3D微纳加工技术应用于材料工程领域。材料属性可以通过成分和几何设计来调整和定制。通过使用Nanoscribe的3D微纳加工解决方案，可以实现具有特定光子，机械，生物或化学特性的创新超材料和仿生微结构。Nanoscribe的无掩模光刻系统在三维微纳制造领域是一个不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、与材料的普适性和便于操作的软件工具，在科学和工业项目中备受青睐。这种可快速打印的微结构在科研、手板定制、模具制造和小批量生产中具有广阔的应用前景。也就是说，在纳米级、微米级以及中尺度结构上，可以直接生产用于工业批量生产的聚合物母版。生物医学应用，咨询纳糯三维科技（上海）有限公司。实验室Nanoscribe无掩膜光刻
Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统，用于快速原型制作和晶圆级批量生产，以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。该系统是基于双光子聚合技术（2PP）的专业激光直写系统，可为亚微米精度的2.5D和3D物体的微纳加工提供极高的设计自由度。Quantum X shape可实现在6英寸的晶圆片上进行高精度3D微纳加工。这种效率的提升对于晶圆级批量生产尤其重要，这对于科研和工业生产领域应用有着重大意义。总而言之，该系统拓宽了3D微纳加工在多个科研领域和工业行业应用的更多可能性（如生命科学、材料工程、微流体、微纳光学、微机械和微电子机械系统（MEMS）等）德国科研Nanoscribe中国分公司Nanoscribe是德国高精度增材制造系统的先驱。
Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程，实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造，可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。PhotonicProfessionalGT2系统可以实现精度上限的3D打印，突破了微纳米制造的限制。该打印系统的易用性和灵活性的特点配以比较广的打印材料选择使其成为理想的实验研究仪器和多用户设施。我们的3D微纳加工技术可以满足您对于制作亚微米分辨率和毫米级尺寸的复杂微机械元件的要求。
由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度，属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作为高效的打印材料，是Nanoscribe微纳加工解决方案的基本组成部分之一。我们提供针对优化不同光刻胶和应用领域的高级配套软件，从而简化3D打印工作流程并加快科研和工业领域的设计迭代周期，包括仿生表面，微光学元件，机械超材料和3D细胞支架等。利用Nanoscribe的双光子聚合微纳3D打印技术，斯图加特大学和阿德莱德大学的研究人员联手澳大利亚医学研究中心的科学家们新研发的微型内窥镜。通过Nanoscribe技术，我们可以实现微观世界的精密控制和制造。
**是全世界一个主要死亡原因，2020年有近1000万人死于**[1]。而其中胶质母细胞瘤是一种极具破坏性的脑**，其*细胞增殖非常快且具有**性。为了研究、***和破坏脑肿瘤细胞，研究人员正在研究使用质子放射***，该***手段已被证明在不同**类型中比x射线放射***更有效和微创的技术。然而，质子放射***的成本很高，这使得在动物和人类身上进行的试验也变得非常昂贵，几乎无法进行。质子放射***的高成本也导致缺乏从细胞水平了解质子对胶质母细胞瘤影响的临床研究。体外模型为评估*细胞对药物和辐射的反应提供了一个平台。然而，由于无法模拟体内自然发生的3D环境，传统2D单层细胞培养存在很大局限性。为了寻找更真实的模拟环境，代尔夫特理工大学（DelftUniversityofTechnology）的科学家们利用Nanoscribe的3D微纳加工系统制作了3D工程细胞微环境，并且***次在质子束放射实验中研究了所培养的胶质母细胞瘤细胞3D打印支架，以探究其对辐射的反应。令人印象深刻的是，该实验结果显示，与2D单层细胞相比，3D工程细胞培养中的DNA损伤得到了***降低。Nanoscribe致力于不断推动增材制造技术的发展，为客户提供高质量、高效率的解决方案。德国超高速Nanoscribe中国分公司
Nanoscribe的技术能够实现微米级别的精确打印，为科学研究和工业应用提供了全新的可能性。实验室Nanoscribe无掩膜光刻
借助Nanoscribe的3D微纳加工技术，您可以实现亚细胞结构的三维成像，适用于细胞研究和芯片实验室应用（lab-on-a-chip）。我们的客户成功使用Nanoscribe双光子无掩模光刻系统制作了3D细胞支架来研究细胞生长、迁移和干细胞分化。此外，3D微纳加工技术还可以应用在微创手术的生物医学仪器，包括植入物，微针和微孔膜等制作。Nanoscribe的无掩模光刻系统在三维微纳制造领域是一个不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、与材料的普适性和便于操作的软件工具，在科学和工业项目中备受青睐。这种可快速打印的微结构在科研、手板定制、模具制造和小批量生产中具有广阔的应用前景。实验室Nanoscribe无掩膜光刻
