存储柜基本参数
  • 产地
  • 安徽合肥
  • 品牌
  • 合肥真萍电子科技有限公司
  • 型号
  • 多种型号
  • 是否定制
存储柜企业商机

精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。下面为大家介绍一下真萍科技精密鼓风烤箱的箱体结构。 1.本设备由室体、加热系统、电气控制系统、送风系统、保护系统等组成。 2.箱体采用先进设备制作、业内工艺制造流程、线条流畅,美观大方。 3.工作室材质为不锈钢SUS304材质,外箱材质为优良冷轧钢板,产品外壳采用环保金属漆喷制,整体设计美观大方,适合实验室的颜色搭配。 4.工作室内搁架可随用户的要求任意调节高度以及搁架的数量。 5.工作室与外箱之间的保温材料为优良超细玻璃纤维保温棉,保温层厚度:>70mm, 隔温效果好,国内**,高性能的绝缘结构。从里到外有内腔、内壳、超细玻璃纤维、铝制反射铝箔片、空气夹层,内胆热量损失少。内胆外箱及门胆结构独特,极大减少了内腔热量的外传。合肥真萍告诉您如何正确使用存储柜?浙江存储柜批发

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精密鼓风烘箱适用于电子元器件、橡胶、塑料、装饰材料等行业对温度均匀性要求比较严格的实验。真萍科技作为精密鼓风烤箱的优良原厂厂家,设备都是自主生产销售,质量可靠,品质保证,欢迎来电咨询。大家对精密鼓风烘箱有没有些许了解呢,下面小编就带大家走近精密鼓风烘箱,为大家介绍一下真萍科技精密鼓风烤箱的参数。技术参数:1.型号:CB-9023A2.产品类型:液晶显示3.电源电压:AC220V±10%/50Hz±2%4.控温范围:室温+10℃-200℃5.温度分辨率:0.1℃6.温度波动度:≤±0.2℃7.温度均匀度:≤±1.5%8.输入功率:500W9.工作室尺寸(mm):300(宽)*300(深)*270(高)10.载物托架:2块11.定时范围:0-9999分钟连云港不锈钢存储柜存储柜的特点是什么?合肥真萍告诉您。

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恒温恒湿箱试验箱是航空、汽车、家电、科研等领域必备的检测设备,用于测试电子、电工及其它产品及材料进行高温、低温、交变湿热度或恒定试验的温度环境变化参数及性能。该系列产品适用于航空航天产品、信息电子仪器仪表、材料、电工、电子产品、各种电子元气件在高低温或湿热环境下、检验其各项性能指标。下面为大家介绍一下真萍科技的恒温恒湿试验箱的控制特点。试验箱的控制系统可说是整个设备的心脏,掌管着制冷、制热、控湿、循环、控制等大权。在制冷方面,压缩机是采用德国进口的压缩机。制冷系统由高温部分和低温部分组成,每一部分是一个相对单独的制冷系统。高温部分中制冷剂的蒸发吸收来自低温部分的制冷剂的热量而汽化;低温部分制冷剂的蒸发则从被冷却的对象(试验机内的空气)吸热以获取冷量。高温部分和低温部分之间是用一个蒸发冷凝器联系起来,它既是高温部分的冷凝器,也是低温部分的冷凝器。加热系统采用完全单独的镍铬合金电加热式,电阻率大、电阻温度系数小,在高温下变形小且不易脆化,自身加热温度可达1000~1500℃,使用寿命长。

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的氮气监控系统。1.2.3寸LED大屏幕数字显示湿度/温度。2.温湿度显示值0.1%-99.9%RH,温度显示值0.1℃-60.0℃。3.温湿度收集采准确传感器,长距离传输无误差。4.湿度控制:4.1利用湿度设定值来控制氮气流入,到达湿度设定值即停止进气,节省氮气耗用。4.2湿度在1%-60%RH可调整。上海哪家的存储柜比较好?

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真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的过滤系统。1.EBM电子式EC马达控制无尘室FFU。2.镜面不锈钢结构体。3.特殊导流风道设计,风压平均,可有效提供风量,降低噪音。4.电路板控制模块,提供安全保护装置,运转异常指示灯及控制干接点输出。5.无段式风量调速器可任意调整风量大小。6.滤网ULPA,0.12μm,99.9995%以上的过滤效果。7.电力规格:单相220V50Hz0.95A,输出功率150W。使用存储柜前的检查步骤。安徽存储柜维修

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本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱,首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。   增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。浙江存储柜批发

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