近几年来，增材制造在全球范围内迅速走热，各国对于增材制造技术又开始重新重视起来，美国总统奥巴马将其视作制造业回归升级的重要方向，中国也在金属增材制造领域一直处于排名在前的水平。随着技术不断的进步，增材制造已经在航空航天、模具以及汽车等领域获得大规模应用，而走在应用前列的当属美国NASA。据美国国家航空航天局（NASA）官网近日报道，NASA工程人员正通过利用增材制造技术制造头一个全尺寸铜合金火箭发动机零件以节约成本，NASA空间技术任务部负责人表示，这是航空航天领域3D打印技术应用的新里程碑。增材制造（AM）技术又称为快速原型、快速成形、快速制造、3D打印技术等，是指基于离散-堆积原理，由零件三维数据驱动直接制造零件的科学技术体系。基于不同的分类原则和理解方式，增材制造技术的内涵仍在不断深化，外延也不断扩展。增材制造技术不需要传统的刀具和夹具以及复杂的加工工序，在一台设备上可快速精密地制造出任意复杂形状的零件，从而实现了零件“自由制造”，解决了许多复杂结构零件的成形，并很大程度减少了加工工序，缩短了加工周期，而且产品结构越复杂。 走进Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司学习增材制造技术。上海德国增材制造激光直写
德国公司Nanoscribe是高精度增材制造技术的排名在前的开发商，也是 BICO集团（前身为Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D 打印机，用于制造微纳米级的精细结构。据该公司称，新的Quantum X 形状加入了该公司屡获殊荣的Quantum X产品线，其晶圆处理能力使“3D 微型零件的批量处理和小批量生产变得容易”。它有望显着提高生命科学、材料工程、微流体、微光学、微机械和微机电系统 (MEMS) 应用的精度、输出和可用性。基于双光子聚合(2PP)，一种提供比较高精度和完整设计自由度的增材制造方法和 Nanoscribe 专有的双光子灰度光刻 (2GL) 技术，Nanoscribe认为直接激光写入系统是微加工的比较好选择几乎任何 2.5D 或 3D 形状的结构，在面积达 25 cm² 的区域上都具有亚微米级精度。上海双光子聚合增材制造激光直写更多增材制造的信息，请咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司。
Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高。而利用增材制造即可简单一步实现多级衍射光学元件，可以直接作为原型使用，也可以作为批量生产母版工具。
光学和光电组件的小型化对于实现数据通信和电信以及传感和成像的应用至关重要。通过传统的微纳3D打印来制作自由曲面透镜等其他新颖设计会有分辨率不足和光学质量表面不达标的缺陷，但是利用双光子聚合原理则可以完美解决这些问题。该技术不仅可以用于在平面基板上打印微纳米部件，还可以直接在预先设计的图案和拓扑上精确地直接打印复杂结构，包括光子集成电路，光纤顶端和预制晶片等。Nanoscribe带领全球高精度微纳米3D打印。Nanoscribe是德国高精度双光子微纳加工系统生产商，拥有多项技术，为全球客户提供整套硬件，软件，打印材料和解决方案一站式服务。Nanoscribe是德国高精度双光子微纳加工系统生产商，拥有多项技术，为全球客户提供整套硬件，软件，打印材料和解决方案一站式服务。 Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司为您深度解读增材制造技术。
借助Nanoscribe的3D微纳加工技术，您可以实现亚细胞结构的三维成像，适用于细胞研究和芯片实验室应用（lab-on-a-chip）。我们的客户成功使用Nanoscribe双光子无掩模光刻系统制作了3D细胞支架来研究细胞生长、迁移和干细胞分化。此外，3D微纳加工技术还可以应用在微创手术的生物医学仪器，包括植入物，微针和微孔膜等制作。Nanoscribe的无掩模光刻系统在三维微纳制造领域是一个不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、与材料的普适性和便于操作的软件工具，在科学和工业项目中备受青睐。这种可快速打印的微结构在科研、手板定制、模具制造和小批量生产中具有广阔的应用前景。也就是说，在纳米级、微米级以及中尺度结构上，可以直接生产用于工业批量生产的聚合物母版。
Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司为您讲解3D打印增材制造技术。上海双光子聚合增材制造激光直写
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QuantumX新型超高速无掩模光刻技术的中心是Nanoscribe独有的双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺很大程度缩短了企业的设计迭代，打印样品结构既可以用作技术验证原型，也可以用作工业生产上的加工模具。另外，Nanoscribe双光子灰度光刻微纳打印系统技术要点，这项技术的关键是在高速扫描下使激光功率调制和动态聚焦定位达到精细同步，这种智能方法能够轻松控制每个扫描平面的体素大小，并在不影响速度的情况下，使得样品精密部件能具有出色的形状精度和超光滑表面。该技术将灰度光刻的出色性能与双光子聚合的精确性和灵活性*结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高级复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。 上海德国增材制造激光直写
