等离子清洗机基本参数
  • 品牌
  • 达因特,晟鼎精密
  • 型号
  • SPA-5800
  • 用途
  • 工业用,医用,3c行业、显示行业、玻璃行业、新能源行业、汽车行业
  • 加工定制
  • 清洗方式
  • 等离子表面活化
  • 电源
  • 25-40KHz
  • 功率
  • 500-1000W
  • 外形尺寸
  • 580*480*150
  • 重量
  • 12
  • 产地
  • 广东东莞
  • 厂家
  • 晟鼎精密
等离子清洗机企业商机

等离子清洗是一种环保工艺,由于采用电能催化反应,同时利用低温等离子体的特性,可以提供一个低温环境,排除了湿式化学清洗所产生的危险和废液,安全、可靠、环保。与传统的溶剂清洗不同,等离子清洗无需水及溶剂添加,依靠等离子体的“活化作用”达到清洗材料表面的目的,清洗效果彻底并保证材料的表面及本体特性不受影响。等离子清洗技术容易实现智能化控制,可装配高精度的控制装置,控制时间,及等离子强度。更重要的是,等离子清洗技术不分处理对象的材料类型,对半导体、金属和大多数高分子材料均有很好的处理效果,可实现整体和局部以及复杂结构的精密清洗。利用等离子体反应特性能够高效去除表面污染层,包括有机物、无机物、氧化物等,同时不会对表面造成损伤。重庆晟鼎等离子清洗机厂商

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等离子清洗机应用领域1.汽车行业:点火线圈骨架表面活化、汽车门窗密封件的处理、控制面板在粘合前处理、内饰皮革包裹、内饰植绒前处理等等;2.医疗行业:培养皿表面活化、医疗导管粘接前处理、输液器粘接前的处理、酶标板的表面活化等等;3.新能源行业:新能源电池电芯的表面处理、电池蓝膜的表面处理、电池表面粘接前的处理等等;4.电子行业:芯片表面处理、封装前的预处理、各类电子器件粘接前处理、支架及基板的表面处理等等;等离子清洗机设计的行业非常的大,在用户遇到,表面粘接力、亲水性、印刷困难、涂覆不均匀等等问题,都可以尝试等离子清洗机的表面处理,通过表面活化、改性的方式解决问题。贵州晶圆等离子清洗机要多少钱plasma等离子清洗机是一款通过plasma(等离子体)进行表面处理的设备。

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等离子表面处理技术在光伏电池制程中也有着广泛的应用,可用于玻璃基板表面活化,阳极表面改性,涂保护膜前处理等,在提高光伏元件表面亲水性、附着力等方面具有明显的优势。大气等离子清洗机SPA-2800采用稳定性高的移相全桥软开关电路,拥有稳定的模拟通信数据传输方式,等离子体均匀,能够实现高效清洗,效果稳定且时效性长,能够满足光伏边框的表面处理需求。等离子处理完成后,可使用接触角测量仪验证其处理后的效果,通过对比前后的接触角数据、极性分量、色散分量、表面能等数值有效分析和判断等离子处理的有效性。

等离子清洗机在大规模集成电路和分立器件行业中的应用在大规模集成电路和分立器件行业中,等离子体清洗一般应用于以下几个关键步骤中:1、去胶,用氧的等离子体对硅片进行处理,去除光刻胶;2、金属化前器件衬底的等离子体清洗;3、混合电路粘片前的等离子体清洗;4、键合前的等离子体清洗;5、金属化陶瓷管封帽前的等离子体清洗。例如,在一个COB基板上,在SMT元件粘接好后进行IC芯片的引线键合。在表面安装元件粘接后,会有大量的助焊剂污染物和水残余,而为了在PCB基板上可靠地进行引线键合,这些必须去除。等离子体(plasma)是由自由电子和带电离子为主要成分的物资状态,被称为物资的第四态。

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等离子清洗机(plasmacleaner)是高科技的一款表面处理设备,通过等离子体来达到表面处理的作用;获得清洗、活化、刻蚀、涂层等多方向的应用,解决各种行业的表面处理难题。1、等离子清洗机原理密闭的反应腔体(真空室、真空腔体)被真空泵不断抽气,从1个标准大气压下降到设定的压力值并维持真空度;通入氩、氢、氮气等工艺气体,启动等离子发生器,让反应腔体内电极之间产生高压交变电场,使得自由电子能量加速,去激发工艺气体分子形成等离子体,具有高反应活性或高能量的等离子体,会与有机污染物及微颗粒污染物反应、碰撞形成各种挥发性物质,这些挥发性物质伴随工艺气流由真空泵抽取出去,从而达到被处理对象表面清洁、活化等目的。等离子清洗机处理后的时效性会因处理时间、气体反应类型、处理功率大小以及材料材质的不同而有所差异。重庆晟鼎等离子清洗机厂商

等离子清洗是一种环保工艺,由于采用电能催化反应,同时利用低温等离子体的特性。重庆晟鼎等离子清洗机厂商

光刻胶的去除在IC制造工艺流程中占非常重要的地位,其成本约占IC制造工艺的20-30%,光刻胶去胶效果太弱影响生产效率,去胶效果太强容易造成基底损伤,影响整个产品的成品率。传统主流去胶方法采用湿法去胶,成本低效率高,但随着技术不断选代更新,越来越多IC制造商开始采用干法式去胶,干法式去胶工艺不同于传统的湿法式去胶工艺,它不需要浸泡化学溶剂,也不用烘干,去胶过程更容易控制,避免过多算上基底,提高产品成品率。干法式去胶又被称为等离子去胶,其原理同等离子清洗类似,主要通过氧原子核和光刻胶在等离子体环境中发生反应来去除光刻胶,由于光刻胶的基本成分是碳氢有机物,在射频或微波作用下,氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应,生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通过泵被真空抽走,完成光刻胶的去除。等离子物理去胶过程:主要是物理作用对清洗物件进行轰击达到去胶的目的,主要的气体为氧气、氩气等,通过射频产生氧离子,轰击清洗物件,以获得表面光滑的较大化,并且结果是亲水性增大。重庆晟鼎等离子清洗机厂商

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