西藏激光粒度粒形分析仪

一般离心式分析仪的动态范围为40，但是CPS系统的动态范围可以超过1000。过去很多需要消耗整夜时间而且低精度的测量，现在可以使用示差沉降法快速测量，而得到高精度的结果。低噪声光源/检测头：CPS纳米粒度分析仪的光学系统和电路经过精心设计以降低信号中的噪声，信噪比通常为50000左右，低噪声使得系统具有很高的灵敏度，可检测窄峰的重量通常小于0.01微克，这使得对于微克样品的常规高精度分析变得可行。CPS系统以合理的价格提供高精度、高动态范围和高灵敏度的粒度分析解决方案。驰光机电科技有限公司技术力量雄厚，工装设备和检测仪器齐备，检验与实验手段完善。西藏激光粒度粒形分析仪

而化学机械抛光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成电路芯片的一个关键制程，国内抛光所用关键材料CMP抛光垫，几乎全部依赖进口。CMP典型的抛光浆料都是纳米级发烟硅石(5Vol%，170-230nm)、高纯硅胶(9Vol%，6-80nm)、氧化铈(6Vol%，200-240nm)或氧化铝颗粒，它们的粒度或粒度分布必须小心地进行控制以免在抛光面上产生刮痕。CMP浆料的分散稳定性和保存期也是必须被认真考虑的重要环节。这种纳米浆料的使用浓度一般在(5-30W%)，容易聚集。随着贮存时间延长，它的粒度可能增大从而导致损害的产生。西藏激光粒度粒形分析仪驰光机电科技过硬的产品质量、完善的售后服务、认真严格的企业管理，赢得客户的信誉。

CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分，其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm，其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸，因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用！欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题！

升降台式样品池送进定位及环境光遮蔽系统，使光子相关谱探测系统不只体积小，而且具有很强的抗干扰能力。高精度的测试温度控制系统：单独的循环温控槽可在2-95℃范围内任意设定，其控制精度达0.1℃。微量样品池/标准样品池：可以使用3.5ML的标准样品池外，还有适应于稀有贵重样品的0.3ML微样池。环境温度：在5-35℃的环境中，本仪器都能正常使用。纳米粒度仪样品池恒温箱及恒温DI水供应系统：有利于提高测试温度控制精度同时减少等待样品池热平衡的时间，提高仪器的实际测试精度和工作效率。山东驰光机电科技有限公司生产的产品受到用户的一致称赞。

CPS纳米粒度分析仪样本分散系统：自动液体循环、干粉分散器、粉料送样器、温度控制器、气溶胶控制器。粒度仪的较佳选择：EyeTech可以提供颗粒系统粒径、形状和浓度等方面的总体信息。具有多样化的功能，可以：监测动力学过程；提供标准的体积和数量分布的结果。激光和图像通道的结合：对球形、非球形及细长颗粒的精确定性分析；可同时测量粒径、粒形和浓度；多种模块配置可满足不同类型的干法及湿法检测需求；测量过程中可实时观察样品颗粒。驰光机电科技有限公司倾城服务，确保产品质量无后顾之忧。西藏激光粒度粒形分析仪

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如果能够对催化剂元素含量（钴、锰和溴Br）进行连续在线分析，可以更好地控制工艺，提高产品质量和增加产量。C-Quand在线EDXRF分析仪：利用 C-Quand在线EDXRF分析仪对钴、锰、溴三种催化剂进行了同时和连续的分析。所使用的技术是由X射线管激发的能量分散X射线荧光，不需要放射源。在分析过程中，连续流动过程样品中的催化剂被X射线激发，并发出其特征辐射。使用技术气体比例计数器（GPC）检测和分析这些放射X射线，并使用存储的校准曲线将其转换为结果。西藏激光粒度粒形分析仪

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