
  • 电源
  • 25-40KHz
  • 功率
  • 500-1000W
  • 外形尺寸
  • 580*480*150
  • 重量
  • 12
  • 产地
  • 广东东莞
  • 厂家
  • 晟鼎精密
等离子清洗机企业商机

等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态3种状态存在,但在一些特殊的情况下可以以第四中状态存在,如太阳表面的物质和地球大气中电离层中的物质。这类物质所处的状态称为等离子体状态,又称为物质的第四态。等离子体中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于jihuo状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;分子解离反应过程中生成的紫外线;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。等离子设备清洗机的作用就是对表面处理,为客户解决表面处理难题。北京大气等离子清洗机性能

等离子清洗机

封装过程中的污染物,可以通过离子清洗机处理,它主要是通过活性等离子体对材料表面进行物理轰击或化学反应来去除材料表面污染,但射频等离子技术因处理温度、等离子密度等技术因素,已无法满足先进封装的技术需求,因此,更推荐大家使用微波等离子清洗技术~微波等离子清洗机的优势处理温度低于45℃:避免对芯片产生热损害等离子体不带电:对精密电路无电破坏。在芯片封装工艺中,芯片粘接/共晶→引线焊接→封装→Mark等工艺环节,均推荐使用微波等离子清洗机,无损精密器件、不影响上道工艺性能,助力芯片封装质量有效提升。安徽晶圆等离子清洗机生产厂家等离子处理通过在介质中产生等离子体,利用等离子体的高能离子轰击表面,从而改变表面性质。

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随着集成电路技术的发展,半导体封装技术也在不断创新和改进,以满足高性能、小型化、高频化、低功耗、以及低成本的要求。等离子处理技术作为一种高效、环保的解决方案,能够满足先进半导体封装的要求,被广泛应用于半导体芯片DB/WB工艺、Flip Chip (FC)倒装工艺中。芯片键合(DieBonding)是指将晶圆上切割下来的单个芯片固定到封装基板上的过程。其目的在于为芯片提供一个稳定的支撑,并确保芯片与外部电路之间的电气和机械连接。常用的方法有树脂粘结、共晶焊接、铅锡合金焊接等。在点胶装片前,基板上如果存在污染物,银胶容易形成圆球状,降低芯片粘结度。因此,在DB工艺前,需要进行等离子处理,提高基板表面的亲水性和粗糙度,有利于银胶的平铺及芯片粘贴,提高封装的可靠性和耐久性。在提升点胶质量的同时可以节省银胶使用量,降低成本。

plasma等离子清洗机原理将产品放入反应腔体内部,启动设备,真空泵将开始抽气,腔体内部气压下降,同时维持放应真空度;启动等离子发生器,腔体内部电极间生产高压交变电场,工艺气体放应生成等离子体;等离子体与物体表面污染物碰撞、反应,生产挥发性物质,被真空泵抽走,从而达到清洁活化的目标。plasma等离子清洗机优势:1、反应过程无需水参与,避免湿法工艺处理后,需要干燥处理的麻烦;2、无需湿法工艺处理后,废水、废弃溶剂的处理,降低了成本;3、表面处理效果强,清洗的同时还能表面活化改性,提高粘合力;4、处理过程短,整个过程反应高效快捷,解决表面处理难题;等离子表面处理技术可以保障处理面效果均匀,从而提高材料的表面质量和一致性。

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片式真空等离子清洗机针对半导体行业,DB/WB工艺、RDL工艺、Molding工艺、FlipChip(FC)倒装工艺等,能够大幅提高其表面润湿性,保证后续工艺质量,从而提高封装工艺的可靠性。设备优势:1.一体式电极板结构设计,等离子体密度高,均匀性好,处理效果佳2.双工位处理平台,四轨道同时上料,有效提升产能3.可兼容多种弹匣尺寸,可自动调节宽度,提升效率并具备弹匣有无或装满报警提示功能4.工控系统控制,一键式操作,自动化程度高。行业应用:1.金属键合前处理:去除金属焊盘上的有机污染物,提高焊接工艺的强度和可靠性2.LED行业:点银胶、固晶、引线键合前、LED封装等工序中可提高粘和强度,减少气泡,提高发光率3.PCB/FPC行业:金属键合前、塑封前、底部填充前处理、光刻胶去除、基板表面活化、镀膜,去除静电及有机污染物等离子体处理可以解决TPE喷漆附着困难的问题。福建plasma等离子清洗机服务电话

在使用等离子清洗机的时候,我们也需要注意一些事项,以确保其正常运行和使用效果。北京大气等离子清洗机性能

等离子清洗机(plasma cleaner)是高科技的一款表面处理设备,通过等离子体来达到表面处理的作用;获得清洗、活化、刻蚀、涂层等多方向的应用,解决各种行业的表面处理难题。1、等离子清洗机原理密闭的反应腔体(真空室、真空腔体)被真空泵不断抽气,从1个标准大气压下降到设定的压力值并维持真空度;通入氩、氢、氮气等工艺气体,启动等离子发生器,让反应腔体内电极之间产生高压交变电场,使得自由电子能量加速,去激发工艺气体分子形成等离子体,具有高反应活性或高能量的等离子体,会与有机污染物及微颗粒污染物反应、碰撞形成各种挥发性物质,这些挥发性物质伴随工艺气流由真空泵抽取出去,从而达到被处理对象表面清洁、活化等目的。北京大气等离子清洗机性能

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