步骤730可以针对其准确性验证在步骤724中执行的仿真。在步骤732中,如果仿真与测量结果匹配,则算法720进行到步骤734,在此线圈设计已经被验证。在步骤732中,如果仿真结果与物理测量结果不匹配,则算法720进行到步骤736。在步骤736中,如果所执行的算法720为对由算法700所产生的线圈设计的验证,则修改算法700的输入设计,并返回算法700。在一些实施例中,在步骤736中产生错误,指示仿真未正确地运行,因此仿真自身需要进行调整以便更好地仿真特定位置定位系统中的所有非理想性。在那种情况下,步骤736也可以是模型校准算法。因此,在本发明的一些实施例中,可以通过迭代地提供当前线圈设计的仿真,然后根据该仿真修改线圈设计,直到线圈设计满足期望的规范为止,来产生优化的线圈设计。在一些情况下,作为后一步,将物理产生并测试经优化的线圈设计,以确保仿真与物理测量的属性相匹配。无论目标是优化还是重新设计pcb上的旧线圈设计,或者无论目标是没计还是优化pcb上的新线圈设计,该过程都有助于优化线圈设计。可以根据算法720验证pcb上的现有线圈设计,并根据算法700进行潜在地改进该线圈设计。可以使用电子设计自动化(eda)或计算机辅助设计。江苏制作传感器线圈的地方;比例传感器线圈资料

图10d示出导线1020的一维模型与基准矩形迹线1022在距迹线中心1mm的距离处的差异。单个矩形迹线1022的表示可以通过单导线配置和多导线配置两者来实现。可以看出,该场与一维模型略有偏离。从图10d可以看出,误差不可忽略,但在两种情况下,即使在1mm处,误差也只有很小的分数1%。由于接收线圈的大多数点相对于发射线圈的距离远大于1mm,因此1维导线模型在大多数应用中可能就足够了。也可以用三维块状元素来表示发射线圈,其中假定电流密度是均匀的。图10e示出这种近似。如图10e所示,这以适度的附加计算为代价将由发射线圈产生的磁场的建模误差减小了一个数量级。因此,在步骤1006和步骤1010中,可以将迹线建模为一维迹线。因此,通过使用1维导线模型可以预先计算由发射线圈产生的源磁场。在一些实施例中,可以使用基于3d块状件元素的更高级的模型,如上所述,该模型可以产生大致相同的结果。这些模型可以使用有限元矩阵形式的计算,然而,此类模型可能需要许多元素,并且需要增加计算。如上文所讨论的,类似于fem的模型可能使用太多的元素(1亿多个网格元素)来达到所提出的一维模型的准确性。双向传感器线圈共同合作传感器线圈的安装位置对测量精度至关重要。

与用户交互,并输出终的线圈设计,以产生具有优化设计的印刷电路板。如图7a所示,算法700以输入步骤702开始。在步骤702中,输入线圈设计以进行优化。具体地,输入发射线圈和接收线圈的坐标、布局和特性,包括与连接节点、通孔有关的信息、以及关于这些线圈的其他参数。另外,输入金属目标的设计,包括金属目标与线圈之间的气隙距离。此外,提供所得到的位置定位系统的准确性的期望规范。还输入系统操作参数(例如,期望驱动发射线圈的频率和强度)。一旦在步骤702中将数据输入到算法700,算法700就继续到步骤704。图7c示出指示步骤702的线圈设计参数的输入的屏幕快照。在步骤704中,仿真在金属目标位于其扫描中的不同位置处时对输入发射线圈的电力的响应。具体地,确定响应于由发射线圈所生成的场而由金属目标生成的场。根据这些场,仿真当前线圈设计的接收线圈的响应。根据接收线圈响应,将根据接收线圈响应计算出的金属目标的位置与仿真过程中设定的金属目标的位置进行比较。在步骤706中,将仿真的位置与金属目标的设定位置进行比较。在步骤708中,如果满足规范,则算法700进行到步骤710,在步骤710处输出终的优化线圈设计。在步骤708中,如果不满足规范。
算法712计算不具有目标时的偏差,并且在步骤1216中,如果不满足小偏差标准,则算法从步骤1208重新开始。当达到小偏差时,算法进行到步骤1218,评估电压,如图10a所示,然后计算理想位置和仿真的位置之间的大误差。如果在步骤1220中没有达到低的可能误差,则算法返回到步骤1206,提供另一种配置。一旦获得了当前输入的低误差,算法就在返回步骤1226处结束。在一些实施例中,在不存在如图13所示的阱的情况下,实现没有目标时的偏差的补偿。无论如何,由于正弦形1316rx线圈和余弦形1318rx线圈的平衡延伸部1306和平衡延伸部1307,始终保证了设计对称性。提供以上详细描述是为了说明本发明的具体实施例,而不是旨在进行限制。在本发明的范围内的许多变化和修改是可能的。本发明在所附权利要求中阐述。无锡市制作传感器线圈的地方;

