灰度光刻基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 类型
  • 双光子微纳光刻系统
  • 规格
  • QuantumX
  • 厂家
  • Nanoscribe
  • 产地
  • 德国
灰度光刻企业商机

现代光电设备在系统的复杂化与小型化得到了巨大改进。一种应用需求为使用定制的透镜阵列来准直和投射来自线性排列的边缘发射激光二极管以形成复合激光线。消费类相机和投影模块中的微型光学元件通常需要多个元件才能满足性能规格。复杂的组装对于需要组合成具有微米间距的线性阵列提出了额外的挑战。塑料模型元件可以提供特殊的曲率需求,尽管可用的折射率会导致高度弯曲的表面产生球面像差,从而抑制准直性能。硅灰度光刻技术可以在单个高折射率表面上实现复杂的透镜形状,同时还可以在多个孔之间提供精确的对准和间距。多孔径透镜阵列设计用于沿快轴准直激光,并在慢轴上提供±3°发散角。阵列中的每个元素还包含偏心和衍射项,以偏置主光线角并与发散的光锥重叠以形成连续的激光线。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司为您解析双光子灰度光刻技术。吉林超高速灰度光刻设备

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在双光子灰度光刻工艺中,激光功率调制和动态聚焦定位在高扫描速度下可实现同步进行,以便对每个扫描平面进行全体素大小控制。Nanoscribe称,QuantumX在每个扫描区域内可产生简单和复杂的光学形状,具有可变的特征高度。离散和精确的步骤,以及本质上为准连续的形貌,可以在一个步骤中完成打印,而不需要多步光刻或多块掩模制造。Quantum X支持多种类型衬底,包括透明和不透明的衬底,可用于比较大尺寸为6英寸的晶圆。Nanoscribe展示了其公司易于操作的光刻机,允许高纵横比,支持高结构,无需掩模、旋涂和预烘烤或后烘烤。高精度灰度光刻三维微纳米加工系统双光子灰度光刻(2GL ®)系统Quantum X实现了2D和2.5D微纳结构的增材制造。

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作为欧盟光子计算项目PHOENICS(2020Horizont欧盟地平线科研项目)的成员,Nanoscribe携手德国明斯特大学,与全球光子计算领域的**一起,展开了为期四年的科研项目,以实现超高宽带的高能效千兆计算处理能力,用于新一代人工智能(AI)应用的计算平台。Nanoscribe将为光子封装技术开发新的硬件和软件解决方案。各种不同光子平台都有着不同类型的光子耦合接口,而这正是光子封装系统工业化的主要困难和挑战。双光子无掩模光刻系统QuantumX作为硬件载体框架,并计划建立一个先进的平台,成为下一代光子封装技术的行业榜样。

Nanoscribe带领全球高精度微纳米3D打印 。Nanoscribe是德国高精度双光子微纳加工系统生产商,拥有多项**技术,为全球客户提供整套硬件,软件,打印材料和解决方案一站式服务。Nanoscribe是德国高精度双光子微纳加工系统生产商,拥有多项专项技术,为全球客户提供整套硬件,软件,打印材料和解决方案一站式服务。Nanoscribe的双光子聚合技术具有极高设计自由度和超高精度的特点,结合具备生物兼容特点的光敏树脂和生物材料,开发并制作真正意义上的高精度3D微纳结构,适用于生命科学领域的应用,如设计和定制微型生物医学设备的原型制作。如需了解德国Nanoscribe双光子灰度光刻技术,请咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司。

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作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统,QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版,可适用于批量生产的流水线工业程序,例如注塑,热压花和纳米压印等加工流程,从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点,同时缩短创新微纳光学器件(如衍射和折射光学器件)的整体制造时间。Nanoscribe的QuantumX打印系统非常适合DOE的制作。该系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的QuantumX打印系统可以实现一气呵成的制作,即一步打印多级衍射光学元件,并以经济高效的方法将多达4,096层的设计加工成离散的或准连续的拓扑。更多灰度光刻知识,欢迎咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司。2GL灰度光刻激光直写

Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司带您了解目前灰度光刻技术的发展现状。吉林超高速灰度光刻设备

QuantumXshape是一款真正意义上的全能机型。基于双光子聚合技术,该激光直写系统不只是快速成型制作的特别好的机型,同时适用于基于晶圆上的任何亚微米精度的2.5D及3D形状的规模化生产。QuantumXshape在3D微纳加工领域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面结构应用上突破性的双光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有赖于其高能力的体素调制比和超精细处理网格,从而实现亚体素的尺寸控制。此外,受益于双光子灰度光刻对体素的微调,该系统在表面微结构的制作上可达到超光滑,同时保持高精度的形状控制。吉林超高速灰度光刻设备

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