工业烤箱基本参数
  • 产地
  • 安徽合肥
  • 品牌
  • 合肥真萍电子科技有限公司
  • 型号
  • 齐全
  • 是否定制
工业烤箱企业商机

工业烤箱的热风循环系统有利于提高空气温度的均匀性,在工业烤箱开关箱门运送物料的过程中,温度值会受到影响发生变动,热风循环系统的均匀性则有利于在比较大快速度内恢复工作状态的温度值。工业烤箱在工作时,操作人员通过仪表和感温器来获得工业烤箱内部的温度值,在通过控制系统进行操作。工业烤箱的热风循环加热方式,与普通的散热加热方式相比,有着更好的气体流动性,能加快工业烤箱内物料的干燥速度。工业烤箱的热风循环系统由送风马达、风轮和电热器组成,送风马达带动风轮送出冷风,冷风经过电热设备加热携带热能后经风道进入工业烤箱的烘箱工作室。合肥真萍告诉您工业烤箱的应用范围。合肥小型工业烤箱

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工作原理:空气循环系统采用双电机水平循环送风方式,风循环均匀高效。风源由循环送风电机(采用无触点开关)带动风轮经由电热器,而将热风送出,再经由风道至烘箱内室,再将使用后的空气吸入风道成为风源再度循环,加热使用。确保室内温度均匀性。当因开关门动作引起温度值发生摆动,可介此送风循环系统迅速恢复操作状态温度值。老化试验箱采用国外先进的加热气流方法,解决了原转盘式的温度不均匀先天缺陷,同时提高了试样放置的安全性,有效空间利用率是原转盘式的200%以上,适用于电子元件,橡胶零部件等材料在高温下的老化适应性试验。宁波工业烤箱手柄工业烤箱怎样使用?合肥真萍告诉您。

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下面为大家简单介绍一下六腔体无尘烤箱。本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。技术指标:1无尘等级:Class100:(符合FED-STD209E标准:0.3um≤300个0.5≤100个)2温度范围:+60℃~+250℃(极限温度350℃)3温度均匀性:±2℃(空箱测试)4温度精确度:±1℃(空箱测试)5设备型号规格:450*450*450;450*600*450;600*800*600;600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;

下面为大家简单介绍一下六腔体无尘烤箱产品介绍:本产品是参照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造,广泛应用于电子液晶显示,LCD,CMOS,IC,医药实验室等生产及科研部门。技术指标:1无尘等级:Class100:(符合FED-STD209E标准:0.3um≤300个0.5≤100个)2温度范围:+60℃~+250℃(极限温度350℃)3温度均匀性:±2℃(空箱测试)4温度精确度:±1℃(空箱测试)5设备型号规格:450*450*450;450*600*450;600*800*600;600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;工业烤箱的作用是什么?合肥真萍告诉您。

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下面为大家介绍一下高温无氧固化烘箱。无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、***、船舶、电子、通讯等科研及生产单位,主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化,模压固烤、IC(晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别)、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干,电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。1、技术指标与基本配置:1.1使用温度:RT~260℃,极限温度:300℃;1.2炉膛腔数:2个,上下布置;1.3炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶:K分度1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪;2、氧含量(配氧分析仪):2.1高温状态氧含量:≤10ppm+气源氧含量;低温状态氧含量:≤20ppm+气源氧含量2.2控温稳定度:±1℃;2.3温度均匀度:±2%℃(260℃平台);合肥真萍工业烤箱的运用领域。大型工业烤箱图片

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HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。  增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。合肥小型工业烤箱

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