在集成电路制造这一高精密的领域中，芯片生产线上的光刻工序堪称关键的环节，其对温湿度的要求近乎达到苛刻的程度。即便是极其微小的 1℃温度波动，都可能引发严重后果。光刻机内部的光学镜片会因热胀冷缩，致使光路发生细微偏移。这看似毫厘之差，却足以让光刻图案精度严重受损，使得芯片上的电路布线出现偏差，甚至短路等问题，进而大幅拉低芯片的良品率。而在湿度方面，一旦湿度突破 50% 的警戒线，光刻胶便极易受潮，其感光度发生改变，导致曝光效果大打折扣，无疑同样对芯片质量产生不可忽视的负面影响。设备采用EC 风机，运行时更加静音，高效。芯片蚀刻温湿度空调
光刻设备对温湿度的要求也极高，光源发出的光线需经过一系列复杂的光学系统聚焦到硅片表面特定区域，以实现对光刻胶的曝光，将设计好的电路图案印制上去。当环境温度出现极其微小的波动，哪怕只是零点几摄氏度的变化，光刻机内部的精密光学元件就会因热胀冷缩特性而产生细微的尺寸改变。这些光学元件包括镜片、反射镜等，它们的微小位移或形状变化，会使得光路发生偏差。原本校准、聚焦于硅片特定坐标的光线，就可能因为光路的改变而偏离预定的曝光位置，出现曝光位置的漂移。精密测量温湿度波动度高精密温湿度控制设备内部湿度稳定性可达±0.5%@8h。
在精密机械加工领域，高精度数控机床是加工航空发动机叶片等关键零部件的重要装备，其加工精度直接影响航空发动机性能。温湿度波动对加工过程影响明显。若温度不稳定，机床的主轴、导轨等关键部件会因热胀冷缩产生热变形，导致刀具切削路径偏离预设轨迹，加工出的叶片曲面精度无法达到设计标准，进而影响发动机性能。当车间湿度升高，金属切削刀具容易生锈，刀具使用寿命缩短，且加工表面粗糙度增加，难以满足精密零件对表面质量的严格要求 。
在计量校准实验室中，高精度的电子天平用于精确称量微小质量差异，对环境温湿度要求极高。若温度突然升高 2℃，天平内部的金属部件受热膨胀，传感器的灵敏度随之改变，原本能测量到微克级别的质量变化，此时却出现读数偏差，导致测量结果失准。湿度方面，当湿度上升至 70% 以上，空气中的水汽容易吸附在天平的称量盘及内部精密机械结构上，增加了额外的重量，使得测量数据偏大，无法反映被测量物体的真实质量，进而影响科研实验数据的可靠性以及工业生产中原材料配比度。系统详细记录运行信息，无论是日常运行还是突发故障，查询检索都能准确定位所需。
我司自主研发的高精密控温技术，控制输出精度达 0.1%，能精细掌控温度变化。温度波动控制可选 ±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等多档，满足严苛温度需求。该系统洁净度表现优异，可达百级、十级、一级。关键区域静态温度稳定性 ±5mK，内部温度均匀性小于 16mK/m，为芯片研发等敏感项目营造理想温场，保障实验数据不受温度干扰。湿度方面，8 小时内稳定性可达 ±0.5%；压力稳定性为 +/-3Pa，设备还能连续稳定工作 144 小时，助力长时间实验与制造。在洁净度上，工作区洁净度优于 ISO class3，既确保实验结果准确可靠，又保障精密仪器正常工作与使用寿命，推动科研与生产进步。自面世以来，已为相关领域客户提供了稳定的实验室环境以及监测服务，获得了众多好评。芯片蚀刻温湿度空调
这些高精度传感器能够精确感知环境参数的变化，为精确控制提供基础。芯片蚀刻温湿度空调
在芯片这一高科技产品的复杂生产流程里，众多环节对温湿度的波动展现出了近乎苛刻的精密度要求。光刻过程中，利用高精度的光刻设备，将预先设计好的复杂电路图案转移至硅片表面。温度的稳定性起着决定性作用，哪怕有零点几摄氏度的微小波动，都会使光刻胶内部的化学反应速率产生偏差。光刻胶作为一种对光敏感的高分子材料，其反应速率的改变将直接作用于光刻成像效果，致使图案边缘模糊、线条粗细不均，进而让芯片上的线路出现偏差，甚至引发短路故障，让前期投入的大量人力、物力和时间付诸东流。与此同时，湿度因素同样不可小觑。光刻车间若湿度偏高，水汽极易渗透至光刻胶内部，使其含水量上升，感光度随之降低，如同给精密的 “光刻镜头” 蒙上一层雾霭，严重影响光刻精度，导致芯片良品率大打折扣，大幅增加生产成本。芯片蚀刻温湿度空调
