光刻胶又称光致抗蚀剂,主要由感光树脂、增感剂和溶剂三种成分组成。感光树脂经光照后,在曝光区能很快地发生光固化反应,使得这种材料的物理性能,特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经曝光、显影、刻蚀、扩散、离子注入、金属沉积等工艺将所需的微细图形从掩模版转移至加工的基板上、***通过去胶剥离液将未曝光部分余下的光刻胶清洗掉,从而完成整个图形转移过程。在液晶面板和amoled生产中***使用。现有的剥离液主要有两种,分别是水性剥离液和有机剥离液,由于有机剥离液只能用于具有mo/al/mo结构的制程中,无法用于ito/ag/ito;且乙醇胺的含量高达60%以上,有很强的腐蚀性,因此,常用的剥离液是水性剥离液,现有的水性剥离液主要成分为有机胺化合物、极性有机溶剂以及水,但现有的水性剥离液大都存在腐蚀金属配线、光刻胶残留、环境污染大、影响操作人员的安全性、剥离效果差等问题。剥离液蚀刻后的样貌形态。佛山哪家蚀刻液剥离液商家

湿电子化学品位于电子信息产业偏中上游的材料领域。湿电子化学品上游是基 础化工产品,下游是电子信息产业(信息通讯、消费电子、家用电器、汽车电子、 LED、平板显示、太阳能电池、**等领域)。湿电子化学品的生产工艺主要采用物 理的提纯技术及混配技术,将工业级的化工原料提纯为超净高纯化学试剂,并按照 特定的配方混配为具有特定功能性的化学试剂。湿电子化学品行业是精细化工和电 子信息行业交叉的领域,其行业特色充分融入了两大行业的自身特点,具有品种多、 质量要求高、对环境洁净度要求苛刻、产品更新换代快、产品附加值高、资金投入 量大等特点,是化工领域相当有发展前景的领域之一。佛山哪家蚀刻液剥离液商家哪家的剥离液的价格优惠?

本发明涉及能够从施加有抗蚀剂的基材剥离抗蚀剂的抗蚀剂的剥离液。背景技术::印刷布线板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蚀剂等抗蚀剂的剥离液中,伴随微细布线化而使用胺系的剥离液。然而,以往的胺系的抗蚀剂的剥离液有废液处理性难、海外的法规制度的问题,而避免其使用。近年来,为了避免胺系的抗蚀剂的剥离液的问题点,还报道了一种含有氢氧化钠和溶纤剂的剥离液(专利文献1),由于剥离时的抗蚀剂没有微细地粉碎,因此存在近年的微细的布线间的抗蚀剂难以除去的问题点。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2002-323776号公报技术实现要素:发明要解决的问题因此,本发明的课题在于,提供容易除去微细的布线间的抗蚀剂的技术。用于解决问题的手段本发明人等为了解决上述课题而深入研究的结果发现,含有钾盐和溶纤剂的溶液与专利文献1那样的含有氢氧化钠和溶纤剂的溶液相比,即使是非常微细的布线间的抗蚀剂也能细小地粉碎,从而完成本发明。即,本发明涉及一种抗蚀剂的剥离液,其特征在于,含有钾盐和溶纤剂。另外,本发明涉及一种抗蚀剂的除去方法,其特征在于,用上述抗蚀剂的剥离液处理施加有抗蚀剂的基材。此外,本发明涉及一种抗蚀剂的剥离液套件。
当当前级别腔室101对应的过滤器30被薄膜碎屑阻塞后,通过阀门开关60关闭当前级别腔室101对应的存储箱20与过滤器30之间的液体流通,从而可以在阀门开关60关闭后取下被阻塞的过滤器30进行清理并不会导致之后的下一级腔室102的剥离进程无法继续。其中,腔室10用于按照处于剥离制程的玻璃基板的传送方向逐级向玻璃基板分别提供剥离液;与多个腔室10分别对应连接的多个存储箱20,各级腔室10分别通过管道与相应的存储箱20连接,存储箱20用于收集和存储来自当前级腔室101的经历剥离制程的剥离液;过滤器30用于过滤来自当前级腔室101的存储箱20的剥离液,并且过滤器30还可以通过管道与下一级腔室102连接,从而过滤器30可以将过滤后的剥离液输送给下一级腔室102。各腔室10设计为适合进行剥离制程,用于向制程中的玻璃基板供给剥离液,具体结构可参考现有设计在此不再赘述。各级腔室10分别于相应的存储箱20通过管道连接,腔室10中经历剥离制程后的剥离液可以经管道输送至存储箱20中,由存储箱20来收集和存储。各级腔室10的存储箱20分别与相应的过滤器30通过管道连接,经存储箱20处理后的剥离液再经相应的过滤器30过滤后才经管道输送至下一级腔室102。本申请中。天马微电子用的哪家的剥离液?

实施例1~6:按照表1配方将二甲基亚砜、一乙醇胺、四甲基氢氧化铵、硫脲类缓蚀剂、聚氧乙烯醚类非离子型表面活性剂、n-甲基吡咯烷酮和去离子水混合,得到用于叠层晶圆的光刻胶剥离液。表1:注:含量中不满100wt%的部分由去离子水补足余量。以cna披露的光刻胶剥离液作为对照例,与实施例1~6所得用于叠层晶圆的光刻胶剥离液进行比较试验,对面积均为300cm2的叠层晶圆上的光刻胶进行剥离并分别测定剥离周期、金属镀层的腐蚀率和过片量(剥离的面壁数量)。对比情况见表2:表2:剥离周期/s金属腐蚀率/ppm过片量/片实施例1130~15015376实施例2130~15016583实施例3130~15017279实施例4130~15015675实施例5130~15016372实施例6130~15017681对照例180~20022664由表2可知,本用于叠层晶圆的光刻胶剥离液通过加入硫脲类缓蚀剂和聚氧乙烯醚类非离子型表面活性剂,使剥离效率有明显的提升,对金属腐蚀率降低20%以上,而且让过片量提高10%以上。以上所述的*是本发明的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。质量好的做剥离液的公司。浙江ITO蚀刻液剥离液供应商
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