QuantumXshape作为理想的快速成型制作工具，可实现通过简单工作流程进行高精度和高设计自由度的制作。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品，QuantumXshape提升了3D微纳加工能力，即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造，以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之，工业级QuantumX打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的非常先进的微制造工艺，适用于晶圆级批量加工。高速3D微纳加工系统QuantumXshape可实现出色形状精度和高精度制作。这种高质量的打印效果是结合了特别先进的振镜系统和智能电子系统控制单元的结果，同时还离不开工业级飞秒脉冲激光器以及平稳坚固的花岗岩操作平台。QuantumXshape具有先进的激光焦点轨迹控制，可操控振镜加速和减速至特别快的扫描速度，并以1MHz调制速率动态调整激光功率。欢迎咨询你知道双光子聚合、飞秒激光加工、双光子显微成像区别在哪里吗？上海2PP双光子聚合激光直写
Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造**，一直致力于开发和生产3D微纳加工系统和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。Nanoscribe成立于2007年，是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)的衍生公司。在全球前列大学和创新科技企业的中，有超过2,500多名用户在使用我们突破性的3D微纳加工技术和定制应用解决方案。Nanoscribe凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场优于主导地位，并以高标准来要求自己以满足客户的需求。Nanoscribe将在未来进一步扩大产品组合实现多样化，以满足不用客户群的需求。欢迎咨询上海2PP双光子聚合激光直写NanoScribe的双光子聚合技术在光子学领域运用特别广。
作为纳米、微米和介观尺度高分辨率3D微纳加工的关键技术，双光子聚合技术(2PP)能在高速打印的同时确保高精度制作。结合极高设计自由度的特点，2PP高精度增材制造推动着未来技术在例如生命科学、微流体、材料工程、微机械 和MEMS等科研和工业领域应用的发展。Nanoscribe作为2PP微纳加工市场人物，将继续突破3D微纳加工的极限。基于突破性双光子对准技术(A2PL@)的Quantum X平台系列，可以实现在光纤前列和光子芯片上直接打印自由曲面微光学元件，助力光子封装领域实现在所有空间方向的纳米级对准和定位。此外，该系统具备的双光子灰度光刻技术(2GL @)是制造具备比较高光学质量的2.5D折射和衍射微光学器件的好的选择，
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系统可以实现精度上限的3D打印，突破了微纳米制造的限制。该打印系统的易用性和灵活性的特点配以特别广的打印材料选择使其成为理想的实验研究仪器和多用户设施。
双光子聚合三维微制造系统是一种用于化学领域的工艺试验仪器。
Nanoscribe称，QuantumX是世界上**基于双光子灰度光刻技术（two-photongrayscalelithography，2GL）的工业系统，目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合，可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。多层衍射光学元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成，从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示，折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力，可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列，以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状，如球面和非球面透镜。QuantumX的软件能实时控制和监控打印作业，并通过交互式触摸屏控制面板进行操作。为了更好地管理和安排用户的项目，打印队列支持连续执行一系列打印作业。该软件有程序向导，可在一开始就指导设计师和工程师完成打印作业，并能够接受任意光学设计的灰度图像。双光子聚合的特点和用途你了解吗？如需了解请咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司。上海2PP双光子聚合激光直写
Nanoscribe中国分公司-纳糯三维带您一起探讨国内在双光子聚合技术的发展趋势。上海2PP双光子聚合激光直写
随着科技的不断进步，双光子聚合激光直写技术正以惊人的速度改变着我们的生活。这项创新技术利用双光子效应，通过高能量激光束直接写入材料表面，实现了高精度、高效率的微纳加工。它不仅在微电子、光电子、生物医学等领域展现出巨大潜力，还为我们带来了无限的想象空间。双光子聚合激光直写技术的突破在于其能够实现超高分辨率的微纳加工。传统的光刻技术受限于光的波长，无法达到纳米级别的加工精度。而双光子聚合激光直写技术则能够利用两个光子的能量共同作用，将加工精度提升到亚微米甚至纳米级别。这使得我们能够制造出更小、更精细的微型器件，为微电子行业带来了巨大的发展机遇。除了在微电子领域的应用，双光子聚合激光直写技术还在光电子领域展现出了巨大的潜力。通过控制激光束的强度和聚焦点的位置，我们可以在光学材料中实现三维结构的直接写入。这为光学器件的制造提供了全新的思路，不仅能够提高器件的性能，还能够降低成本。这对于光通信、光存储等领域的发展具有重要意义。上海2PP双光子聚合激光直写
