2）共聚焦显微镜方法
共聚焦显微镜包括LED光源、旋转多***盘、带有压电驱动器的物镜和CCD相机。LED光源通过多***盘（MPD）和物镜聚焦到样品表面上，从而反射光。反射光通过MPD的***减小到聚焦的部分落在CCD相机上。传统光学显微镜的图像包含清晰和模糊的细节，但是在共焦图像中，通过多***盘的操作滤除模糊细节（未聚焦），只有来自聚焦平面的光到达CCD相机。因此，共聚焦显微镜能够在纳米范围内获得高 分辨率。 每个共焦图像是通过样品的形貌的水平切片，在不同的焦点高度捕获图像产生这样的图像的堆叠，共焦显微镜通过压电驱动器和物镜的精确垂直位移来实现。200到400个共焦图像通常在几秒内被捕获，之后软件从共焦图像的堆栈重建精确的三维高度图像。 轮廓仪在晶圆的IC封装中的应用。晶圆片轮廓仪联系电话
轮廓仪的主要客户群体
300mm集成电路技术封装生产线检测
集成电路工艺技术研发和产业化
国家重点实验室
高 效太阳能电池技术研发、产业化
MEMS技术研发和产业化
新型显示技术研发、产业化
超高精密表面工程技术
轮廓仪是一种两坐标测量仪器，仪器传感器相对被测工件表而作匀速滑行，传感器的触针感受到被测表而的几何变化，在X和Z方向分别采样，并转换成电信号，该电信号经放大和处理，再转换成数字信号储存在计算机系统的存储器中，计算机对原始表而轮廓进行数字滤波，分离掉表而粗糙度成分后再进行计算，测量结果为计算出的符介某种曲线的实际值及其离基准点的坐标，或放大的实际轮廓曲线，测量结果通过显示器输出，也可由打印机输出。（来自网络） 晶圆片轮廓仪联系电话NanoX-8000的VSI/CSI：垂直分辨率 < 0.5nm ；准确度<1% ；重复性<0.1% (1σ，10um台阶高)。
满足您需求的轮廓仪
使用范围广: 兼容多种测量和观察需求
保护性: 非接触式光学轮廓仪
耐用性更强， 使用无损
可操作性:一键式操作，操作更简单，更方便
智能性:特殊形状能够只能计算特征参数
个性化: 定制化客户报告模式
更好用户体验： 迅捷的售后服务，个性化应用软件支持
1.精度高,寿命长---采用超高精度气浮导轨作为直线测量基准，具有稳定性好、承载大、永不磨损等优点，达到国内同类产品较高精度。 2.高精度光栅尺及进口采集卡---保证数据采样分辨率，准确度高，稳定性好。（网络）
我们应该如何正确使用轮廓仪？
一、准备工作
1.测量前准备。
2.开启电脑、打开机器电源开关、检查机器启动是否正常。
3.擦净工件被测表面。
二、测量
1.将测针正确、平稳、可靠地移动在工件被测表面上。
2.工件固定确认工件不会出现松动或者其它因素导致测针与工件相撞的情况出现
3.在仪器上设置所需的测量条件。
4.开始测量。测量过程中不可触摸工件更不可人为震动桌子的情况产生。
5.测量完毕，根据图纸对结果进行分析，标出结果，并保存、打印。
物镜是轮廓仪最核 心的部件， 物镜的选择根据功能和检测的精度提出需求。
关于三坐标测量轮廓度及粗糙度
三坐标测量机是不能测量粗糙度的，至于测量零件的表面轮廓 ，要视三坐标的测量精度及零件表面轮廓度的要求了，如果你的三坐标测量机精度比较高，但零件轮廓度要求不可，是可以用三坐标来代替的。一般三坐标精度都在2-3um左右，而轮廓仪都在2um以内，还有就是三坐标可以测量大尺寸零件的轮廓，因为它有龙门式三坐标和关节臂三坐标，而轮廓仪主要是用来测量一些小的精密零件轮廓尺寸的，加上粗糙度模块也可以测量粗糙度。 表面三位微观形貌的此类昂方法非常丰富，通常可分为接触时和非接触时两种，其中以非接触式测量方法为主。半导体设备轮廓仪国内代理
传统光学显微镜的图像包含清晰和模糊的细节.晶圆片轮廓仪联系电话
白光干涉轮廓仪对比激光共聚焦轮廓仪
白光干涉3D显微镜：
干涉面成像，
多层垂直扫描
最 好高度测量精度：< 1nm
高度精度不受物镜影响
性价比好
激光共聚焦3D显微镜：
点扫描合成面成像，
多层垂直扫描
Keyence（日本）
最 好高度测量精度：～10nm
高度精度由物镜决定，1um精度@10倍
90万-130万
三维光学轮廓仪采用白光轴向色差原理（性能优于白光干涉轮廓仪与激光干涉轮廓仪）对样品表面进行快速、重复性高、高 分辨率的三维测量，测量范围可从纳米级粗糙度到毫米级的表面形貌，台阶高度，给MEMS、半导体材料、太阳能电池、医疗工程、制药、生物材料，光学元件、陶瓷和先进材料的研发和生产提供了一个精确的、价格合理的计量方案。（来自网络） 晶圆片轮廓仪联系电话