部分314、部分316、部分318和部分320允许余弦定向线圈112覆盖在pcb上。然而,通孔306和pcb322的相对的两侧上的迹线302和迹线304的存在降低了由线圈104检测到的信号的有效幅度。有效地,通孔306在发射线圈106和信号线圈104之间形成间隙距离,这本身对位置定位系统的准确性有很大的影响。这还与以下相结合:由于在pcb322的顶侧和底侧上都形成了信号线圈104的迹线,而导致的金属目标124和pcb322上的信号线圈104之间的有效气隙的增加。图3b示出另一个关于对称性的问题,其中,发射线圈106与接收线圈104是不对称的。在图3b所示的情况下,接收线圈104不以发射线圈106为中心,并且形成与接收线圈104和发射线圈106的连接的迹线也不对称。图3c示出由发射线圈106生成的磁场强度的不均匀性。如图3c所示,发射线圈106的两条迹线位于图上的位置0和位置5处,而接收线圈104被定位在位置0和位置5之间。图3c示出这些迹线之间的磁场在两条迹线之间具有小值。图3c没有示出由于连接图3c中所示的两条迹线并且垂直于图3c中所示的迹线的两条迹线而引起的另外的变形(distortion)。图3d和图3e还示出可能由发射线圈106中的位移引起的不准确性。如图3d和图3e所示,发射线圈106包括位移330。传感器线圈的绕制工艺决定了其稳定性。双向传感器线圈共同合作
传感器线圈的防护等级需要根据使用环境选择。比例传感器线圈资料
如图1a所示和上面讨论的,发射器线圈106、接收线圈104和发射/接收电路102可以被安装在单个pcb上。此外,pcb可以被定位成使得金属目标124被定位在接收线圈104上方并且与接收线圈104间隔开特定间隔,即气隙(ag)。金属目标124相对于其上安装接收线圈104和发射器线圈106的pcb的位置可以通过处理由正弦定向线圈112和余弦定向线圈110生成的信号来确定。下面,描述在理论上理想的条件下对金属目标124相对于接收线圈104的位置的确定。在图1b中,金属目标124位于位置。在该示例中,图1b和图2a、图2b和图2c描绘线性位置定位器系统的操作。线性定位器和圆形定位器二者的操作原理相同。在下面的讨论中,通过提供因线圈110和线圈112和金属目标124的前缘的位置所引起的关于正弦定向线圈112的正弦操作的角度关系,给出关于余弦定向线圈110和正弦定向线圈112的构造的位置。这样的系统中的金属目标124的实际位置可以从由接收线圈104的输出电压测量到的角位置以及接收线圈110和接收线圈112的拓扑得出。此外,如图1b所示,线圈110的拓扑和线圈112的拓扑被协调以提供对金属目标124的位置的指示。图2a示出金属目标124的0°位置,为了便于说明,余弦定向线圈110和正弦定向线圈112被分开。比例传感器线圈资料