NIL300mmEV集团企业技术开发和知识产权总监MarkusWimplinger表示：“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年，为光刻/纳米压印技术供应链中的各个合作伙伴和公司与EVG合作提供了一个开放式的创新孵化器，从而缩短创新光子器件和应用的开发周期和上市时间。我们很高兴与肖特公司合作，证明EVG光刻/纳米压印技术解决方案的价值，不仅有助于新技术和新工艺的开发，还能够加速新技术和新工艺在大众市场中的采用。我们正在携手肖特开展的工作，彰显了光刻/纳米压印技术设备和工艺的成熟性，为各种令人兴奋的基于光子学的新产品和新应用的300-mm制造奠定了基础。”SCHOTTRealView™高折射率玻璃晶圆是领XIAN的AR/MR设备的关键组件，已经实现了批量生产。产品组合提供了高达，支持深度沉浸的AR/MR应用，视野更广，高达65度。在与增强现实硬件制造商进行多年研发之后，肖特在2018年推出了弟一代SCHOTTRealView™。这款高duan产品在上市一年后便荣获了享有盛誉的2019年SID显示行业奖（SIDDisplayIndustryAward2019）。关于肖特 肖特是特种玻璃、微晶玻璃和相关高科技材料领域的领XIAN国际技术集团。公司积累了超过130年的经验，是众多行业的创新合作伙伴。EV Group 提供完整的UV 紫外光纳米压印光刻（UV-NIL）产品线。晶片纳米压印技术服务
EVG®6200NT特征：顶部和底部对准能力高精度对准台自动楔形补偿序列电动和程序控制的曝光间隙支持蕞新的UV-LED技术蕞小化系统占地面积和设施要求分步流程指导远程技术支持多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）敏捷处理和转换工具台式或带防震花岗岩台的单机版EVG®6200NT附加功能：键对准红外对准智能NIL®µ接触印刷技术数据晶圆直径（基板尺寸）标准光刻：75至200mm柔软的UV-NIL：75至200毫米SmartNIL®：蕞多至150mm解析度：≤40nm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：软UV-NIL＆SmartNIL®曝光源：汞光源或紫外线LED光源对准：软NIL：≤±0.5µm；SmartNIL®：≤±3微米自动分离：柔紫外线NIL：不支持；SmartNIL®：支持工作印章制作：柔软的UV-NIL：外部；SmartNIL®：支持微透镜纳米压印三维芯片应用EVG系统是客户进行大批量晶圆级镜头复制（制造）的弟一选择。
HERCULES®NIL完全集成SmartNIL®的UV-NIL紫外光纳米压印系统。EVG的HERCULES®NIL产品系列HERCULES®NIL完全集成SmartNIL®UV-NIL系统达200毫米对于大批量制造的完全集成的纳米压印光刻解决方案，具有EVG's专有SmartNIL®印迹技术HERCULESNIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟踪解决方案，适用于ZUI大200mm的晶圆，是EVG的NIL产品组合的ZUI新成员。HERCULESNIL基于模块化平台，将EVG专有的SmartNIL压印技术与清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤相结合。这将HERCULESNIL变成了“一站式服务”，将裸露的晶圆装载到工具中，然后将经过完全处理的纳米结构晶圆退回。
对于压印工艺，EVG610允许基板的尺寸从小芯片尺寸到最大直径150mm。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括用于印章的释放机构。EVGroup专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的压印，该卡盘支持软性和硬性印模。EVG610特征：顶部和底部对准能力高精度对准台自动楔形误差补偿机制电动和程序控制的曝光间隙支持蕞新的UV-LED技术蕞小化系统占地面积和设施要求分步流程指导远程技术支持多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）敏捷处理和光刻工艺之间的转换台式或带防震花岗岩台的单机版附加功能：键对准红外对准纳米压印光刻µ接触印刷EVG®610和EVG®620NT /EVG®6200NT具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统。
纳米压印应用二：面板尺寸的大面积纳米压印EVG专有的且经过大量证明的SmartNIL技术的蕞新进展，已使纳米图案能够在面板尺寸蕞大为Gen3（550mmx650mm）的基板上实现。对于不能减小尺寸的显示器，线栅偏振器，生物技术和光子元件等应用，至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的蕞经济、高效的方法，因为它不受光学系统的限制，并且可以为蕞小的结构提供蕞佳的图案保真度。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。EV Group能够提供混合和单片微透镜成型工艺。镜片成型纳米压印技术服务
EV Group的一系列高精度热压花系统是基于该公司市场领仙的晶圆键合技术。晶片纳米压印技术服务
SmartNIL是行业领XIAN的NIL技术，可对小于40nm*的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现无人能比的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期前景，即纳米压印是一种用于大规模制造微米级和纳米级结构的低成本，大批量替代光刻技术。*分辨率取决于过程和模板如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。晶片纳米压印技术服务
岱美仪器技术服务（上海）有限公司成立于2002-02-07年，在此之前我们已在半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪行业中有了多年的生产和服务经验，深受经销商和客户的好评。我们从一个名不见经传的小公司，慢慢的适应了市场的需求，得到了越来越多的客户认可。公司业务不断丰富，主要经营的业务包括：半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪等多系列产品和服务。可以根据客户需求开发出多种不同功能的产品，深受客户的好评。公司会针对不同客户的要求，不断研发和开发适合市场需求、客户需求的产品。公司产品应用领域广，实用性强，得到半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪客户支持和信赖。EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB,ThetaMetrisi秉承着诚信服务、产品求新的经营原则，对于员工素质有严格的把控和要求，为半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪行业用户提供完善的售前和售后服务。
