剥离液是一种通用湿电子化学品,主要用于去除金属电镀或者蚀刻加工完成后的光刻胶和残留物质,同时防止对衬底层造成破坏。剥离液是集成电路、分立器件、显示面板、太阳能电池等生产湿法工艺制造的关键性电子化工材料,下游应用领域***,但整体应用需求较低,因此市场规模偏小。
剥离液应用在太阳能电池中,对于剥离液的洁净度要求较低,*需达到G1等级,下游客户主要要天合、韩华、通威等;应用到面板中,通常要达到G2、G3等级,且高世代线对于剥离液的要求要高于低世代线,下游客户有京东方、中星光电;在半导体中的应用可分等级,在8英寸及以下的晶圆制造中,对于剥离液的要求达到G3、G4水平,大硅片、12英寸晶元等**产品要达到G5水平。 剥离液公司的联系方式。深圳铝钼铝蚀刻液剥离液

实施例1~6:按照表1配方将二甲基亚砜、一乙醇胺、四甲基氢氧化铵、硫脲类缓蚀剂、聚氧乙烯醚类非离子型表面活性剂、n-甲基吡咯烷酮和去离子水混合,得到用于叠层晶圆的光刻胶剥离液。表1:注:含量中不满100wt%的部分由去离子水补足余量。以cna披露的光刻胶剥离液作为对照例,与实施例1~6所得用于叠层晶圆的光刻胶剥离液进行比较试验,对面积均为300cm2的叠层晶圆上的光刻胶进行剥离并分别测定剥离周期、金属镀层的腐蚀率和过片量(剥离的面壁数量)。对比情况见表2:表2:剥离周期/s金属腐蚀率/ppm过片量/片实施例1130~15015376实施例2130~15016583实施例3130~15017279实施例4130~15015675实施例5130~15016372实施例6130~15017681对照例180~20022664由表2可知,本用于叠层晶圆的光刻胶剥离液通过加入硫脲类缓蚀剂和聚氧乙烯醚类非离子型表面活性剂,使剥离效率有明显的提升,对金属腐蚀率降低20%以上,而且让过片量提高10%以上。以上所述的*是本发明的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。铜陵剥离液销售价格剥离液适用于哪些行业。

含有的胺化合物的质量分为:1%-2%。进一步技术方案中,所述的添加剂中含有醇醚化合物的质量分为:30%-50%;含有胺化合物的质量分为:35%-55%;含有缓蚀剂的质量分为:6%-12%;含有润湿剂的质量分为:1%-7%。进一步技术方案中,所述的步骤s1中剥离液废液所含的酰胺化合物以及步骤s2中添加剂所含的酰胺化合物均为n-甲基甲酰胺(nmf)、n-甲基乙酰胺、n,n-二甲基甲酰胺中的一种或者多种。进一步技术方案中,所述的步骤s1中剥离液废液所含的醇醚化合物以及步骤s2中添加剂所含的醇醚化合物均为二乙二醇丁醚(bdg)、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的一种或多种。进一步技术方案中,所述的步骤s1中剥离液废液所含的胺化合物以及步骤s2中添加剂所含的胺化合物为环胺与链胺。进一步技术方案中,所述的环胺为氨乙基哌嗪、羟乙基哌嗪、氨乙基吗啉中的一种或多种;所述的链胺为乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺、异丙醇胺、甲基二乙醇胺、amp-95中的一种或多种。进一步技术方案中,所述的三唑类化合物,具体为苯并三氮唑(bta)、甲基苯并三氮唑(tta)中的任意一种。进一步技术方案中,所述的润湿剂为含羟基化合物,具体为为聚乙二醇、甘油中的任意一种。
光电行业的大力发展,致使剥离液被国内外研究人员所关注及研究,虽然在**网及技术网上对剥离液的阐述较少,但当前国内与国外均在剥离液废液如何利用及处置方面有了一定的成果,。美国专利US7273560公布了包含单乙醇胺与二乙二醇单丁醚组合的光刻胶剥离液废液中含有、77%的二乙二醇单丁醚、3%的光刻胶和。现有技术***采用的光刻胶剥离液废液回收方法通常是通过薄膜蒸发器回收大部分的有机成分,回收得到的有机组分或再经脱色脱水等处理后可再次作为光刻胶剥离液应用。这种方法虽然流程简便,但在使用薄膜蒸发器蒸发溶剂过程中,光刻胶浓度达到一定程度后其传热传质效率快速下降,使溶剂回收效率大为降低,处理能耗***升高。且除去溶剂后残留的光刻胶等物质需要定期将其***干净,进而影响工艺操作效率。另外,美国专利US公布了在蚀刻产线上设置过滤回收装置,通过粗孔和细孔过滤器的两步组合过滤法除去光刻胶,将光刻胶剥离液在产线上循环使用。 剥离液的主要成分是什么?

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剥离液使用时要注意什么?深圳铝钼铝蚀刻液剥离液
根据对华新光电、日东集团的剥离液成分进行分析得知,剥离液主要成分为单乙醇胺(MEA),二甲亚砜(DMS0)和二乙二醇单丁醚(BDG),其中市场上大部分以二乙二醇单丁醚居多。剥离液废液多呈深黑色且气味大,由以下几种组分构成:(1)、1~20%重量的醇胺或者酰胺,以伯胺和肿胺为主。(2)、10~60%重量的醇;(3)、10~50%重量的水;(4)、5~50%重量的极性有机溶剂,如;N-甲基吡咯烷酮(NMP),环丁基砜、二甲基亚砜(DMSO)、二甲基乙酰胺、N-乙基甲酰胺等。(5)、0.001~3%重量的金属抗蚀剂,如2-氨基环己醇、2-氨基环戊醇等。根据上述分析可以看出,剥离液中大部分是有机溶剂,可以加以回收资源化利用,或者将剥离废液进行脱色净化处理后再用于生产中,配成剥离液。当前国内主要产生剥离液的厂家主要分布在天津及深圳一带,均是高新技术发达区域,随着国内经济及城市的发展,剥离液产废地点将越来越***,也将引起环保**的重视及关注。剥离液主要产废厂家诸如上海和辉光电有限公司、深圳市聚飞光电股份有限公司、深圳市三利谱光电科技股份有限公司、深圳市联建光电服份有限公司、深圳成光兴光电技术股份有限公司、深圳铝钼铝蚀刻液剥离液
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