Nanoscribe双光子聚合技术所具有的高设计自由度，可以在各种预先构图的基板上实现波导和混合折射衍射光学器件等3D微纳加工制作。结合Nanoscribe公司的高精度定位系统，可以按设计需要精确地集成复杂的微纳结构。由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度，属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作为高效的打印材料，是Nanoscribe微纳加工解决方案的基本组成部分之一。我们提供针对优化不同光刻胶和应用领域的高级配套软件，从而简化3D打印工作流程并加快科研和工业领域的设计迭代周期，包括仿生表面，微光学元件，机械超材料和3D细胞支架等。灰度光刻技术可以实现高分辨率的微纳米结构制造，满足日益增长的微电子和光电子器件对精确结构的需求。江苏2GL灰度光刻无掩光刻
Nanoscribe公司Photonic Professional GT2高速3D打印系统制作的高精度器件图登上了刚发布的商业微纳制造杂志“Commercial Micro Manufacturing magazine”（CMM）。Photonic Professional GT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程，实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造，可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。另外，还可以实现精度上限的3D打印，突破了微纳米制造的限制。该打印系统的易用性和灵活性的特点配以非常普遍的打印材料选择使其成为理想的实验研究仪器和多用户设施。欢迎咨询纳糯三维科技（上海）有限公司湖南超高速灰度光刻无掩光刻Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司邀您一起探讨灰度光刻技术的发展现状。
超高速灰度光刻技术的应用不仅局限于传统领域，还可以拓展到新兴领域。例如，在新能源领域，它可以用于制造高效的太阳能电池板；在人工智能领域，它可以用于制造更快、更强大的计算芯片。这些应用将进一步推动科技的发展，为人类创造更美好的未来。超高速灰度光刻技术的发展离不开科研人员的不懈努力和创新精神。他们通过不断突破科技边界，攻克了一个又一个难题，从而实现了这一技术的突破。他们的付出为我们带来了更多的机遇和挑战，也为科技进步做出了巨大贡献。超高速灰度光刻技术的问世，标志着科技进步的新里程碑。我们相信，在这项技术的推动下，未来将会有更多的创新和突破。让我们共同期待超高速灰度光刻技术带来的美好未来！
作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统，Quantum X可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版，可适用于批量生产的流水线工业程序，例如注塑，热压花和纳米压印等加工流程，从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点，同时缩短创新微纳光学器件（如衍射和折射光学器件）的整体制造时间。另外，QuantumX打印系统非常适合DOE的制作。该系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的QuantumX打印系统可以实现一气呵成的制作Nanoscribe的双光子灰度光刻激光直写技术(2GL ®)可用于工业领域2.5D微纳米结构原型母版制作。
微纳3D打印其实和与灰度光刻有点相似，但是原理不同，我们常见的微纳3D打印技术是双光子聚合和微纳金属3D打印技术，利用该技术我们理论上可以获得任意想要的结构，不光是微透镜阵列结构（如下图5所示），该方法的优势是可以完全按照设计获得想要的结构，对于双光子聚合的微结构，我们需要通过LIGA工艺获得金属模具，但是对于微纳金属3D打印获得的微纳米结构可以直接进行后续的复制工作，并通过纳米压印技术进行复制。灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接触式光刻）或者计算机控制激光束或者电子束剂量从而达到在某些区域完全曝透，而某些区域光刻胶部分曝光，从而在衬底上留下3D轮廓形态的光刻胶结构（如下图4所示，八边金字塔结构）。微透镜阵列也是类似，可以通过剂量分布的控制来控制其轮廓形态。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司带您了解微纳3D打印和灰度光刻技术的区别。浙江高精度灰度光刻无掩膜激光直写
Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司为您揭秘什么是双光子灰度光刻系统。江苏2GL灰度光刻无掩光刻
双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE)，并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。利用增材制造即可简单一步实现多级衍射光学元件(DOEs)，可以直接作为衍射光学元件(DOEs)，可以直接作为原型使用，也可以作为批量生产母版工具。.结合用户友好的工作流程和自动匹配校准程序，只需几个步骤就能实现完:美的具有亚微米形状精度的结构打印，适用于广泛的应用场景和公共平台用户的理想选择江苏2GL灰度光刻无掩光刻
